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자기펄스 압축성형에 의한 분말 성형 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2014007880
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법 및 장치에 관한것으로, 그 목적은 나노(마이크로) 금속 혹은 세라믹 분말의 성형시 국부적인 성형을 억제하고 분말 전체에 일정한 힘이 작용하며, 동시에 분말간의 결합을 위해 운동에너지를 효과적으로 투입할 수 있는 동적성형 방법으로 자기 펄스 성형법을 제공하여 나노분말을 1회의 성형만으로도 95%이상의 진밀도 성형체를 제조하는 방법 및 장치를 제공하는데 있다. 본 발명의 구성은 전도성이 있는 코일에 전류가 흘려 비오사바르 법칙에 의해 일정 크기의 자기장이 발생하는 단계와; 시간에 따라 변화하는 자기장 속에 전도체를 위치시켜 패러데이 법칙에 의해 기전력을 형성시키는 단계와; 저항이 있는 전도체에 발생된 기전력에 의해 옴 법칙에 의하여 전류가 흐르게 하는 단계와; 초기에 발생한 자기장과 새롭게 형성된 전류 사이에 로렌츠 힘이 작용되도록 하여 이로부터 발생된 힘이 한쪽 방향으로 작용하면서 이 힘에 의해 압축력이 발생하여 분말의 성형이 이루어지도록 하는 단계로 이루어진 자기펄스 압축성형단계를 통해 미세분말을 성형하는 방법 및 그 장치를 특징으로 한다. 자기펄스, 압축성형, 분말성형, 금속, 세라믹,
Int. CL B22F 3/087 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01)
CPC B22F 3/087(2013.01) B22F 3/087(2013.01) B22F 3/087(2013.01) B22F 3/087(2013.01) B22F 3/087(2013.01) B22F 3/087(2013.01)
출원번호/일자 1020040022892 (2004.04.02)
출원인 한국원자력연구원, (주) 나노기술
등록번호/일자 10-0545859-0000 (2006.01.18)
공개번호/일자 10-2005-0097681 (2005.10.10) 문서열기
공고번호/일자 (20060124) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.04.02)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 (주) 나노기술 대한민국 대전광역시 대덕구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이창규 대한민국 대전광역시유성구
2 이근희 대한민국 대전광역시유성구
3 김흥회 대한민국 대전광역시유성구
4 홍준화 대한민국 대전광역시유성구
5 김주평 대한민국 서울특별시서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최영규 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년 국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구소 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2004-0137549-52
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2004.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2004-5055269-11
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.05.31 수리 (Accepted) 4-1-2004-0023133-25
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2005-0047475-26
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0429437-44
7 의견서
Written Opinion
2005.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2005-0616886-15
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.10.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0616934-19
9 등록결정서
Decision to grant
2006.01.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0020295-66
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2007-5073714-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.06.01 수리 (Accepted) 4-1-2007-5085193-38
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2007-5117707-02
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2007-5117973-29
14 출원인정보변경(경정)신고서
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2009.03.06 수리 (Accepted) 4-1-2009-5043160-38
15 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
16 출원인정보변경(경정)신고서
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2013.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2013-0033862-81
17 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.12.01 수리 (Accepted) 4-1-2016-5176812-15
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
