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코프리너스 시네레우스 유래 퍼옥시다아제를 이용한 페놀계고분자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014009044
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 페놀계 단량체를 극성용매 조건하에서 코프리너스 시네레우스 유래 퍼옥시다아제와 혼합하고, 과산화수소의 산화제를 5 내지 20℃의 반응온도에서 연속 공급하여 중합반응시킴으로써, 생성되는 페닐계 고분자의 중합특성을 제어할 수 있는 페놀계 고분자의 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 상기 제조방법으로부터, 중량수율, 중량평균 분자량 및 페놀의 하이드록실기 비율이 조절된 포토레지스트용 페닐계 고분자를 제공할 수 있으며, 이를 이용한 자외선 감응형 포토레지스트를 제조할 수 있다.(상기에서, X는 없음, CH2, C(CH3)2, O 및 S로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이다.)페놀계 단량체, 페놀계 고분자, 코프리너스 시네레우스, 비스페놀
Int. CL C08G 61/10 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) C08G 61/00 (2006.01)
CPC C08G 61/00(2013.01) C08G 61/00(2013.01) C08G 61/00(2013.01)
출원번호/일자 1020070038661 (2007.04.20)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0834773-0000 (2008.05.28)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080609) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.04.20)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안은숙 대한민국 대전 서구
2 박승영 대한민국 대전 유성구
3 김용환 대한민국 서울 송파구
4 송재광 대한민국 대전 서구
5 류정용 대한민국 대전 유성구
6 송봉근 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신동준 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0299687-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.04.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.05.09 수리 (Accepted) 9-1-2008-0026682-48
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
6 등록결정서
Decision to grant		 2008.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0279670-50
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 페놀계 단량체 및 코프러너스 시네레우스(coprinus cinereus) 유래 퍼옥시다아제를 극성용매 하에 용해시켜 혼합용액을 제조하고, 상기 혼합용액에 과산화수소를 5 내지 20℃의 반응온도에서 2 내지 24 시간동안 일정하여 공급하여 중합반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는, 페놀계 고분자의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 페놀계 단량체가 비스페놀 A, 비스페놀 F, o-크레졸, 4,4'-바이페놀, 4,4'-바이페놀 에테르 및 4,4'-바이페놀 설파이드로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 페놀계 고분자의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 페놀계 단량체가 비스페놀 A인 것을 특징으로 하는 상기 페놀계 고분자의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 극성용매가 2-프로판올 또는 2-프로판올 및 pH 7
5 5
제4항에 있어서, 상기 2-프로판올 및 pH 7
6 6
제1항에 있어서, 상기 페놀계 단량체 및 코프리너스 시네레우스 유래 퍼옥시다아제의 혼합비율이 페놀계 단량체 2,000mg에 대하여, 1,000 내지 40,000 Unit POX인 것을 특징으로 하는 상기 페놀계 고분자의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 과산화수소가 페놀계 단량체 1 몰당 0
8 8
제1항의 제조방법으로부터, 화학식 1로 표시되는 페놀계 단량체를 극성용매하에서 코프리너스 시네레우스 유래 퍼옥시다아제를 이용하여 중합반응시켜 제조되되, 페놀계 단량체로만 연결된 것을 특징으로 하는 페놀계 고분자
9 9
제1항의 제조방법으로부터, 하기 화학식 1-1로 표시되는 비스페놀 A 단량체를 중합반응시켜 제조되되, 중량평균 분자량이 2,900 내지 3,500인 것을 특징으로 하는 화학식 2로 표시되는 포토레지스트용 비스페놀 A 고분자
10 10
제9항의 포토레지스트용 비스페놀 A 고분자 1 중량부에 대하여, 아조계 화합물로 이루어진 광활성 화합물 0
11 11
제10항에 있어서, 상기 아조계 화합물로 이루어진 광활성 화합물이 디아조나프토퀴논인 것을 특징으로 하는 상기 비스페놀 A 고분자를 이용한 포토레지스트의 제조방법
12 12
제10항에 있어서, 상기 유기용매가 메틸셀루솔브 또는 에틸셀루솔브에서 선택되는 것을 특징으로 하는 상기 비스페놀 A 고분자를 이용한 포토레지스트의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.