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IPC분류
반도체 후면 세정용 메가소닉 시스템
도입희망 기술개요
- 관리번호
- : 298842-20190001
- 담당센터(부서)
- : 대전혁신센터
- 담당팀
- : 기술혁신1팀
- 전화번호
- : 042-610-2273
| 기술명 | 반도체 후면 세정용 메가소닉 시스템 | ||
|---|---|---|---|
| 업종분류 | (29271) 반도체 제조용 기계 제조업 | 기술분류 | (ED0207) 세정장비 |
| IPC 코드 | (H01L-21/302) 반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치(측정에 반도체 장치를 사용 G01; 저항 일반 H01C; 자석, 인덕터, 변성기 H01F; 컨덴서 일반 H01G; 전해장치 H01G 9/00; 전지, 축전지 H01M; 도파관, 도파관형의 공진기 또는 선로 H01P; 전선접속기, 집전장치 H01R; 유도방출 소자 H01S; 전기기계적 공진기 H03H; 확성기, 마이크로폰, 축음기의 픽엎 또는 음향의 전기기계적 변환기 H04R; 전기적 광 | ||
| 핵심키워드 | 노즐,세정 | ||
| 핵심키워드 (영문) | nozzle,cleaning | ||
| 기술개요 |
- 반도체 기판에서의 파티클 등 오염물을 제거하는 세정 장비는 주로 전면세정에 집중되고 있으나, 후면 세정의 중요성이 증가하고 있음
- 기존 후면 세정은 케미컬 사용만으로 진행되었으며, 메가소닉을 적용할 경우 세정효율이 증가할 것으로 기대됨 - 메가소닉을 적용할 경우 장비 구조에 따른 신규개발이 필요함 |
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| 도입희망 금액 | ***** 원 | 자체부담 가능금액 | ***** 원 |
도입희망 상세내용
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도입기술의 요구성능 |
***** | ||
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| 활용분야 | ***** | ||
| 사업화 계획 | ***** | ||
| 도입희망 유형 | ***** | ||
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도입희망기술 관련제품 |
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도입희망기술 영위기업 |
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