맞춤기술찾기

이전대상기술

수지상 리튬의 성장 억제용 애노드 집전체 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2023006308
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 리튬금속전지에 사용되는 집전체로서, 도전성 박막; 및 상기 도전성 박막 상에 형성된 금속의 도트 패턴(dot pattern)을 포함하는 리튬금속전지용 집전체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01M 4/70 (2006.01.01) H01M 4/66 (2006.01.01) H01M 10/052 (2010.01.01)
CPC H01M 4/70(2013.01) H01M 4/662(2013.01) H01M 4/667(2013.01) H01M 4/668(2013.01) H01M 10/052(2013.01) Y02E 60/10(2013.01)
출원번호/일자 1020220020391 (2022.02.16)
출원인 한국화학연구원, 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0123342 (2023.08.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 발송처리완료
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.16)
심사청구항수 17

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정희태 대전광역시 유성구
2 석정돈 대전광역시 유성구
3 우미혜 대전광역시 유성구
4 김도엽 대전광역시 유성구
5 김세희 대전광역시 유성구
6 정우빈 대전광역시 유성구
7 김민기 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인태평양 대한민국 서울특별시 중구 청계천로 **, *층(다동, 예금보험공사빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2022-0175846-10
2 직권정정안내서
Notification of Ex officio Correction
2022.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2022-0029175-39
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2023-5023571-05
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.02.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2023-5110236-33
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
리튬금속전지에 사용되는 집전체로서,도전성 박막; 및상기 도전성 박막 상에 형성된 금속의 도트 패턴(dot pattern)을 포함하는 리튬금속전지용 집전체
2 2
청구항 1에 있어서,상기 금속 도트 패턴에서의 각 도트는 평균 직경이 250 내지 450nm, 평균 높이가 30 내지 80nm인 리튬금속전지용 집전체
3 3
청구항 1에 있어서,상기 금속 도트 패턴에서의 인접한 두 개의 도트는 각 도트의 중심간의 평균 거리로서 0
4 4
청구항 1에 있어서,상기 도전성 박막은 구리, 니켈, 알루미늄, 티타늄 및 이들의 합금체로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 리튬금속전지용 집전체
5 5
청구항 1에 있어서,상기 금속 도트 패턴에서의 금속은 금, 은, 주석, 아연, 마그네슘, 인듐, 갈륨 및 이들의 합금체로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체
6 6
(ⅰ) 제1 기재상에 형성된 제1 금속층 상에 제1 고분자 함유층을 형성하는 단계;(ⅱ) 음각의 도트 패턴을 갖는 제2 고분자 함유 몰드를 이용하여 상기 제1 고분자 함유층에 상기 음각의 도트 패턴에 대응되는 양각의 도트 패턴을 형성하는 단계;(ⅲ) 상기 제1 고분자 함유층 유래의 양각의 도트 패턴으로 피복되지 않고 노출되어 있는 상기 제1 금속층의 부분을 식각하는 단계;(ⅳ) 상기 양각의 도트 패턴으로 피복되어 있는 제1 고분자 함유층의 부분을 제거하여서, 제1 기재 상에 제1 금속의 도트 패턴을 형성하는 단계;(ⅴ) 상기 제1 금속의 도트 패턴 측에 제3 고분자 함유층을 형성하고 제1 기재를 제거하여서, 상기 제1 금속의 도트 패턴이 표면 측에 삽입되어 있는 제3 고분자 함유층을 형성하는 단계;(ⅵ) 상기 제3 고분자 함유층의 상기 제1 금속의 도트 패턴 측에, 제2 금속층이 형성된 도전성 박막을 배치하는 단계; (ⅶ) 상기 제3 고분자 함유층을 제거하여서, 상기 도전성 박막 상의 제2 금속층 상에 제1 금속의 도트 패턴을 전사하는 단계; 및 (ⅷ) 상기 도전성 박막 상의 제2 금속층을 식각하여, 제1 금속의 도트 패턴이 형성된 도전성 박막을 수득하는 단계;를 포함하는 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
7 7
청구항 6에 있어서,상기 제1 기재는 실리콘 또는 실리콘 산화물을 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
8 8
청구항 6에 있어서,상기 제1 고분자는 폴리스티렌(polystyrene,PS), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리프로필렌(polypropylene, PP), 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA)로 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
9 9
청구항 6에 있어서,상기 제2 고분자는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)을 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
10 10
청구항 6에 있어서,상기 제3 고분자는 폴리스티렌(polystyrene,PS), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리프로필렌(polypropylene, PP), 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA)로 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
11 11
청구항 6에 있어서,상기 도전성 박막은 구리, 니켈, 알루미늄, 티타늄 및 이들의 합금체로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
12 12
청구항 6에 있어서,상기 (ⅱ) 단계는, 음각의 도트 패턴을 갖는 제2 고분자 함유 몰드를 상기 제1 고분자 함유층에 배치하고 120℃ 이상의 온도에서 열처리를 하여서 수행되는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
13 13
청구항 6에 있어서,상기 (ⅲ) 단계 및 (ⅷ) 단계에서의 금속의 식각은 이온 식각 공정을 통해 수행되는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
14 14
청구항 6에 있어서,상기 금속 도트 패턴에서의 금속은 금, 은, 주석, 아연 및 이들의 합금체로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
15 15
청구항 6에 있어서,상기 금속 도트 패턴에서의 각각의 도트는 평균 직경이 250 내지 450nm, 평균 높이가 30 내지 80nm인 리튬금속전지용 집전체의 제조방법
16 16
청구항 6에 있어서,상기 금속 도트 패턴에서의 인접한 두 개의 도트는 각 도트의 중심간의 평균 거리로서 0
17 17
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항의 리튬금속전지용 집전체를 포함하는 리튬금속전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국화학연구원 나노·소재기술개발(R&D) 차세대 이차전지용 일체형 유무기 전해질/분리막 개발
2 과학기술정보통신부 한국화학연구원 한국화학연구원연구운영비지원(R&D) 독립형(Off-grid) 에너지 변환·저장 융합소재 기술
3 과학기술정보통신부 한국과학기술원 연구산업육성 패터닝 기법을 활용한 박막형 방열 소재 개발