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하기 화학식 1로 표시되는 니켈 아미노알콕사이드 화합물: 화학식 1 상기 식에서, m은 1 내지 3 의 정수이며, R 및 R'은 C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다
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하기 화학식 2로 표시되는 니켈 아미노알콕사이드 화합물: 화학식 2 상기 식에서, m은 1 내지 3 의 정수이고, n은 2 내지 4 의 정수이며, R 및 R'은 C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다
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할로겐화헥사아민니켈 화합물[Ni(NH3)6X2](여기에서, X는 Cl, Br 또는 I이다)을 아미노알콕사이드의 알칼리 금속염[MOCR'2(CH2)mNR2](여기에서, M은 Li 또는 Na이고, m, R 및 R'는 제 1항에서 정의한 바와 같다)와 반응시키는 것을 포함하는, 화학식 1의 니켈 아미노알콕사이드 화합물의 제조 방법
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니켈 알콕사이드 화합물 [Ni(OR")2](여기에서, R"은 메틸, 에틸, 이소프로필 또는 t-부틸이다)을 아미노알코올 화합물 [ HOC(R')2(CH2)mNR2](여기에서, m, R 및 R'는 제 1항에서 정의한 바와 같다)과 반응시키는 것을 포함하는, 화학식 1의 니켈 아미노알콕사이드 화합물의 제조 방법
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제 1항 또는 제 2항의 니켈 아미노알콕사이드 화합물을 선구 물질로 사용하여 니켈 박막을 성장시키는 방법
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제 5항에 있어서, 니켈 박막의 성장 온도를 250 내지 350℃ 범위로 하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 5항에 있어서, 니켈 박막의 성장 온도를 250 내지 350℃ 범위로 하는 것을 특징으로 하는 방법
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