1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 나노 박막:[화학식 1]상기 식에서 는 바이페닐, 디페닐아민 또는 카바졸이고,R1 및 R2는, 서로 같거나 다르고 각각 독립적으로, 수소, -NR'R'', 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시기이며, 여기서 R' 및 R''는, 서로 같거나 다르고 각각 독립적으로, 수소 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기는 치환 또는 비치환된 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기이고,상기 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시기는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 또는 부톡시기인 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
3 |
3
제1항에 있어서, 상기 -NR'R''은 아미노기인 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3인 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
5 |
5
제1항에 있어서, 상기 나노 박막은 1 종 이상의 나노 소재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
6 |
6
제5항에 있어서, 상기 나노 박막은 화학식 1로 표시되는 화합물과 1 종 이상의 나노 소재를 1 : 0
|
7 |
7
제5항에 있어서, 상기 나노 소재는 나노와이어, 나노입자, 나노튜브, 나노섬유, 및 나노로드로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
8 |
8
제1항에 있어서, 상기 나노 박막은 20 내지 300℃의 온도로 열처리된 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
9 |
9
제1항에 있어서, 상기 나노 박막은 투명한 박막인 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
10 |
10
제1항에 있어서, 상기 나노 박막은 전기소자, 자기소자, 광학소자 및 센서소자 중에서 선택되는 1종 이상의 소자에 사용되는 것을 특징으로 하는 나노 박막
|
11 |
11
하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 분산액 또는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물과 1종 이상의 나노소재를 포함하는 분산액을 기판 상에 코팅하는 단계; 및상기 코팅된 기판을 열처리 하는 단계;를 포함하는, 나노 박막의 제조 방법:[화학식 1]상기 식에서 는 바이페닐, 디페닐아민 또는 카바졸이고,R1 및 R2는, 서로 같거나 다르고 각각 독립적으로, 수소, -NR'R'', 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시기이며, 여기서 R' 및 R''는, 서로 같거나 다르고 각각 독립적으로, 수소 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다
|
12 |
12
제11항에 있어서, 상기 열처리 단계에서 열처리 온도는 20 내지 300℃인 특징으로 하는 나노 박막의 제조 방법
|
13 |
13
제1항의 나노 박막, 및 상기 나노 박막의 상부면 또는 하부면에 형성된 무기 박막을 포함하는 복합 나노 박막
|
14 |
14
제13항에 있어서,상기 무기 박막은 산화물 및 질화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합 나노 박막
|