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금-증착된 산화철/글리콜 키토산 나노복합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 MRI 조영제

  • 기술번호 : KST2014007685
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금-증착된 산화철/글리콜 키토산 복합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 MRI 조영제에 관한 것이다. 본 발명에 따른 금-증착된 산화철/글리콜 키토산 복합체는 금이 증착된 산화철 나노 입자에 글리콜 키토산을 흡착시켜 복합체를 형성한 후 헤파린으로 표면 개질하고 이를 트리블록 공중합체 수용액에 함침시킨 후 동결건조한 것을 특징으로 한다.
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) B82Y 5/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC A61K 49/1821(2013.01)A61K 49/1821(2013.01)A61K 49/1821(2013.01)
출원번호/일자 1020080045288 (2008.05.16)
출원인 한남대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1018221-0000 (2011.02.21)
공개번호/일자 10-2009-0119324 (2009.11.19) 문서열기
공고번호/일자 (20110228) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.16)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한남대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 육순홍 대한민국 대전광역시 유성구
2 오근상 대한민국 대전광역시 동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 안미정 대한민국 서울특별시 서초구 사평대로 ***, *층 (반포동)(특허법인이룸리온)
2 권혁성 대한민국 대구광역시 중구 국채보상로***, *층 에이호(동인동*가, 종각빌딩)(특허법인 이룸리온(대구분사무소))
3 특허법인이룸 대한민국 서울시 서초구 사평대로 ***, *층(반포동)
4 김삼수 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, *층(역삼동, 옥산빌딩)(특허법인(유한)유일하이스트)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한남대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2008-0346949-07
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0135253-40
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0331993-14
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.05.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0331991-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0435892-53
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.10.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0701316-58
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2010-0701326-15
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2010.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0550159-24
9 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2010.12.01 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2010-0049719-12
10 등록결정서
Decision to grant
2011.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0058268-29
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2011-5173143-81
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.09.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-5125337-41
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.27 수리 (Accepted) 4-1-2017-5046930-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1) FeCl2·4H2O와 FeCl3·6H2O를 증류수에 혼합한 수용액에 염기성 용액을 첨가한 후 초음파 분쇄에 의해 증류수에 분산된 산화철 나노입자 시드를 제조하는 단계; 2) 상기 증류수에 분산된 산화철 나노입자 시드에 금염(HAuCl4)을 첨가한 후 구연산나트륨(Na3C6H5O7)으로 금염을 환원하여 금을 증착시키는 단계; 3) 상기 금이 증착된 산화철 나노입자 표면에 하기 화학식 1의 글리콜 키토산을 흡착시켜 복합체를 제조하는 단계; 4) 상기 형성된 복합체의 표면을 하기 화학식 2의 헤파린으로 안정화시키는 단계; 및 5) 상기 안정화된 복합체를 하기 화학식 3의 트리블록 공중합체 수용액에 함침시킨 후 동결건조하는 단계를 포함하는 금-증착된 산화철/글리콜 키토산 복합체의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 1)단계에서 FeCl2·4H2O와 FeCl3·6H2O를 1:2 몰 비로 증류수에 혼합하는 것을 특징으로 하는 복합체의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 1)단계에서 염기성 용액은 NH4OH 수용액 또는 NaOH 수용액인 것을 특징으로 하는 복합체의 제조방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 3)단계에서 금이 증착된 금속 나노입자 대 글리콜 키토산의 혼합 비율은 2:8 내지 99:1의 부피비인 것을 특징으로 하는 복합체의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 4)단계에서 복합체 내에 함유된 글리콜 키토산 대 헤파린의 혼합 비율은 2:8 내지 99:1의 부피비인 것을 특징으로 하는 복합체의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 5)단계에서 트리블록 공중합체는 폴록사머인 것을 특징으로 하는 복합체의 제조방법
7 7
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되고, 복합체의 평균 크기가 100㎚ 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는 금-증착된 산화철/글리콜 키토산 복합체
8 8
제 7항의 금-증착된 산화철/글리콜 키토산 복합체를 포함하는 MRI 조영제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.