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기판 상에 광민감성 유기-무기 하이브리드 재료를 포함하는 광도파로를 10 마이크론 이상의 두께로 코팅하는 단계와, 코팅된 광민감성 하이브리드 재료에 소정 범위의 파장을 가지는 광을 조사하여 직접 가로와 세로의 크기가 10 마이크론 이상 크기의 구조를 갖으며 광조사 영역과 광비조사 영역간의 굴절률 변조에 의해 형성되는 멀티모드 광도파로를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 1항에 있어서, 제 1항의 광민감성 유기-무기 하이브리드 재료는 중합이 가능한 유기관능기를 함유하는 올리고 실록산을 기반으로 하고 여기에 중합체 형성이 가능한 유기 단위체(photoactive monomer, 조성 1)와 광조사시 이분자체 형성에 의해 중합을 개시하는 광개시제(조성 2)로부터 적어도 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 1항의 광민감성 유기-무기 하이브리드재료는 광조사에 의해 항구적으로 굴절률이 변화되는 것을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 3항에 있어서, 중합이 가능한 유기관능기를 함유하는 올리고 실록산화합물은 다음의 구조식 1-1 또는 구조식 1-2로 표시되는 것을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법 구조식 1-1 구조식 1-2 상기 구조식 1-1 또는 구조식 1-2에서 R1, R2는 아크릴기, 메타크릴기, 알릴기, 비닐기, 또는 에폭시 작용기를 단독 또는 2종 이상 가지는 직쇄, 측쇄 또는 고리형의 C1~12의 탄화수소 화합물이다
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제 3항에 있어서, 중합체 형성이 가능한 유기 단위체 (조성 1)는 부틸 아크릴레이트, 에틸헥실 아크릴레이트, 싸이클로헥실 아크릴레이트, 부탄디올 다이아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트리메틸로프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 다이트리메틸로프로판 테트라아크릴레이트 등의 광감응성 아크릴레이트 계열의 모노머, 메틸 시나메이트, 에틸 시나메이트, 비닐 시나메이트, 아릴 시나메이트, 시나밀 시나메이트, 글리콜 시나메이트, 벤질 시나메이트 등의 광감성성 시나믹 엑시드 및 이시트 계열의 모노머 및 다이카르복실릭 엑시드 시나밀, 메타아크릴릭 엑시드 시나밀 모노머등으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 단위체임을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 3항에 있어서, 이분자체 형성에 의해 중합을 개시하는 광개시제 (조성 2)는 벤조인이서 계열, 벤질케탈 계열, 다이알콕시아세톤페논 계열, 하이드록시알킬페논 계열, 아미노알킬페논 계열등의 단위체로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 단위체임을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 1항에 있어서, 광의 조사단계는 코팅막 상부에 원하는 패턴의 마스크를 형성하여 수행됨을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 1항에 있어서, 광의 조사단계는 마스크 없이 코팅막 상부에 레이저를 직접 조사하여 수행됨을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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제 1항에 있어서, 광의 조사단계는 코팅막 내부에 레이저를 직접 조사하여 수행되는 임베디드 형(embeded-typed)임을 특징으로 하는 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로의 제조방법
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