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전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치 및 그 방법

  • 기술번호 : KST2014002708
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전하 유도 방사법(Electrospinning)을 이용하여 다공성 고분자웹을 제조하기 위한 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치 및 그 방법에 대한 것이다.본 발명은 고 다공성 고분자웹을 제조하는 방법에 있어서, 적어도 1종의 고분자 물질을 액상으로 형성하는 단계와; 상기 액상의 고분자 물질을 균일한 간격으로 배치되어 하전된 적어도 1개의 노즐을 통하여, 상기 노즐의 아래에 위치하면서 상기 노즐의 하전 극성과 다른 극성으로 대전되어 일정한 속도로 이동하는 컬렉터로 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 방법을 제공한다.고 다공성, 고분자웹, 전하 유도 방사, 노즐
Int. CL D01D 5/11 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020000080518 (2000.12.22)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0406981-0000 (2003.11.12)
공개번호/일자 10-2002-0051066 (2002.06.28) 문서열기
공고번호/일자 (20031128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.12.22)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이화섭 대한민국 서울특별시강남구
2 조성무 대한민국 서울특별시성북구
3 고석구 대한민국 서울특별시중랑구
4 천석원 대한민국 서울특별시강북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재화 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 덕천빌딩 *층 이재화특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2000-0276769-12
2 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2001.04.03 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0075009-73
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2003.01.17 수리 (Accepted) 9-1-2003-0001129-19
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2003.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0193001-69
7 의견서
Written Opinion		 2003.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2003-0263935-16
8 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.07.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0263934-60
9 등록결정서
Decision to grant		 2003.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0411319-20
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

고분자 물질을 전하 유도 방사법으로써 고 다공성의 고분자웹을 제조하기 위한 장치에 있어서,

액체 상태의 적어도 1종의 고분자 물질이 저장되는 배럴과;

상기 배럴에 저장된 액상의 고분자 물질을 가압하여 공급하는 펌프와;

상기 펌프로부터 액상의 고분자 물질을 공급받는 인입관이 그 중앙에 형성되고, 그 내부에 액상의 고분자 물질이 통과할 수 있는 경로가 형성된 베이스와; 상기 베이스의 하부면에 부착되어 전하를 전달할 수 있는 도전성 판으로 이루어져, 그 하부면에 노즐이 장착되는 다수의 노즐 탭이 돌출 형성된 베이스도전판과; 상기 베이스도전판에 형성된 노즐 탭에 장착되어 고분자 물질을 토출시켜 주는 적어도 1개의 노즐과; 상기 노즐이 장착된 위치에 다수의 구멍이 형성되어 노즐이 통과할 수 있는 구조를 갖으면서, 상기 베이스도전판의 하부에 장착되는 전하분배판과; 전하 분배를 위하여 상기 전하분배판의 하부에 장착되는 도전판을 포함하고,

상기 펌프에 의하여 공급되는 액상의 고분자 물질을 균일한 간격으로 배치되어 하전된 적어도 1개의 노즐을 통하여 방사하는 방사부와;

상기 방사부의 노즐을 통하여 토출되는 고분자 물질을 어느 한 극성으로 하전시키기 위한 전하를 공급하는 제 1고전압 발생부와;

상기 방사부의 하전 극성과 다른 극성으로 대전되어 상기 노즐에 의하여 배출되는 방사를 적층시키면서 이송하여 고분자 웹을 형성시켜 주는 컬렉터를 포함하는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

2 2

제 1항에 있어서, 상기 펌프는 상기 노즐을 통하여 토출되는 고분자 물질의 토출량을 제어하기 위하여 토출량이 가변되는 펌프인 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

3 3

삭제
4 4

제 1항에 있어서, 상기 노즐은 액상의 고분자 물질을 토출시켜 주는 니들이 한 개로 구성되는 유니노즐과, 다수의 니들로 구성되는 멀티 노즐 중에서 어느 한 노즐인 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

5 5

제 4항에 있어서, 상기 멀티노즐을 구성하는 다수의 니들은 서로간의 간격이 1mm 이상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

6 6

제 4항에 있어서, 상기 니들은 그 길이와 외경의 비가 10 이상인 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

7 7

제 1항에 있어서, 상기 컬렉터는 도전성 금속재의 웹 구조를 갖는 형태와 도전성 금속재의 판 구조 중에서 어느 한 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

8 8

제 1항 또는 제 7항에 있어서, 상기 컬렉터는 그 상부에 적층되는 고분자웹을 어느 한 방향으로 이송시켜 주기 위하여 컨베이어벨트식으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

9 9

제 1항에 있어서, 상기 컬렉터는 상기 방사부에 대전된 극성과 반대 극성을 갖는 전하를 공급해 주기 위한 제 2고전압 발생부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

10 10

제 1항에 있어서, 상기의 전하분배판에 장착된 도전판은 고분자 물질이 토출되는 노즐의 끝으로부터 상부 방향으로 5mm이상 떨어진 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

11 11

제 1항 또는 제 9항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2고전압 발생부의 출력 전압은 그 절대치가 1㎸∼50㎸인 직류 전압인 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 장치

12 12

고분자 물질을 전하 유도 방사법으로써 고 다공성 고분자웹을 제조하는 방법에 있어서,

적어도 1종의 고분자 물질을 액상으로 형성한 다음 개별 액화시켜 각각의 노즐을 통하여 가압 토출시키거나, 또는 각각의 고분자 물질을 혼합하여 동시에 가압 토출시켜 공급하는 단계와;

상기 액상의 고분자 물질을 균일한 간격으로 배치되어 하전된 적어도 1개의 노즐을 통하여, 상기 노즐의 아래에 위치하면서 상기 노즐의 하전 극성과 다른 극성으로 대전되어 일정한 속도로 이동하는 컬렉터로 토출하여 적층함으로써 고분자웹을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 방법

13 13

삭제
14 14

제 12항에 있어서, 상기 고분자웹은 1㎛∼100㎛ 사이의 두께로 제조되는 것을 특징으로 하는 전하 유도 방사에 의한 고분자웹 제조 방법

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