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보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014008071
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따라서 전체 부피를 기준으로 폴리에틸렌이 80~90부피%이고, 보론 화합물과 납 화합물의 합이 10~20부피%이되, 상기 납 화합물이 1 내지 10부피%인 보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재가 제공되며, 이는 보론 화합물 및 납 화합물을 각각 파우더링하는 단계; 상기 분쇄된 보론 화합물과 납 화합물을 폴리에틸렌과 혼합하여 혼합물을 형성하고 승온시키는 단계; 상기 혼합물을 소형 칩으로 제조하는 단계; 및 상기 제조된 소형 칩을 압출 성형하는 단계에 의해 제조된다. 이에 따라 제공되는 차폐재는 중성자와 감마선을 동시에 차폐하는 효과가 있다. 보론, 납, 폴리에틸렌, 방사선 차폐재
Int. CL G21F 1/00 (2006.01)
CPC G21F 1/085(2013.01) G21F 1/085(2013.01)
출원번호/일자 1020050016096 (2005.02.25)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자 10-0889286-0000 (2009.03.11)
공개번호/일자 10-2006-0094712 (2006.08.30) 문서열기
공고번호/일자 (20090319) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.02.25)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오화숙 대한민국 대전 대덕구
2 이창희 대한민국 대전 유성구
3 최병훈 대한민국 대전 유성구
4 김영진 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 코바머티리얼즈 경기도 안산시 단원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2005-0103118-92
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.08.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.09.14 수리 (Accepted) 9-1-2006-0060115-01
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.09.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0548667-86
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0858096-17
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0957270-00
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2007-0053641-11
8 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2007-0143145-10
9 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.03.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0228801-80
10 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0298948-56
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2007-5073714-01
12 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0376508-99
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.06.01 수리 (Accepted) 4-1-2007-5085193-38
14 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0455883-71
15 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2007-0533355-94
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2007-5117707-02
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2007-5117973-29
18 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0607317-27
19 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0684938-09
20 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0753096-67
21 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0841285-87
22 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2007-0922428-42
23 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2008.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2008-0054509-16
24 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2008.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2008-0131661-77
25 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2008.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0210060-23
26 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.04.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0287662-81
27 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2008-0287661-35
28 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0442973-69
29 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.10.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0745479-42
30 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0745478-07
31 등록결정서
Decision to grant		 2009.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0090403-90
32 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
33 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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보론 화합물 및 납 화합물을 각각 파우더링하는 단계;상기 보론화합물과 납 화합물의 분말을 폴리에틸렌 분말에 혼합하여 혼합물을 형성하고 승온시키는 단계;상기 혼합물을 소형 칩으로 제조하는 단계; 및상기 제조된 소형 칩을 압출 성형하는 단계;를 포함하는 보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재의 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 보론 화합물은 무수 보락스(Borax/Na2B4O7), 삼산화보론(B2O3), 붕산(H3BO4)로 구성되는 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는 보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재의 제조방법
6 6
제 4항에 있어서, 상기 납 화합물은 사산화납임을 특징으로 하는 보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재의 제조방법
7 7
제 4항에 있어서, 상기 파우더링 단계에서 보론화합물 및 납 화합물은 12마이크로 이하로 분쇄됨을 특징으로 하는 보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재의 제조방법
8 8
제 4항에 있어서, 상기 소형 칩은 190~200℃의 온도범위에서 6mm~10mm/분의 속도로 압출성형됨을 특징으로 하는 보론 및 납이 함유된 폴리에틸렌 방사선 차폐재의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.