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펨토초 레이저 미세 가공장치에 있어서,펨토초 펄스를 가진 빔을 발생시키는 펨토초 레이저 발생부;상기 펨토초 레이저 발생부에서 발생된 빔의 스펙트럼을 확장시키는 비 공명선상 광 매개 증폭기(NOPA);상기 펨토초 레이저 발생부에서 발생된 빔의 스펙트럼을 공간상에 펼치는 분광수단; 상기 분광수단에 의하여 펼쳐진 스펙트럼을 목적 가공물에 집속하는 광학수단; 및상기 광학수단에 의하여 빔의 스펙트럼이 집속된 목적 가공물을 가공하는 가공수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공장치
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청구항 1에 있어서, 상기 분광수단과 광학수단 사이에상기 확장된 스펙트럼의 프로파일을 조절하는 스펙트럼 프로파일 조절수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공장치
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청구항 1에 있어서, 상기 분광수단과 광학수단 사이에 상기 펨토초 레이저 발생부에서 발생된 빔을 분할하는 빔 분할수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공장치
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청구항 1에 있어서, 상기 분광수단과 광학수단 사이에 상기 확장된 스펙트럼의 프로파일을 조절하는 스펙트럼 프로파일 조절수단과 상기 펨토초 레이저 발생부에서 발생된 빔을 분할하는 빔 분할수단을 결합하여 연결하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공장치
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청구항 1에 있어서, 상기 목적 가공물은첨단소재, 인비트로(invitro) 또는 인비보(invivo) 형태의 물질 또는 개체를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공장치
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펨토초 레이저 미세 가공방법에 있어서,펨토초 펄스를 가진 빔을 발생시키는 제 1단계;상기 제 1단계에서 발생된 빔의 스펙트럼을 비 공명선상 광 매개 증폭기(NOPA)를 이용하여 확장시키는 단계 및 상기 제 1단계에서 발생된 빔의 스펙트럼을 공간상에 펼치는 제 2단계;상기 제 2단계에서 펼쳐진 빔의 스펙트럼을 목적 가공물에 집속하는 제 3단계;상기 제 3단계에서 빔의 스펙트럼이 집속된 목적 가공물을 가공하는 제 4단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공방법
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청구항 8에 있어서, 상기 제 1단계는상기 펄스의 폭을 조절하여 상기 빔의 스펙트럼을 확장시키는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공방법
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청구항 8 또는 청구항 9에 있어서, 상기 제 2단계와 제 3단계 사이에상기 확장된 스펙트럼의 프로파일을 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공방법
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청구항 8 또는 청구항 9에 있어서, 상기 제 2단계와 제 3단계 사이에상기 제 1단계에서 발생된 빔을 분할하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공방법
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청구항 8 또는 청구항 9에 있어서, 상기 제 2단계와 제 3단계 사이에상기 확장된 스펙트럼의 프로파일을 조절하는 단계와 상기 제 1단계에서 발생된 빔을 분할하는 단계를 연결하는 것을 특징으로 하는 파장 선폭 확대 기술을 채택한 초고속레이저 초미세 가공방법
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