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1) 이산화티탄 화합물을 pH 1 ~ 4 범위로 조절한 에탄올 용액에 분산하여 얻은 이산화티탄 나노입자 콜로이드를 건조하여 분말화하는 단계,2) 상기 1) 단계에서 분말화한 이산화티탄 나노입자를 pH -1 ~ 3 로 조절한 산수용액에 재분산하고 초음파를 가진하여 이산화티탄 나노입자가 분산된 콜로이드를 제조하는 단계, 3) 상기 2) 단계에서 얻어진 이산화티탄 나노입자가 분산된 콜로이드에 자외선을 조사하여 이산화티탄 나노입자 표면을 활성화시키는 단계, 및,4) 상기 3) 단계에서 표면이 활성화된 이산화티탄 나노입자가 분산된 콜로이드를 기판에 도포한 후 건조하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 1) 단계의 이산화티탄 화합물은 티타늄 알콕사이드, 티타늄 할라이드 중에서 선택된 1 종 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 티타늄 알콕사이드는 티타늄 이소프로폭사이드, 티타늄 에톡사이드, 티타늄 테트라이소프로폭사이드, 티타늄 아세틸아세토나이트 및 티타늄 부톡사이드 중에서 선택된 1 종 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 티타늄 할라이드는 티타늄 테트라클로라이드, 티타늄 테트라풀루오라이드 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 1) 단계의 에탄올 용액 중 이산화티탄 화합물을 2 ~ 10 %(w/v) 범위로 분산시키는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 2) 단계의 산수용액은 염산, 황산, 질산, 및 염소산 중에서 선택된 1 종 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 2) 단계의 산수용액 중 1) 단계에서 얻어진 이산화티탄 나노입자 분말을 0
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청구항 1에 있어서,상기 2) 단계의 초음파 가진은 5 ~ 15 분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3) 단계의 자외선은 200 ~ 330 nm 파장대임을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3) 단계의 자외선은 2 ~ 18 Watt 범위의 선량임을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3) 단계의 자외선 조사는 12 ~ 120 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3) 단계의 자외선 조사는 2) 단계에서 얻어진 이산화티탄 나노입자가 분산된 콜로이드를 자외선 투과가 가능한 재질로 이루어진 용기에 담지한 후 수행하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3) 단계의 자외선 조사는 2) 단계에서 얻어진 이산화티탄 나노입자가 분산된 콜로이드를 자외선 투과 용기와 자외선 조사기 간의 간격을 1 ~ 3 cm 범위로 조절하여 수행하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 4) 단계의 기판은 실리콘, 마이카, 금(Au), 올레핀계, 아크릴계, 아세탈계, 비닐계, 스티렌 계 고분자 중에서 선택된 재질로 이루어진 기판인 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 4) 단계의 건조는 상온에서 수행되는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체의 제조방법
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청구항 1 내지 15 중에서 선택된 어느 한 항의 방법에 의하여 제조된 것으로, 이산화티탄 나노입자가 자기조립(self-assembly)되어 3차원 구조를 나타내며 100 ~ 200 nm 범위의 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 나노구조체
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