| 요약 |
본 발명은 건축재용 도전성 석판재 제조방법에 관한 것으로, 그 목적은 원료의 확보가 용이한 폐자원을 활용하여 폐자원 활용율을 극대화시키고, 환경오염을 방지하며, 청정실(Clean Room), 반도체 제조공장 등과 같은 정전기제어와 전자파 차폐가 필수적인 건축물의 건축재로 사용할 수 있도록 전기전도율이 우수하고, 물성이 우수하며, 경량을 구비하는 석판재의 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명은 벤토나이트 광미를 수거하여 건조하는 단계; 상기 건조된 벤토나이트 광미를 염화주석 수용액에 분산시켜 감수성 처리한 후 여과, 건조하는 단계; 상기 감수성 처리된 벤토나이트 광미를 염화팔라듐 수용액에 분산시켜 활성화 처리하는 단계; 상기 활성화 처리된 건조물을 황산니켈 수용액에 분산시킨 후 암모니아수에 의해 pH를 10∼11 로 보정하는 단계; 상기 pH 가 조정된 수용액에 환원제와 착화제를 첨가하여 벤토나이트 광미 입자표면에 니켈을 피복시킨 후 이를 여과, 세척, 건조하는 단계; 상기 니켈이 피복된 벤토나이트 광미에 결합제 및 경화제를 첨가, 혼합한 후 이를 형틀내로 주입하고 가압 및 가열하여 고형화하는 단계로 이루어진 건축재용 도전성 석판재 제조방법을 제공함에 있다. 벤토나이트, 니켈피복, 석판재, 도전성석판재,
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