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질소 풍부한 나노다공성 그라파이트 탄소 질화물 구조체, 이의 제조방법 및 이를 이용한 연료 전지용 촉매

  • 기술번호 : KST2014002998
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질소 풍부한 나노다공성 그라파이트 탄소 질화물 구조체, 이의 제조방법 및 이를 이용한 연료 전지용 촉매에 관한 것이다. 본 발명에 따른 질소 풍부한 나노다공성 그라파이트 탄소 질화물 구조체는 매크로크기의 구형 포어가 규칙적으로 배열되고, 상기 매크로크기 구형 포어는 메조크기의 연결포어로 3차원적으로 상호 연결된 형태를 갖는다. 상기 탄소 질화물 구조체는 매크로크기의 구형 실리카가 적층된 실리카 콜로이달 주형을 준비하는 단계; 탄소 질화물용 분자 전구체를 콜로이달 실리카 주형에 주입시키는 단계; 혼합물을 탄화시키는 단계; 및 실리카 콜로이달 주형을 제거하는 단계를 포함하여 제조된다. 이와 같은 탄소 질화물 구조체는 연료 전지용 전극 촉매에 지지체로 활용될 수 있다.탄소 질화물, 지지체, 콜로이달 주형
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) B01J 35/04 (2011.01) B01J 35/10 (2011.01) H01M 4/90 (2011.01)
CPC B01J 35/10(2013.01) B01J 35/10(2013.01) B01J 35/10(2013.01) B01J 35/10(2013.01) B01J 35/10(2013.01)
출원번호/일자 1020070036800 (2007.04.16)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0866311-0000 (2008.10.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081103) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 보정승인
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.04.16)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유종성 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 세종산학협력단 세종특별자치시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2007-0286784-39
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.10.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.11.09 수리 (Accepted) 9-1-2007-0068601-00
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0041681-93
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.03.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0220885-52
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0220882-15
7 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2008.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2008-0470469-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.06.30 수리 (Accepted) 4-1-2008-5105548-47
9 서류반려이유안내서
Notice of Reason for Return of Document
2008.07.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0083630-95
10 [반려이유통지에 따른 소명]의견(답변, 소명)서
[Substantiation according to Notice of Reason for Return] Written Opinion (Written Response, Written Substantiation)
2008.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-5039039-90
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2008.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0402131-16
12 안내문(직권수리)
Notification(Ex officio Acceptance)
2008.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0094138-90
13 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2008.08.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2008-0038306-64
14 등록결정서
Decision to grant
2008.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0521166-16
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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번호 청구항
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매크로크기의 구형 실리카가 적층된 콜로이달 실리카 주형을 준비하는 단계;상기 콜로이달 실리카 주형을 500 내지 700℃에서 1시간 내지 3시간 동안 가열하는 단계; 탄소 질화물용 분자 전구체를 콜로이달 실리카 주형에 주입시키는 단계; 분자 전구체 주입된 콜로이달 실리카 주형을 60 내지 80℃에서 1 내지 3시간 동안 안정화시키는 단계;혼합물을 탄화시키는 단계; 및실리카 콜로이달 주형을 제거하는 단계를 포함하는 C3N4의 구조를 가지며, N/C 원자 비율이 1
5 5
제 4항에 있어서, 상기 실리카 콜로이달 주형은 100 내지 600㎚의 매크로크기의 직경을 가진 구형 실리카를 침강법(sedimentation), 원심분리법(centrifugation), 여과법(filtration), 또는 압축법(pressing)을 사용하여 적층시켜 제조되는 질소 풍부한 나노다공성 그라파이트 탄소 질화물의 제조방법
6 6
제 4항에 있어서, 상기 탄소 질화물용 분자 전구체로는 시안아미드(CN-NH2), 멜라민(2,4,6-트리아미노-s-트리아진), C3N3(NH2) 및 s-트리아진 고리 화합물(C3N3X3(X=Cl, F, OH, NHCl, N 또는 NCNH)), 에틸렌디아민(NH2CH2CH2NH2) 또는 염화암모늄(NH4Cl)-사염화탄소(CCl4) 화합물, 헥사클로로벤젠(C6Cl6)-아지트화나트륨(NaN3) 화합물, C3N3Cl3-NaN3(또는 NaNH2), 멜렘(Melem : 2,5,8-트리아미노-트리스-s-트리아진) 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 것인 질소 풍부한 나노다공성 그라파이트 탄소 질화물의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 탄소화는 불활성 가스 존재하 500 내지 600℃에서 3 내지 5시간 동안 수행되는 것인 질소 풍부한 나노다공성 탄소 질화물의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 실라카 주형은 에칭법 또는 소성법을 통해 제거되는 것인 질소 풍부한 나노다공성 탄소 질화물의 제조방법
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