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기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조 방법 (A method for preparing ionic liquid supported liquid membrane)

  • 기술번호 : KST2014006745
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증기압이 없고 넓은 온도 범위에서 액체를 유지하며 많은 유기물 및 무기물을 용해하는 특성이 있어서 첨가제에 의한 특성 조절이 용이한 이온액과, 기체 투과력이 낮고 액막에 충분한 기계적 강도를 부여할 수 있는 지지고분자와, 사용된 이온액과 지지고분자를 동시에 용해시킬 수 있는 공통용매를 사용하여, 상분리법에 의해 지지고분자에 이온액을 분산시킴으로써, 특정 기체에 대한 친화도를 조절할 수 있음과 동시에 기체에 대한 높은 선택성과 투과성을 나타내며 가혹한 사용 조건에서도 안정성을 확보할 수 있고, 액막 전체에 매우 작은 도메인을 균일하게 가지는 액막을 보다 간단한 공정으로 제조할 수 있는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법에 관한 것이다. 기체 분리, 이온액, 지지고분자, 액막, 공통용매, 상분리
Int. CL B01D 71/06 (2006.01)
CPC B01D 71/06(2013.01) B01D 71/06(2013.01) B01D 71/06(2013.01)
출원번호/일자 1020020061061 (2002.10.07)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0531129-0000 (2005.11.18)
공개번호/일자 10-2004-0031921 (2004.04.14) 문서열기
공고번호/일자 (20051128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.10.07)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정민 대한민국 대전광역시유성구
2 김범식 대한민국 대전광역시유성구
3 김철웅 대한민국 대전광역시유성구
4 서정권 대한민국 대전광역시유성구
5 고재천 대한민국 대전광역시유성구
6 이상학 대한민국 대전광역시중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2002-0328996-03
2 대리인 변경 신고서
Agent change Notification
2004.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2004-0079902-27
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.05.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.06.11 수리 (Accepted) 9-1-2004-0033407-25
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.11.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0489445-60
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2005-0036713-98
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2005-0093984-13
8 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.03.22 수리 (Accepted) 1-1-2005-0150357-88
9 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2005-0212029-50
10 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2005-0269947-62
11 의견서
Written Opinion
2005.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2005-0326281-34
12 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.06.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0326279-42
13 등록결정서
Decision to grant
2005.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0570136-81
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
1 1
지지고분자 내에 액체가 고정되어 있는 고정화 액막(Supported Liquid Membrane)의 제조방법에 있어서, 증기압이 없고 넓은 온도 범위에서 액상을 유지하는 이미다졸리움계 상온이온액과, 기체 투과력이 낮고 기계적 물성이 뛰어난 소수성 지지고분자를 상기 이온액과 지지고분자를 용해시키는 극성 용매에 용해시켜 필름을 만드는 과정과;상기 사용된 용매를 증발시켜 매트릭스 역할을 하는 지지고분자와 막 역할을 하는 이온액 각각을 상분리하되, 상기 상분리는 저온에서 1차 상분리한 후에 이보다 고온에서 2차 상분리하는 방법으로 진행하여 지지고분자내에 이온액이 고정된 도메인을 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
1 1
지지고분자 내에 액체가 고정되어 있는 고정화 액막(Supported Liquid Membrane)의 제조방법에 있어서, 증기압이 없고 넓은 온도 범위에서 액상을 유지하는 이미다졸리움계 상온이온액과, 기체 투과력이 낮고 기계적 물성이 뛰어난 소수성 지지고분자를 상기 이온액과 지지고분자를 용해시키는 극성 용매에 용해시켜 필름을 만드는 과정과;상기 사용된 용매를 증발시켜 매트릭스 역할을 하는 지지고분자와 막 역할을 하는 이온액 각각을 상분리하되, 상기 상분리는 저온에서 1차 상분리한 후에 이보다 고온에서 2차 상분리하는 방법으로 진행하여 지지고분자내에 이온액이 고정된 도메인을 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 상분리가 20 ∼ 40 ℃ 온도범위 및 30 ∼ 40 % 상대습도 조건에서 용매를 증발시키는 1차 상분리과정과, 60 ∼ 90 ℃ 온도범위에서 2차 상분리하는 과정을 포함하는 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 상분리가 20 ∼ 40 ℃ 온도범위 및 30 ∼ 40 % 상대습도 조건에서 용매를 증발시키는 1차 상분리과정과, 60 ∼ 90 ℃ 온도범위에서 2차 상분리하는 과정을 포함하는 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 이온액이 1-알킬-3-메틸이미다졸리움 양이온인 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 이온액이 1-알킬-3-메틸이미다졸리움 양이온인 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
4 4
제 3 항에서, 상기 이온액이 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·BF4([bmim][BF4]), 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·PF6([bmim][PF6]), 1-에틸-3-메틸이미다졸리움·BF4([emim][BF4]), 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·SbF6([bmim][SbF6]) 및 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·F6O4S6([bmim][F6O4S6]) 중에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
4 4
제 3 항에서, 상기 이온액이 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·BF4([bmim][BF4]), 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·PF6([bmim][PF6]), 1-에틸-3-메틸이미다졸리움·BF4([emim][BF4]), 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·SbF6([bmim][SbF6]) 및 1-부틸-3-메틸이미다졸리움·F6O4S6([bmim][F6O4S6]) 중에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 지지고분자가 폴리비닐리덴플로라이드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리설폰, 셀룰로오스 아세테이트 및 폴리비닐리덴플로라이드 공중합체 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 지지고분자가 폴리비닐리덴플로라이드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리설폰, 셀룰로오스 아세테이트 및 폴리비닐리덴플로라이드 공중합체 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 이온액과 지지고분자를 용해시키는 용매가 N-메틸피롤리돈(NMP), N,N-디메틸아세트아마이드(DMA), 테트라히드로퓨란 및 아세톤 중에서 선택된 극성용매인 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 이온액과 지지고분자를 용해시키는 용매가 N-메틸피롤리돈(NMP), N,N-디메틸아세트아마이드(DMA), 테트라히드로퓨란 및 아세톤 중에서 선택된 극성용매인 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 이온액과 지지고분자가 0
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 이온액과 지지고분자가 0
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 이온액-지지고분자 용액에는 지지고분자가 5 ∼ 15 중량% 농도범위로 용해된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 이온액-지지고분자 용액에는 지지고분자가 5 ∼ 15 중량% 농도범위로 용해된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막의 제조방법
9 9
상기 청구항 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막
9 9
상기 청구항 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막
10 9
상기 청구항 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막
10 9
상기 청구항 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 것임을 특징으로 하는 기체분리용 이온액 고정화 액막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.