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자기장 하에서 전기도금을 실시하여 도금이 가능한 금속기판 위에 2축 집합조직을 지니는 Ni 도금층을 제조하는 단계와; 상기 2축 집합조직의 Ni 도금층이 도금된 소재를 열처리하여 2축 집합조직의 니켈 도금층을 재결정시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 전기도금법에 의한 2축 집합조직을 갖는 니켈 도금층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 자기장 하에서 전기도금을 실시하여 도금이 가능한 금속기판 위에 2축 집합조직을 지니는 Ni 도금층을 제조하는 단계에서 자기장을 가하는 방법은 음극과 양극이 설치된 전기 도금조 외부에 배치된 전자석에 의하여 자기장을 인가하는 것을 특징으로 하는 전기도금법에 의한 2축 집합조직을 갖는 니켈 도금층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 자기장 하에서 전기도금을 실시하여 도금이 가능한 금속기판 위에 2축 집합조직을 지니는 Ni 도금층을 제조하는 단계에서 니켈전기도금을 실시하는 조건은 황산니켈 150∼400g/ℓ, 염화니켈 20∼80g/ℓ, 붕산 20∼80g/ℓ로 구성되고, pH 1
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제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 자기장 하에서 전기도금을 실시하여 도금이 가능한 금속기판 위에 2축 집합조직을 지니는 Ni 도금층을 제조하는 단계에서 직류도금(DC법)은 직류 3∼15A/dm2의 음극전류 밀도로 행하여지고, 펄스전류 도금(PL법)은 3∼20A/dm2의 전류밀도와 음극전류 통전시간과 휴지시간이 각각 1∼100msec인 조건에서 행하여지고, 페리오딕 역전류도금(PR법)은 직류 3∼20A/dm2의 음극전류밀도와 0
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제1항에 있어서, 상기 자기장 하에서 전기도금을 실시하여 도금이 가능한 금속기판 위에 2축 집합조직을 지니는 Ni 도금층을 제조하는 단계에서 인가되는 자기장의 세기는 0
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제1항에 있어서, 상기 2축 집합조직의 Ni 도금층이 도금된 소재를 열처리하여 2축 집합조직의 니켈 도금층을 재결정시키는 단계에서 열처리조건은 수소, 질소 및 아르곤 가스 분위기 하에서 400∼1200℃의 온도범위로 10분∼10시간 동안 실시하는 것을 특징으로 하는 전기도금법에 의한 2축 집합조직을 가는 니켈 도금층의 제조방법
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제1항 내지 제2항에 있어서, 상기 자기장 하에서 전기도금을 실시하여 도금이 가능한 금속기판 위에 2축 집합조직을 지니는 Ni 도금층을 제조하는 단계에서 자기장을 인가하는 전자석은 전기도금조의 음극 면적보다 2∼5배 큰 면적을 가지며, 전기도금조의 음극과의 설치각도가 0∼90°인 것을 특징으로 하는 전기도금법에 의한 2축 집합조직을 갖는 니켈 도금층의 제조방법
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자기장 하에서 도금이 가능한 금속기판 위에 전기도금되어 c축 배향의 미스오리엔테이션(Misorientation)이 θ-rocking curve로 측정한 피크의 반가폭 값이 7°이내이고, a축과 b축으로 이루어진 평면상에서의 결정립간의 미스오리엔테이션이 φ-scan으로 측정한 피크의 반가폭 값이 21°이내인 입방정 2축 집합조직인 것을 특징으로 하는 전기도금법에 의한 2축 집합조직을 갖는 니켈 도금층
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제10항에 있어서, 상기 2축 집합조직을 갖는 니켈 도금층은 다결정의 도금이 가능한 금속기판 위에 자기장이 인가된 전기도금조에서 도금되어 형성된 된 다음, 열처리하여 재결정되는 것을 특징으로 하는 전기도금법에 의한 2축 집합조직을 갖는 니켈 도금층
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