1 |
1
고압세정기에 웨이퍼를 장착하는 단계;상기 고압세정기 내에 저압의 고순도 기체 이산화탄소를 주입하는 단계;상기 고압세정기 내에 초임계 세정압력보다 낮은 압력의 이산화탄소를 주입하는 단계;상기 고압세정기 내에, 세정용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물을 초임계 세정압력으로 주입하여 상기 웨이퍼를 세정하는 단계;상기 고압세정기 내에, 헹굼용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 헹굼용 혼합물을 주입하여 상기 웨이퍼를 헹구는 단계; 및상기 고압세정기의 혼합물로부터 이산화탄소를 분리하는 단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
2 |
2
제 1항에 있어서,상기 초임계 세정압력은 120bar 내지 300bar인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
3 |
3
제 1항에 있어서,상기 고압세정기 내에 초임계 세정압력보다 낮은 압력의 이산화탄소를 주입하는 단계는, 상기 고압세정기 내에 초임계 세정압력보다 10bar 내지 40bar 낮은 압력의 이산화탄소를 주입하는 단계인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
4 |
4
제 1항에 있어서,상기 초임계 상태의 이산화탄소와 세정용 첨가제가 혼합된 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물은, 초임계 세정압력보다 높은 압력의 이산화탄소와, 대기압 또는 이산화탄소의 임계 압력보다 낮은 저압상태의 세정용 첨가제를 압력차에 의한 혼합효과를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
5 |
5
제 4항에 있어서,상기 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물의 형성은, 저압상태의 세정용 첨가제에 초임계 세정압력보다 높은 압력의 이산화탄소를 주입하여 압력차에 의한 혼합효과를 이용함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
6 |
6
제 1항에 있어서,상기 웨이퍼를 헹구는 단계를 거친 후, 초임계 상태의 이산화탄소로 상기 웨이퍼를 헹구는 단계를 더 거치는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
7 |
7
제 1항에 있어서,상기 고압세정기의 혼합물로부터 이산화탄소를 분리하는 단계는, 상기 고압세정기의 혼합물을 감압하여 이산화탄소를 기체 상태로 분리하는 단계인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
8 |
8
제 1항에 있어서,상기 고압세정기의 혼합물로부터 이산화탄소를 분리하는 단계를 거친 후, 분리된 이산화탄소를 정제하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
9 |
9
제 8항에 있어서,상기 분리된 이산화탄소의 정제는, 이온성 액체(ionic liquid) 및 흡착제 중 적어도 어느 하나를 이용하여 불순물을 제거하는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
10 |
10
제8항에 있어서,상기 정제된 이산화탄소를 액체 상태로 상변화시키기 위한 응축 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
11 |
11
제 1항에 있어서,상기 헹구는 단계는 상기 세정하는 단계를 거친 후 상기 웨이퍼 상에 잔존하는 세정용 첨가제 또는 세정오염물을 제거하는 단계인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
12 |
12
제 1항에 있어서,상기 세정용 첨가제는 불소계 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정공정
|
13 |
13
제 12항에 있어서,상기 불소계 계면활성제는 탄소수 2 내지 20의 불소계 카르복실산, 평균 분자량이 300 내지 5000인 과불화 에테르계 폴리머 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
14 |
14
제 1항에 있어서,상기 세정용 첨가제는, 불소계 계면활성제 0
|
15 |
15
제 14항에 있어서,상기 불소계 계면활성제는 탄소수 2 내지 20의 불소계 카르복실산, 평균 분자량이 300 내지 5000인 과불화 에테르계 폴리머 또는 이들의 혼합물이고,상기 지방족 아민은 모노에탄올 아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 디에탄올 아민, 이미노비스프로필아민, 2-메틸아미노에탄올, 트리에틸아미노에탄올 또는 이들의 혼합물이고,상기 극성 유기용매는 N,N'-디메틸아세트아미드, 디메틸설폭사이드, 1-메틸-2-피롤리디논, N,N'-디메틸포름아미드, 암모늄플루오라이드 또는 이들의 혼합물이고,상기 알코올계 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 또는 이들의 혼합물이고,상기 에테르계 용매는 에틸렌글리콜 메틸에테르, 에틸렌글리콜 에틸에테르, 에틸렌글리콜 부틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸에테르, 트리에틸렌글리콜 메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 에틸에테르 또는 이들의 혼합물이고,상기 부식방지제는 카테콜(catechol), 갈릭산(gallic acid) 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
16 |
16
제 1항에 있어서,상기 세정용 첨가제는, 불소계 계면활성제 0중량% 내지 90중량%과, 반도체 세정용 스트리퍼 0
|
17 |
17
제 16항에 있어서,상기 불소계 계면활성제는 탄소수 2 내지 20의 불소계 카르복실산, 평균 분자량이 300 내지 5000인 과불화 에테르계 폴리머 또는 이들의 혼합물이고,상기 알코올계 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
18 |
18
제 1항에 있어서,상기 초임계 상태의 이산화탄소와 세정용 첨가제가 혼합된 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물에서 상기 세정용 첨가제는 전체 용적에서 2용적% 내지 30용적%인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
19 |
19
제 1항에 있어서,상기 초임계 상태의 이산화탄소와 헹굼용 첨가제가 혼합된 초임계 상태의 헹굼용 혼합물에서 상기 헹굼용 첨가제는 전체 용적에서 2용적% 내지 30용적%인 것을 특징으로 하는 세정공정
|
20 |
20
제 1항에 있어서,상기 헹굼용 첨가제는 메탄올, 에탄올 이소프로판올 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정공정
|