| 요약 |
본 발명은 마찰계수가 낮으면서도 충분한 내마모성을 구비하고 있는 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 순수한 탄소를 이용한 카본박막 제조공정에 의해 제조되고 다이아몬드 구조와 흑연 구조가 소정의 비율로 혼재된 비정질상으로 이루어지고; 라만분석에서 D-peak의 위치가 1390±10㎝-1, G-peak의 위치가 1580±20㎝-1, ID/IG가 1.2~2를 만족하며; 경도 2~30㎬, 잔류응력 10㎫~2㎬, 표면조도 0.4~6.0㎚, 탄성계수 10~270㎬, 전기저항 1~100mΩ-㎝의 범주에 속하는 것이며, 전압밀도 4.4~13.2W/㎠, 기판온도 상온~400℃, 아르곤(Ar) 압력 1~10mTorr의 조건에서 탄소를 스퍼터링 타겟으로 하여, 상기 기판의 온도와 바이어스 전압을 변화시키면서 기판에 펄스 RF 바이어스를 인가하여 DLC(Diamond Like Carbon)박막과 흑연박막이 혼합된 다층박막을 형성한다.따라서, 마찰계수가 낮아 마이크로 디바이스 제품의 작동성능을 저해하지 않고 높은 내마모성에 의해 제품의 수명이 길어지며 물에 대한 높은 접촉각으로 인해 습식공정 후에도 물이 거의 남지 않게 되므로 부품간 응착이 일어나지 않게 된다.마이크로 디바이스, 보호막, 내마모성, 라만분석, 비정질, 스퍼터링, DLC박막, 흑연박막, 마찰계수, 접촉각
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