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알킬기의 탄소(C)가 불소(F)로 포화된 퍼플루오르알킬 물질(PFAS, Perfluoroalkyl substances)과 알킬기의 탄소(C) 중 일부가 불소(F)로 치환되지 않고 수소(H)로 남아있는 플루오로텔로머 물질(Fluorotelomer substances)를 포함하는 과불화화합물이 포함된 피처리수를 유입하는 피처리수 유입관과;상기 피처리수 유입관에 연결되고, 내부에 제1진공 자외선 램프가 구비되어, 진공 자외선을 이용하여 상기 과불화화합물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는 고도 산화 처리 반응이 이루어지는 제1산화 처리관과;상기 제1산화 처리관에 직렬로 연결되고, 내부에 제2진공 자외선 램프가 구비되어, 진공 자외선과 환원제를 이용하여 상기 제1산화 처리관에서 분해되지 않고 나온 과불화화합물 내 탄소(C)와 불소(F)의 결합을 끊어 분해시키는 고도 환원 처리 반응이 이루어지는 제2환원 처리관과;상기 제2환원 처리관에 직렬로 연결되고, 내부에 제3진공 자외선 램프가 구비되어, 진공 자외선과 산화제를 이용하여 상기 제2환원 처리관에서 분해되지 않고 나온 과불화화합물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는 제3산화 처리관을 포함하는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제1산화 처리관에서는,상기 제1진공 자외선 램프에서 발생된 진공 자외선이 물을 광분해하여 OH 라디칼을 생성하고,상기 OH 라디칼은 상기 과불화화합물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 1에 있어서,상기 환원제는, 아황산염(Sulfite)을 포함하고,상기 제2환원 처리관에서는,상기 제2진공 자외선 램프에서 발생된 진공 자외선이 상기 아황산염을 광분해시켜 수화 전자를 발생시키고,상기 수화 전자는 상기 제1산화 처리관의 고도 산화 처리 반응에서 분해되지 않은 과불화화합물 내 탄소(C)와 불소(F)의 결합과, 상기 고도 산화 처리 반응에서 추가 생성된 제1분해 산물 내 탄소(C)와 불소(F)의 결합을 끊어 탈불화시키는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 1에 있어서,상기 산화제는, 과산화수소를 포함하고,상기 제3산화 처리관에서는,상기 제3진공 자외선 램프에서 발생된 진공 자외선이 과산화수소를 분해하여 OH 라디칼을 생성하고, 상기 OH 라디칼은 상기 제2환원 처리관의 고도 환원 처리 반응에서 불소(F)가 수소(H)로 치환되어 추가 생성된 제2분해 산물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제1산화 처리관과 상기 제2환원 처리관 사이를 연결하는 제1연결관과,상기 제1연결관에 상기 환원제를 주입하기 위한 환원제 주입부를 더 포함하는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 5에 있어서,상기 제1연결관에는 피처리수의 pH를 조절하기 위한 pH 조정제와, 피처리수의 용존 산소를 제거하기 위한 질소를 주입되는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제2환원 처리관과 상기 제3산화 처리관 사이를 연결하는 제2연결관과,상기 제2연결관에 상기 산화제를 주입하기 위한 산화제 주입부를 더 포함하는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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8
청구항 1에 있어서,상기 제3산화 처리관의 배출구에 연결되어, 상기 제3산화 처리관에서 수처리되고 나온 처리수를 외부로 방류하기 위한 방류관과,상기 방류관에 구비되어 처리수의 수질을 측정하는 수질 측정기를 더 포함하는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 8에 있어서,상기 방류관에서 분기되어 상기 피처리수 유입관에 연결되어, 상기 수질 측정기에서 측정된 수질이 미리 설정된 기준을 초과하면 상기 방류관으로 배출되는 처리수 중 일부를 상기 피처리수 유입관으로 회수하기 위한 환수관과,상기 환수관을 개폐하는 환수관 밸브를 더 포함하는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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청구항 9에 있어서,상기 환원제는, 아황산염(Sulfite)을 포함하고,상기 산화제는, 과산화수소를 포함하고,상기 수질 측정기는, 상기 처리수 내 불소 이온, 과산화수소 농도, 아황산 이온 농도를 측정하는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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알킬기의 탄소(C)가 불소(F)로 포화된 퍼플루오르알킬 물질(PFAS, Perfluoroalkyl substances)과 알킬기의 탄소(C) 중 일부가 불소(F)로 치환되지 않고 수소(H)로 남아있는 플루오로텔로머(Fluorotelomer) 중 적어도 하나를 포함하는 과불화화합물이 포함된 피처리수를 유입하는 피처리수 유입관과;상기 피처리수 유입관에 연결되고, 내부에 제1진공 자외선 램프가 구비되어, 진공 자외선을 이용하여 상기 과불화화합물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는 고도 산화 처리 반응이 이루어지는 제1산화 처리관과;상기 제1산화 처리관에 직렬로 연결되고, 내부에 제2진공 자외선 램프가 구비되어, 진공 자외선과 환원제를 이용하여 상기 제1산화 처리관에서 분해되지 않고 나온 과불화화합물 내 탄소(C)와 불소(F)의 결합을 끊어 탈불화시키는 고도 환원 처리 반응이 이루어지는 제2환원 처리관과;상기 제2환원 처리관에 직렬로 연결되고, 내부에 제3진공 자외선 램프가 구비되어, 진공 자외선과 산화제를 이용하여 상기 제2환원 처리관에서 분해되지 않고 나온 과불화화합물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는 제3산화 처리관과;상기 제1산화 처리관과 상기 제2환원 처리관 사이를 연결하는 제1연결관과,상기 제1연결관에 상기 환원제를 주입하는 환원제 주입부와;상기 제2환원 처리관과 상기 제3산화 처리관 사이를 연결하는 제2연결관과;상기 제2연결관에 상기 산화제를 주입하는 산화제 주입부를 포함하고,상기 환원제는, 아황산염(Sulfite)을 포함하고,상기 산화제는, 과산화수소를 포함하고,상기 제1산화 처리관에서는, 상기 제1진공 자외선 램프에서 발생된 진공 자외선이 물을 광분해하여 OH 라디칼을 생성하고, 상기 OH 라디칼은 상기 과불화화합물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키고, 상기 제2환원 처리관에서는, 상기 제2진공 자외선 램프에서 발생된 진공 자외선이 상기 아황산염을 광분해시켜 수화 전자를 발생시키고, 상기 수화 전자는 상기 제1산화 처리관의 고도 산화 처리 반응에서 분해되지 않은 과불화화합물 내 탄소(C)와 불소(F)의 결합과, 상기 고도 산화 처리 반응에서 추가 생성된 제1분해 산물 내 탄소(C)와 불소(F)의 결합을 끊어 탈불화시키고,상기 제3산화 처리관에서는, 상기 제3진공 자외선 램프에서 발생된 진공 자외선이 과산화수소를 분해하여 OH 라디칼을 생성하고, 상기 OH 라디칼은 상기 고도 환원 처리 반응에서 불소(F)가 수소(H)로 치환되어 추가 생성된 제2분해 산물 내 탄소(C)와 수소(H)의 결합을 끊어 분해시키는,진공 자외선 기반 과불화화합물 분해 수처리 장치
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