플라즈마 이온, 전자밀도 측정 방법과 이를 이용한 플라즈마 균일도 진단 기술
기술명 | 플라즈마 이온, 전자밀도 측정 방법과 이를 이용한 플라즈마 균일도 진단 기술 | ||
---|---|---|---|
업종분류 | (27213) 물질 검사, 측정 및 분석기구 제조업 | 기술분류 | (ED0209) 측정/검사장비 |
IPC 코드 | (G01N-21/00) 재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석(면역분석 이외의 효소 또는 미생물을 포함하는 측정 또는 시험 방법 C12M, C12Q) | ||
핵심키워드 | 플라즈마,계측장비 | ||
핵심키워드 (영문) | Plasma,Measuring Equipment | ||
기술개요 |
- 최근 디스플레이 시장은 전 세계적으로 약 1570억 달러의 거대한 규모를 차지하고 있으며 2030년까지 연간 약 7.35%의 성장세를 보일 것이라 전망됨.
- 디스플레이 제조 공정은 패널 사이즈의 대면적화와 심화에 따라 공정의 난이도가 증가하고 있으며, 특히, 패널 균일성과 직접적으로 연관된 플라즈마 공정에서의 균일도 확보 기술의 난도가 매우 높음. - 관련 공정들의 이론적 해석의 난항으로 시행착오에 의한 데이터 수집 또는 기술자들의 경험으로 공정개발이 이루어지고 있는 상황임. - 8세대 마더글라스에 멀티모드 글래스(MMG) 기술을 도입할 경우 65인치 패널 3장, 55인치 패널 2장을 생산해 면취율을 최대 98%까지 생산성 증가 -> 버려지는 부분에서 55인치 패널을 추가적으로 더 얻어내 50-60%에 불가한 면취율을 최대 98%까지 증가 가능 - 디스플레이 주요 제조 공정인 증착 및 식각 공정은 플라즈마 공정으로 공정 중 방출되는 광 스펙트럼을 분석하는 광방출 분광분석법(OES)을 통하여 공정 상태 및 이상현상 진단이 가능함 - 6세대 이상급 대면적 디스플레이 제조용 플라즈마 챔버에서 공간적으로 발생하는 이상현상을 진단하기 위하여 플라즈마 균일도 진단 기술의 도입이 시급하여 이를 위하여 비접촉식 진단 방법인 OES를 활용한 플라즈마 이온 및 전자밀도 측정 방법과 이를 사용한 플라즈마 균일도 진단 기술의 도입이 필요함. 대표적으로 OES를 이용한 단층 이미지 재구성 기술(CT 알고리즘) 등이 해당됨. |
||
도입희망 금액 | ***** 원 | 자체부담 가능금액 | ***** 원 |
도입기술의 요구성능 |
***** | ||
---|---|---|---|
활용분야 | ***** | ||
사업화 계획 | ***** | ||
도입희망 유형 | ***** | ||
도입희망기술 관련제품 |
***** |
도입희망기술 영위기업 |
***** |