| 1 |
1
하기 화학식 1의 감광성 고분자
|
| 1 |
1
하기 화학식 1의 감광성 고분자
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 감광성 고분자가 하기 화학식 2의 화합물인 것을 특징으로 하는 감광성 고분자
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 감광성 고분자가 하기 화학식 2의 화합물인 것을 특징으로 하는 감광성 고분자
|
| 3 |
3
하기 화학식 4의 화합물을 상압에서 상이동 촉매 및 유기용매의 존재하에 이산화탄소와 반응시켜 하기 화학식 1의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 감광성 고분자의 제조방법
|
| 3 |
3
하기 화학식 4의 화합물을 상압에서 상이동 촉매 및 유기용매의 존재하에 이산화탄소와 반응시켜 하기 화학식 1의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 감광성 고분자의 제조방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 상이동 촉매가 테트라알킬 암모늄의 할로겐화물이고, 상기 촉매의 알킬기로는 탄소수가 4 내지 12인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 상이동 촉매가 테트라알킬 암모늄의 할로겐화물이고, 상기 촉매의 알킬기로는 탄소수가 4 내지 12인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 5 |
5
제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 상이동 촉매가 테트라옥틸 암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 5 |
5
제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 상이동 촉매가 테트라옥틸 암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 6 |
6
제3항에 있어서, 상기 상이동 촉매의 사용량이 상기 화학식 4의 화합물에 대하여 1/10 내지 1/100의 몰비인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 6 |
6
제3항에 있어서, 상기 상이동 촉매의 사용량이 상기 화학식 4의 화합물에 대하여 1/10 내지 1/100의 몰비인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 7 |
7
제3항에 있어서, 반응온도가 50 내지 150℃인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 7 |
7
제3항에 있어서, 반응온도가 50 내지 150℃인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 8 |
8
제3항에 있어서, 반응시간이 1 내지 10시간인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 8 |
8
제3항에 있어서, 반응시간이 1 내지 10시간인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 9 |
9
제3항에 있어서, 상기 유기용매가 디메틸술폭사이드, 디메틸포름아마이드, 테트라하이드로퓨란인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 9 |
9
제3항에 있어서, 상기 유기용매가 디메틸술폭사이드, 디메틸포름아마이드, 테트라하이드로퓨란인 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 10 |
10
삭제
|
| 10 |
10
삭제
|
| 11 |
11
삭제
|
| 11 |
11
삭제
|
| 12 |
12
삭제
|
| 12 |
12
삭제
|
| 13 |
13
삭제
|
| 13 |
13
삭제
|
| 14 |
14
삭제
|
| 14 |
14
삭제
|
| 15 |
15
삭제
|
| 15 |
15
삭제
|
| 16 |
16
삭제
|
| 16 |
16
삭제
|
| 17 |
16
삭제
|
| 17 |
16
삭제
|
