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부도체인 실리카 기판;
상기 실리카 기판 위에 형성되고, 펌프광을 입력받는 실리콘 코어; 및
상기 실리콘 코어 주위에 형성되고, 상기 실리콘 코어 내에서 비선형 광학 효과에 의해 생성된 비선형 광신호들과 상기 펌프광의 진행 위상을 일치시키는 굴절률 또는 두께를 갖는 폴리머 크래드를 포함하되,
상기 실리콘 코어 내의 유효 굴절률은 상기 실리카 기판의 굴절률, 상기 실리콘 코어의 굴절률 및 크기, 및 상기 폴리머 크래드의 굴절률 및 두께에 따라 결정되며,
상기 폴리머 크래드의 굴절률 또는 두께는, 상기 유효 굴절률이 상기 펌프광 파장에서 비정상 색분산을 갖도록 결정되는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자
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제 1 항에 있어서,
상기 실리콘 코어의 일측에 연결되어, 상기 비선형 광신호들을 상기 펌프광과 분리하는 광파장 분리 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자
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제 2 항에 있어서,
상기 광파장 분리 수단은,
광섬유형 광소자들로 구성되는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자
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제 1 항에 있어서,
상기 실리콘 코어는,
실리카 기판 내에 전체가 매립되는 형태로 형성되고, 실리카 기판으로 덮이지 않은 면이 상기 폴리머 크래드로 덮여 있는 심어진 스트립 광도파로 형태인 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자
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제 1 항에 있어서,
상기 실리콘 코어는,
실리콘 층이 상기 실리카 기판을 덮는 형태로 형성되고, 코어 부분만 돌출되며, 상기 코어 부분의 상면 및 측면이 상기 폴리머 크래드로 덮여 있는 리브 광도파로 형태인 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자
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제 1 항에 있어서,
상기 실리콘 코어는,
실리콘으로 구성된 코어의 일부가 실리카 기판 내에 매립되어, 상기 코어의 상면 전체와 측면의 일부가 상기 폴리머 크래드로 덮여 있는 스트립 광도파로 형태인 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자
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7
부도체인 실리카 기판 위에 펌프광을 입력받는 실리콘 코어를 형성하는 단계; 및
상기 실리콘 코어 내에서 비선형 광학 효과에 의해 생성된 비선형 광신호들과 상기 펌프광의 진행 위상을 일치시키는 굴절률 또는 두께를 갖는 폴리머 크래드를 상기 실리콘 코어 주위에 형성하는 단계를 포함하되,
상기 실리콘 코어 내의 유효 굴절률은 상기 실리카 기판의 굴절률, 상기 실리콘 코어의 굴절률 및 크기, 및 상기 폴리머 크래드의 굴절률 및 두께에 따라 결정되며,
상기 폴리머 크래드의 굴절률 또는 두께는, 상기 유효 굴절률이 상기 펌프광 파장에서 비정상 색분산을 갖도록 결정되는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,
상기 폴리머 크래드를 상기 실리콘 코어 주위에 형성하는 단계는,
스핀 코딩 과정에서의 회전 속도 또는 적용되는 폴리머 용액의 농도에 따라 상기 폴리머 크래드의 두께를 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,
상기 폴리머 크래드를 상기 실리콘 코어 주위에 형성하는 단계는,
상기 비선형 광신호들과 상기 펌프광의 진행 위상을 일치시키는 굴절률을 갖는 폴리머 재료를 선택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자의 제조방법
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10
제 7 항에 있어서,
상기 폴리머 크래드를 상기 실리콘 코어 주위에 형성하는 단계는,
상기 폴리머 크래드에 자외선을 조사하거나 또는 열을 가하여 상기 폴리머 크래드의 굴절률을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 크래드의 굴절률 조절에 의한 비선형 실리콘 광도파로 소자의 제조방법
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