전도성이 있는 코일에 전류가 흘려 비오사바르(Biosavart) 법칙에 의해 일정 크기의 자기장이 발생하는 단계와; 시간에 따라 변화하는 자기장 속에 전도체를 위치시켜 패러데이(Faraday) 법칙에 의해 기전력(Electromotive force)을 형성시키는 단계와;저항이 있는 전도체에 발생된 기전력(electromotive force)에 의해 옴(Ohm )법칙에 의하여 전류가 흐르게 하는 단계와;초기에 발생한 자기장과 새롭게 형성된 전류 사이에 로렌츠(Lorentz)힘이 작용되도록 하여 이로부터 발생된 힘이 한쪽 방향으로 작용하면서 이 힘에 의해 압축력이 발생하여 분말의 성형이 이루어진 자기펄스압축성형 단계로 이루어지되, 상기 자기펄스압축성형단계는, 성형 몰드 안에 성형하고자 하는 분말을 일정량 장입하는 단계와; 분말이 장입되어 있는 성형 몰드를 자기펄스 압축 장치의 성형부인 진공챔버 내부에 위치시키는 단계와; 성형에 적합한 온도를 맞출 수 있도록 성형몰드의 온도를 대상 재료의 녹는점의 1/2 보다 낮은 온도에서 성형하도록 조절하는 단계와; 주어진 성형 온도조건이 된 것을 확인한 후 자기 펄스 에너지 공급부에 전기에너지를 공급하는 단계와; 원하는 압력을 얻을 수 있는 에너지가 충전된 것을 확인한 후 순간적으로 에너지를 방전하여 자기 펄스 압축력을 발생시키는 단계와; 압축 과정이 끝나면 성형 몰드를 자기 압축 성형부에서 분리한 후 분말 성형체를 성형 몰드로부터 분리하는 단계로 이루어지고,상기 성형압축시 최소 압축력이 1GPa 이상의 압력을 유지하고, 압축력 인가시간이 300μsec 이하인 것을 특징으로 하는 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법
3 3
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4 4
제 2항에 있어서,상기 분말은 금속 혹은 세라믹 분말중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법
5 5
제 2항에 있어서,금속 분말을 사용하는 경우 성형 중에 분말이 변질되지 않도록 진공, 또는 불활성 기체 분위기를 만드는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법
6 6
제 2항에 있어서,상기 미세분말은 나노 또는 마이크로 크기 중 어느 하나의 크기를 가지는 분말인 것을 특징으로 하는 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법
7 7
삭제
8 8
제 2항, 4항, 5항, 6항 중 어느 한 항의 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법을 수행하기 위해 구성되는 수 개의 콘덴서(capacitor)를 연결하여 일정 용량의 전기를 축전할 수 있도록 구성되는 펄스 전류 발생기(PCG - Pulsed Current Generator, 1)를 포함하여 구성된 자기 펄스 에너지 공급부와;펄스 에너지 공급부에서 발생한 펄스 전류가 자기적인 힘으로 전환될 수 있게 하는 스파이럴 유도자(Spiral inductor, 2)와, 이 힘이 한 곳에 더욱 집중될 수 있도록 하는 집중자(concentrator, 3)와, 진공상태 또는 불활성기체가 충전된 상태가 형성되는 진공챔버(Vacuum chamber, 4)와, 진공챔버의 상부 일측에 설치된 탈가스 유닛(Degasing unit, 5)과, 탈가스유닛에 연결된 진공펌프(6)와, 진공 챔버 안에 독립적으로 설치된 가열부와, 진공챔버내에 설치된 성형 몰드 및 상기 성형몰드를 상, 하부에서 함을 가해 성형시키는 펀치와, 인가되는 힘을 정량적으로 측정할 수 있는 압력 게이지(Pressure gauge, 7)와, 상기 각 장치를 담고 있는 외부를 이루는 케이싱(8)으로 구성된 상기 자기 펄스 성형부와;자기 펄스 에너지 공급부에 축적될 수 있는 전기를 흘려주도록 온/오프(on/off)되어 축적된 전기가 방출될 수 있도록 하는 스위치가 구비된 컨트롤 패널(9)과, 자기펄스 성형부에서 성형이 진행될 때 발생하는 압력을 가시화하는 오실로스코프(10)와, 오실로스코프와 연결되어 측정된 아날로그 정보를 디지털정보로 변환과정을 거쳐 저장하고 분석하는 컴퓨터(11)로 구성된 것을 특징으로 하는 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 장치
9 8
제 2항, 4항, 5항, 6항 중 어느 한 항의 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 방법을 수행하기 위해 구성되는 수 개의 콘덴서(capacitor)를 연결하여 일정 용량의 전기를 축전할 수 있도록 구성되는 펄스 전류 발생기(PCG - Pulsed Current Generator, 1)를 포함하여 구성된 자기 펄스 에너지 공급부와;펄스 에너지 공급부에서 발생한 펄스 전류가 자기적인 힘으로 전환될 수 있게 하는 스파이럴 유도자(Spiral inductor, 2)와, 이 힘이 한 곳에 더욱 집중될 수 있도록 하는 집중자(concentrator, 3)와, 진공상태 또는 불활성기체가 충전된 상태가 형성되는 진공챔버(Vacuum chamber, 4)와, 진공챔버의 상부 일측에 설치된 탈가스 유닛(Degasing unit, 5)과, 탈가스유닛에 연결된 진공펌프(6)와, 진공 챔버 안에 독립적으로 설치된 가열부와, 진공챔버내에 설치된 성형 몰드 및 상기 성형몰드를 상, 하부에서 함을 가해 성형시키는 펀치와, 인가되는 힘을 정량적으로 측정할 수 있는 압력 게이지(Pressure gauge, 7)와, 상기 각 장치를 담고 있는 외부를 이루는 케이싱(8)으로 구성된 상기 자기 펄스 성형부와;자기 펄스 에너지 공급부에 축적될 수 있는 전기를 흘려주도록 온/오프(on/off)되어 축적된 전기가 방출될 수 있도록 하는 스위치가 구비된 컨트롤 패널(9)과, 자기펄스 성형부에서 성형이 진행될 때 발생하는 압력을 가시화하는 오실로스코프(10)와, 오실로스코프와 연결되어 측정된 아날로그 정보를 디지털정보로 변환과정을 거쳐 저장하고 분석하는 컴퓨터(11)로 구성된 것을 특징으로 하는 자기펄스 압축 성형에 의한 분말 성형 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.