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전처리 공정 유닛(100) 및 메인 공정 유닛(200)으로 이루어진 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템에 있어서, 메인 공정 유닛(200)의 운영 부담을 저감시키도록 반도체 폐수 내의 입자성 묻질, 유기물, 총유기탄소(TOC) 및 수산화트리메틸암모늄(TMAH)을 제거하여 1차 처리수를 생산하는 전처리 공정 유닛(100); 및상기 전처리 공정 유닛(100)의 후단에 연결되고, 상기 전처리 공정 유닛(100)에서 생산된 1차 처리수 내의 무기성 묻질, 유기물, 암모니아성 질소(NH3-N), 이산화규소(SiO2) 및 요소(Urea)를 제거하여 재이용 처리수를 생산하는 메인 공정 유닛(200)을 포함하되, 상기 전처리 공정 유닛(100)은, 자동 여과기로서 상기 반도체 폐수 내의 입자상 물질을 제거하는 오토스트레이너(110); 상기 오토스트레이너(110)의 후단에 연결되고, 응집제를 주입하여 입자상 물질들의 플록(Floc)을 형성하는 응집 모듈(120); 상기 응집 모듈(120)의 후단에 연결되고, 상기 응집 모듈(120)에서 형성된 플록을 제거하는 이중여과필터(DMF) 모듈(130); 및 상기 오토스트레이너(110) 및 이중여과필터(DMF) 모듈(130)에서 제거되지 않는 수용성 유기물질과 반응하여 제거하고, 전처리 공정의 1차 처리수를 생산하는 고도산화공정(AOP) 모듈(140)을 포함하며; 그리고상기 메인 공정 유닛(200)은, 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)에서 생산된 1차 처리수 내의 유기물질을 제거하도록 2단 역삼투 모듈(220)의 전단에 설치되는 세라믹필터 모듈(210); 및 고순도 공업용수 기준 및 재이용수 수질 기준을 만족시키도록 역삼투 공정을 수행하여 재이용 처리수를 생산하는 2단 역삼투 모듈(220)을 포함하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제1항에 있어서, 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)은 산화력 향상을 통하여 유기물과 총유기탄소(TOC)의 제거율을 증가시키는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제1항에 있어서, 상기 세라믹필터 모듈(210)은 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)의 산화제에 의해 상기 2단 역삼투 모듈(220)의 분리막을 손상시키는 것을 방지하도록 세라믹 계열의 분리막을 적용하는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제3항에 있어서, 상기 세라믹필터 모듈(210)은 상기 2단 역삼투 모듈(220)의 운전 부하를 저감시키도록 한외여과 세라믹 분리막을 적용하는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제3항에 있어서, 상기 2단 역삼투 모듈(220)은 재이용수 생산을 위한 회수율을 증대시키도록 제1 역삼투 모듈(220a) 및 제2 역삼투 모듈(220b)이 연결되어 2단 역삼투 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제5항에 있어서, 상기 제1 역삼투 모듈(220a) 및 제2 역삼투 모듈(220b)은 각각 나선(Spiral wound)형, 중공사(Hollow fiber)형, 판(Plate Flame)형 또는 관(Tubular)형 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제1항에 있어서, 상기 재이용 처리수는 미량오염물질로서 1ppm 이하의 총유기탄소(TOC), 0
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제7항에 있어서, 상기 수산화테트라메틸암모늄(TMAH)는 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)의 고도산화 공정을 통해 폼알데하이드(HCOH)와 암모니아(NH3)로 분해되어 제거되며; 상기 요소(Urea)는 저분자량의 비이온으로서 상기 2단 역삼투 모듈(220)을 통해 제거되는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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제1항에 있어서, 상기 응집 모듈(120)의 응집제는 폴리알루미늄 클로라이드(Poly Aluminum Chloride: PAC), 수산화나트륨(NaOH) 및 음이온 폴리머(Anion-polymer)를 혼합 사용하여 작은 입자상 물질들의 플록(Floc)을 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 시스템
