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기판 위에 형성된
제1 전극,
상기 제1 전극과 마주하는 제2 전극, 및
상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 위치하는 발광층을 포함하는 인광 유기발광다이오드이고,
상기 발광층의 각각은 정공전달성 발광호스트, 혼합 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트로 이루어진 발광 호스트를 포함하되, 상기 발광 호스트는 상기 정공전달성 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트 사이에 이들 호스트가 혼합된 혼합 발광호스트가 위치하는 샌드위치 혼합구조를 이루고 있으며,
상기 정공전달성 발광호스트는 TCTA, CBP, NPB, PPP 및 PPV로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 전자전달성 발광호스트는 TAZ, TPBI, Balq, PH1, Bphen, Bebq2, PPP 및 PPV로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 인광 유기발광다이오드는 상기 제1 전극과 상기 발광층 사이에 위치하는 정공수송층, 및 상기 제2 전극과 상기 발광층 사이에 위치하는 전자수송층 중 적어도 어느 하나를 더 포함하고, 상기 전자수송층과 발광층 사이에 위치하는 정공차단층, 및 상기 정공수송층과 제1 전극 사이에 위치하는 정공주입층을 포함하며,
상기 혼합 발광호스트는 3:1 내지 1:3 의 중량비로 혼합된 정공전달성 발광호스트와 전자전달성 발광호스트의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 상기 정공전달성 발광호스트, 혼합 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트는 각각 균일한 농도의 인광 도펀트를 포함하는 것을 특징으로 하는 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 상기 정공전달성 발광호스트, 혼합 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트는 각각 불균일한 농도의 인광 도펀트를 포함하는 것을 특징으로 하는 인광 유기발광다이오드
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제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 정공전달성 발광호스트, 혼합 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트는 각각 형광 물질이고, 상기 도펀트는 인광 물질인 것인, 인광 유기발광다이오드
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제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 정공전달성 발광호스트, 혼합 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트 및 도펀트는 각각 인광 물질인 것인, 인광 유기발광다이오드
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제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 도펀트는 유기 발광 저분자 물질, 유기 발광 고분자 및 유기 발광 올리고머로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 인광 유기발광다이오드
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제 9항에 있어서, 상기 도펀트는 Ir(ppy)3, Ir(tpy)3, Ir(thpy)3, Ir(piq)3, Ir(fliq)3, Ir(tiq)3, Ir(flpy)3, Ir(btpy)3, (pq)2Ir(acac), (btp)2Ir(acac), (F2ppy)2Ir(pic), FIr(pic) 및 PtOEP로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 상기 발광층은 두께가 10 nm 내지 100nm 인 것을 특징으로 하는, 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 상기 제1 전극은 양극이고, 제2 전극은 음극인 것을 특징으로 하는, 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 녹색 인광 유기발광다이오드인 것을 특징으로 하는 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 적색 인광 유기발광다이오드인 것을 특징으로 하는 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 청색 인광 유기발광다이오드인 것을 특징으로 하는 인광 유기발광다이오드
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제 1항에 있어서, 황색 인광 유기발광다이오드인 것을 특징으로 하는 인광 유기발광다이오드
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기판 위에 제1 전극을 형성하는 단계;
상기 제1 전극 위에 발광층을 형성하는 단계; 및
상기 발광층 위에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 발광층을 형성하는 단계는 제1 전극 위에 정공전달성 발광호스트층, 혼합 발광호스트층 및 전자전달성 발광호스트층을 차례로 적층하는 단계를 포함하며,
상기 제1 전극을 형성하는 단계 및 상기 발광층을 형성하는 단계 사이에 정공주입층 및 정공수송층을 형성하고,
상기 발광층을 형성하는 단계 및 상기 제2 전극을 형성하는 단계 사이에 정공차단층 및 전자수송층을 형성하는 단계를 더 포함하며,
상기 정공전달성 발광호스트는 TCTA, CBP, NPB, PPP 및 PPV로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 전자전달성 발광호스트는 TAZ, TPBI, Balq, PH1, Bphen, Bebq2, PPP 및 PPV로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 제1항에 따른 인광 유기발광다이오드의 제조방법
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제 18항에 있어서, 상기 혼합 발광호스트층은 3:1 내지 1:3 의 중량비로 혼합된 정공전달성 발광호스트 및 전자전달성 발광호스트의 혼합물을 포함하는 것인 인광 유기발광다이오드의 제조방법
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제 18항에 있어서, 상기 발광층은 진공 증착법, 스핀코팅법 및 잉크젯 인쇄법으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 방법으로 형성된 것인, 인광 유기발광다이오드의 제조방법
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제 18항에 있어서, 상기 정공수송층은 DNTPD, NPD, NPB, TCTA 및 CBP로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 물질을 포함하고,
상기 전자 수송층은 SFC137, Alq3, BCP, Balq 및 Bphen 으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 물질을 포함하는, 인광 유기발광다이오드의 제조방법
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