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마이크로그루브를 구비한 임플란트 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014003870
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 임플란트(implant)시에 주위 연조직과 임플란트의 부착을 높게 함으로써 침윤상피 하방이동을 방지하고 세균감염을 막을 뿐 아니라, 임플란트의 수명을 연장시키는 임플란트 지대주 표면처리 방법 및 이와 같은 방법으로 표면처리된 임플란트에 관한 것이다. 본 발명의 표면 처리방법은 임플란트 표면의 조직 부착부위에 인간 치은 섬유아세포의 단면직경보다 큰 간격 및 바닥폭을 가지는 마이크로 그루브를 형성하고 그루브 이외에 연마된 채로 남아있는 능선의 표면에도 부가적인 산-에칭 처리를 함으로써 활발한 사상족(filopodia)의 생성이 유도되도록 함으로써 임플란트 주위 연조직 부착력을 강화하였다. 포토리소그래피, 마이크로그루브, 임플란트, 산-에칭, 표면처리, 연조직 부착, 치은섬유아세포
Int. CL A61C 8/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020070130608 (2007.12.14)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0920994-0000 (2009.10.01)
공개번호/일자 10-2009-0063313 (2009.06.18) 문서열기
공고번호/일자 (20091009) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.12.14)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이석원 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 오남식 대한민국 서울특별시 양천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2007-0899097-92
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.07 수리 (Accepted) 4-1-2008-0003929-31
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2008-5093865-89
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.09.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.10.13 수리 (Accepted) 9-1-2008-0065333-88
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.04.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0152967-50
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.06.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0330655-05
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.06.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0330656-40
9 등록결정서
Decision to grant
2009.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0404473-07
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2009-5220324-82
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
인공치아가 고정되는 상부의 지대치 영역; 악골에 식립되는 하부의 인공치근 영역으로 구성되는 치과용 임플란트에 있어서, 임플란트 표면의 치은연조직 부착부위에 직사각형 또는 사다리꼴 형상의 마이크로그루브가 형성된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트
2 2
제1항에 있어서, 상기 마이크로그루브의 깊이는 3 내지 15 ㎛이고, 간격 및 바닥 폭은 각각 10 내지 90 ㎛인 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트
3 3
삭제
4 4
제 1항 또는 제2항에 있어서, 마이크로그루브와 능선의 표면에 산-에칭 처리된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트
5 5
ⅰ) 치과용 임플란트의 지대주 표면에 직사각형 또는 사다리꼴 형상의 마이크로그루브 형성 예정 부위를 제외하고 광-레지스트(photo-resist)를 처리하는 단계; ⅱ) 상기 광-레지스트를 처리한 임플란트에 산-에칭을 적용하는 단계; 및 ⅲ) 상기 산-에칭이 적용된 임플란트로부터 광-레지스트를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피를 이용한 치과용 임플란트 표면처리방법
6 6
삭제
7 7
제5항에 있어서, 상기 마이크로그루브의 깊이는 3 내지 15 ㎛이고, 간격 및 바닥 폭은 각각 10 내지 90 ㎛인 것을 특징으로 하는 포토리소그래피를 이용한 치과용 임플란트 표면처리방법
8 8
제 5항 또는 제7항에 있어서, 광-레지스트가 제거된 임플란트 표면에 산-에칭을 적용하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피를 이용한 치과용 임플란트 표면처리방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20090155742 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2009155742 US 미국 DOCDBFAMILY
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