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전처리 공정 유닛(100) 및 메인 공정 유닛(200)에 따라 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 방법에 있어서, a) 반도체 폐수 처리수를 원수로 공급하는 단계;b) 상기 반도체 폐수 내의 입자상 물질을 제거하도록 전처리 공정 유닛(100)의 오토스트레이너(110)에서 오토스트레이너 공정을 실시하는 단계;c) 상기 오토스트레이너(110)의 후단에 연결된 전처리 공정 유닛(100)의 응집 모듈(120)에서 응집제를 주입하여 입자상 물질들의 플록(Floc)을 형성하는 응집 공정을 실시하는 단계;d) 상기 응집 모듈(120)의 후단에 연결된 전처리 공정 유닛(100)의 이중여과필터(DMF) 모듈(230)에서 상기 응집 모듈(120)에서 형성된 플록을 제거하는 이중여과필터 공정을 실시하는 단계;e) 상기 오토스트레이너(110) 및 이중여과필터(DMF) 모듈(130)에서 제거되지 않는 수용성 유기물질과 반응하여 제거하도록, 상기 전처리 공정 유닛(100)의 고도산화공정(AOP) 모듈(140)에서 전처리 공정의 1차 처리수를 생산하는 고도산화공정을 실시하는 단계;f) 2단 역삼투 모듈(220)의 전단에 설치되는 메인 공정 유닛(200)의 세라믹필터 모듈(210)에서 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)에서 생산된 1차 처리수 내의 유기물질을 제거하는 세라믹필터 공정을 실시하는 단계;g) 상기 메인 공정 유닛(200)의 2단 역삼투 모듈(220)에서 고순도 공업용수 기준 및 재이용수 수질 기준을 만족시키도록 역삼투 공정을 수행하여 재이용 처리수를 생산하는 역삼투 공정을 실시하는 단계; 및h) 상기 2단 역삼투 모듈(220)에서 재이용 처리수를 공업용수로 공급하여 재활용하는 단계를 포함하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 방법
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제10항에 있어서, 상기 e) 단계의 고도산화공정(AOP) 모듈(140)은 0
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제10항에 있어서, 상기 f) 단계의 세라믹필터 모듈(210)은 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)의 산화제에 의해 상기 2단 역삼투 모듈(220)의 분리막을 손상시키는 것을 방지하도록 세라믹 계열의 분리막을 적용하는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 방법
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제12항에 있어서, 상기 f) 단계의 세라믹필터 모듈(210)은 상기 2단 역삼투 모듈(220)의 운전 부하를 저감시키도록 한외여과 세라믹 분리막을 적용하는 3
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제10항에 있어서, 상기 g) 단계의 2단 역삼투 모듈(220)은 재이용수 생산을 위한 회수율을 증대시키도록 제1 역삼투 모듈(220a) 및 제2 역삼투 모듈(220b)이 연결되어 2단 역삼투 공정을 수행하고, 6 bar의 압력 및 1
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제14항에 있어서, 상기 제1 역삼투 모듈(220a) 및 제2 역삼투 모듈(220b)은 각각 나선(Spiral wound)형, 중공사(Hollow fiber)형, 판(Plate Flame)형 또는 관(Tubular)형 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 방법
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제10항에 있어서, 상기 재이용 처리수는 미량오염물질로서 1ppm 이하의 총유기탄소(TOC), 0
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제16항에 있어서, 상기 수산화테트라메틸암모늄(TMAH)는 상기 고도산화공정(AOP) 모듈(140)의 고도산화 공정을 통해 폼알데하이드(HCOH)와 암모니아(NH3)로 분해되어 제거되며; 상기 요소(Urea)는 저분자량의 비이온으로서 상기 2단 역삼투 모듈(220)을 통해 제거되는 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 방법
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제10항에 있어서, 상기 응집 모듈(120)의 응집제는 폴리알루미늄 클로라이드(Poly Aluminum Chloride: PAC), 수산화나트륨(NaOH) 및 음이온 폴리머(Anion-polymer)를 혼합 사용하여 작은 입자상 물질들의 플록(Floc)을 형성하며, 응집 농도는 2ppm이고, 교반에 필요한 체류시간은 2분인 것을 특징으로 하는 반도체 폐수의 재이용 처리수 생산 방법
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