요약 | 본 발명은 알루미늄 기지조직에 실리콘 카바이드 입자, 또는 실리콘 카바이드 및 실리콘 입자가 형성된 플라즈마 용사에 의한 고열전도도와 저열팽창계수를 가지는 전자패키징용 알루미늄기지 복합재료 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 평균입도 20㎛의 SiC 분말과 평균입도 70㎛의 Al 분말, 또는 평균입도 20㎛의 SiC 분말과 평균입도 45㎛의 Al-20Si 합금분말을 체적비 40∼60:60∼40으로 혼합하여 혼련한 후, 건조하여 타겟(Target)재에 플라즈마 용사함으로써 알루미늄 기지조직에 SiC 입자가 40∼60 부피%와, SiC 입자 사이에 미세한 Si 입자가 10∼20 부피%를 차지하는 플라즈마 용사에 의한 고열전도도와 저열팽창계수를 가지는 알루미늄기지 복합재료 및 그 제조방법을 제공한다.이와 같이, 본 발명은 높은 열전도와 낮은 열팽창계수를 갖는 소재를 얻을 수 있으며, 강도 및 인성이 좋은 저밀도의 부품소재가 제조 가능하며, 특히 부품을 아주 짧은 시간에 제조할 수 있으며 기지소재 또는 몰드의 연속이동에 의한 생산성 향상에 의해 제조 비용을 절감할 수 있다. 전자패키징, 알루미늄기지 복합재료, 플라즈마 용사, 열전도, 열팽창 |
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Int. CL | C22C 1/05 (2006.01) |
CPC | C22C 1/051(2013.01) C22C 1/051(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020010029576 (2001.05.29) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-0413547-0000 (2003.12.18) |
공개번호/일자 | 10-2003-0005439 (2003.01.23) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20031231) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2001.05.29) |
심사청구항수 | 3 |