| 1 |
1
시료(2000)의 표면으로 일방향을 따라 연속되는 다점영역에 대해 위치적으로 상응하여 백색광을 시준/출사하도록 광원과 시준 구조가 일체화된 광원 모듈(110)을 포함하고, 상기 백색광을 선편광시키도록 상기 광출사 경로상에 배치되는 편광자(120)를 포함하는 광원 그룹(100); 상기 광원 그룹(100)에 대해 광학적으로 대향 배치되고, 상기 시료(2000)의 다점영역에 의해 반사되어 상기 다점영역에 대한 위치정보 및 물성정보를 갖고 타원편광되는 백색광을 선편광시키는 검광자(220)를 포함하는 광분석 그룹(200); 상기 광분석 그룹(200)과 동일 광축상에 배치되고, 상기 백색광을 파장별로 분광시키는 분광소자(320)와, 분광된 각 빛이 해당 파장 및 상기 다점영역을 이루는 각 지점별 위치에 기초하여 결상면의 각축방향을 따라 동시 결상되는 광검지수단을 포함하는 분광결상 그룹(300); 및 상기 광검지수단으로부터 전송되는 데이터를 기초로 상기 각 빛의 파장 및 상기 각 지점별 위치에 상응하는 해당 빛의 타원계측각을 산출하도록 상기 광검지수단에 전기적으로 연결되는 컴퓨터(400);를 포함하는 분광결상을 이용하는 타원계측장치에 있어서,상기 광원 그룹(100)에는, 상기 선편광된 백색광을 원편광, 타원편광 중 소망하는 어느 하나로 편광시키도록 상기 편광자(120)의 후방으로 동일 광축선상에 배치되는 제 1위상지연자(130)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측장치
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 광분석 그룹(200)에는, 상기 타원편광된 백색광을 상기 제 1위상지연자(130)와 광학적으로 상응시켜 대등하게 편광시키도록 상기 검광자(220)의 전방으로 동일 광축선상에 배치되는 제 2위상지연자(210)가 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측장치
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서, 상기 분광결상 그룹(300)에는, 상기 광검지 수단의 결상면으로 상기 분광된 각 빛을 집광시키도록, 상기 분광소자(320)와 상기 광검지수단의 사이에 배치되는 집광렌즈(330)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측장치
|
| 6 |
6
제 1항에 있어서, 상기 분광결상 그룹(300)에는, 상기 백색광의 시준상태를 광학적으로 정렬시키도록 상기 분광소자(320)의 전방으로 동일 광축상에 배치되고, 초기 백색광의 시준 형상에 대응하는 입사슬릿(310)이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측장치
|
| 7 |
7
시료(2000)의 표면으로 일방향을 따라 연속되는 다점영역에 대해 상응하여 시준된 백색광을 출사시키는 단계(S1000); 상기 백색광을 선편광시키는 단계(S2000); 상기 시료(2000)의 해당 다점영역에 의해 반사되어 상기 다점영역에 대한 위치정보 및 물성정보를 갖고 타원편광된 백색광을 선편광시키는 단계(S3000); 상기 백색광의 시준상태를 광학적으로 정렬시키는 단계(S4000); 상기 정렬된 백색광을 파장별로 분광시키는 단계(S5000); 상기 분광된 각 빛을 해당 파장 및 상기 다점영역을 이루는 각 지점별 위치에 기초하여 결상면의 각축방향을 따라 동시 결상시키는 단계(S6000); 및 상기 결상으로 수득되는 데이터에 기초하여 상기 각 빛의 파장 및 상기 각 지점별 위치에 상응하는 해당 빛의 타원계측각을 산출하는 단계(S7000);를 포함하는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 8 |
8
제 7항에 있어서, 상기 백색광의 선편광단계(S2000) 이후의 편광학적 후처리 단계로서, 상기 선편광된 백색광을 위상 지연방식을 통해 원편광, 타원편광 중 소망하는 어느 하나로 편광시키는 단계(S2000a)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서, 상기 반사된 백색광의 선편광단계(S3000) 이전의 편광학적 전처리 단계로서, 상기 백색광의 반사 이전의 편광단계(S2000a)와 광학적으로 상응되도록 백색광을 대등하게 편광시키는 단계(S2500)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 10 |
10
제 7항에 있어서, 상기 빛의 결상 단계(S6000)에서는, 상기 분광된 각 빛의 광경로상에 배치되는 CCD형 고체촬상소자(340)에 상기 각 빛을 결상시키는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 11 |
11
제 10항에 있어서, 상기 백색광의 분광단계(S5000) 이후, 상기 분광된 각 빛을 상기 CCD형 고체촬상소자(340)의 결상면으로 집광하는 단계(S5000a)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 12 |
12
제 11항에 있어서, 상기 집광단계(S5000a)에서는, 상기 분광된 각 빛의 광경로상으로 상기 CCD형 고체촬상소자(340)의 전방에 집광렌즈(330)를 배치하여 상기 각 빛을 집광하는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 13 |
13
제 7항에 있어서, 상기 백색광 시준상태의 정렬단계(S4000)에서는, 초기 백색광의 시준 형상에 대응하는 입사슬릿(310)을 배치하여 상기 백색광의 시준상태를 정렬하는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
| 14 |
13
제 7항에 있어서, 상기 백색광 시준상태의 정렬단계(S4000)에서는, 초기 백색광의 시준 형상에 대응하는 입사슬릿(310)을 배치하여 상기 백색광의 시준상태를 정렬하는 것을 특징으로 하는 분광결상을 이용하는 타원계측방법
|
