요약 | 본 발명은 임플란트의 표면을 전처리하고, 전처리된 임플란트를 다양한 전해액에서 짧은 시간 동안 일정한 전류밀도로 전기화학적으로 처리하여 표면에 다공성 산화피막을 형성시킨 다음, 산 또는 알칼리 수용액에서 후처리하는 것을 포함하는 티타늄 금속 또는 티타늄 합금으로 구성된 임플란트의 표면처리방법에 관한 것이다. 본 발명의 표면처리방법에 의하여 생성된 산화피막을 갖는 임플란트는 뼈와의 상용성, 접합력 및 물리적·화학적 안정성이 우수하고, 치료기간을 대폭 단축할 수 있도록 한다. 또한, 본 발명의 표면처리방법은 종래의 방법에 비하여 비용이 적게 들고, 생산성이 우수하다. 티타늄 임플란트, 양극산화, 다공성 피막, 산 알칼리 후처리 |
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Int. CL | C23C 22/00 (2006.01) |
CPC | A61C 8/0015(2013.01) A61C 8/0015(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020010063409 (2001.10.15) |
출원인 | 한국과학기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-0402919-0000 (2003.10.10) |
공개번호/일자 | 10-2003-0031664 (2003.04.23) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20031022) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2001.10.15) |
심사청구항수 | 5 |