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전자빔을 이용한 패턴형성장치, 그 제어방법 및 패턴형성방법

  • 기술번호 : KST2014009935
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자빔을 이용한 패턴형성장치에 관한 것으로서, 좀 더 자세하게는 전자빔을 사용하여 보다 세밀하고 넓은 범위에 전자회로패턴을 형성하기 위하여 본 발명의 일 형태에 따르면, 패턴이 형성되며, 형성된 패턴을 시료에 전사(轉寫)하는 패턴형성 대상물; 상기 패턴형성 대상물의 표면에 서로 인접한 패턴 형성영역을 갖도록 배치되는 적어도 1개 이상의 전자빔 방출장치를 포함하여 이루어지는 전자빔을 이용한 패턴형성장치를 제공한다.전자빔, 회로패턴, 분할
Int. CL H01L 21/26 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020080035802 (2008.04.17)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-0866337-0000 (2008.10.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081031) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.04.17)
심사청구항수 21

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강은구 대한민국 서울 영등포구
2 홍원표 대한민국 인천 연수구
3 이석우 대한민국 충청남도 천안시
4 최헌종 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2008-0275111-10
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2008.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2008-0316926-10
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.06.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.07.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0362846-14
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2008-0042770-33
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.08.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0607915-55
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0607839-83
8 등록결정서
Decision to grant		 2008.10.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0523485-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
패턴이 형성되도록 원통형상으로 이루어져 회전가능하게 구비되는 패턴형성대상물을 회전가능하게 지지하며 회전축 방향으로 이동시키는 고정부; 및상기 패턴형성 대상물의 표면에 서로 연속된 패턴 형성영역을 갖도록 배치되는 복수개의 전자빔 방출장치;를 포함하여 이루어지는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 전자빔방출장치는,상기 패턴형성 대상물의 둘레부에 복수개가 배열되는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
4 4
제1항에 있어서,상기 패턴형성 대상물을 표면에 형성된 회로패턴을 시료에 전사(轉寫)하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
5 5
전자빔을 주사하는 복수개의 전자빔 방출장치; 및상기 각 전자빔 방출장치에서 방출된 전자빔에 의해 회로패턴이 형성되는 영역을 갖는 패턴형성 대상물에 형성되는 회로패턴의 영역이 상기 패턴형성 대상물에 기 형성된 회로패턴과 서로 연속되는 위치에 형성도록 이동되는 상기 패턴형성 대상물을 고정하는 고정부;를 포함하여 이루어지는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
6 6
제5항에 있어서,상기 패턴형성 대상물은 원통형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
7 7
제5항에 있어서,상기 고정부는,상기 전자빔 방출장치에 의해 상기 패턴형성 대상물의 표면에 형성되는 회로패턴이 기 형성된 회로패턴과 연속되도록 회전하는 상기 패턴형성 대상물을 회전 가능하게 지지하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
8 8
제7항에 있어서,상기 고정부는, 상기 전자빔 방출장치에 의해 상기 패턴형성 대상물의 표면에 형성되는 회로패턴이 기 형성된 회로패턴과 연속되도록 상기 패턴형성 대상물을 그 회전축 방향으로 이송시키는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
9 9
제5항에 있어서,상기 고정부는 상기 패턴형성 대상물을 탈착 가능하게 고정하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
10 10
제5항에 있어서,상기 고정부의 위치를 이동시키는 이송부가 더 포함되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
11 11
제10항에 있어서,상기 이송부는,상기 고정부를 X, Y, Z축 중 적어도 어느 한 축 방향으로 이송시키는 것임을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
12 12
제10항에 있어서,상기 이송부는,상기 전자빔 방출장치에 의해 상기 패턴형성 대상물의 표면에 형성되는 패턴이 기 형성된 회로패턴과 연속되는 위치에 형성될 수 있도록 상기 패턴형성 대상물을 이송하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
13 13
제5항에 있어서,상기 패턴형성 대상물의 표면에 형성된 회로패턴을 시료에 전사(轉寫)하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치
14 14
패턴형성 대상물 표면에 전자회로패턴의 일부를 형성하는 제1단계; 및상기 패턴형성 대상물의 표면을 이동하여 이동된 면에 상기 1단계에서 형성된 일부의 전자회로패턴과 연속된 전자회로패턴을 형성하는 제2단계;를 수행하는 전자빔을 이용한 패턴형성방법
15 15
제14항에 있어서,상기 제1단계 및 제2단계에서 상기 전자회로패턴은 전자빔 방출장치로서 형성하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성방법
16 16
제14항에 있어서,상기 제2단계에서, 상기 패턴형성 대상물의 표면의 이동은 상기 패턴형성 대상물의 회전으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성방법
17 17
제14항에 있어서,상기 패턴형성 대상물을 표면에 형성된 회로패턴을 시료에 전사(轉寫)하는 전사단계를 더 수행하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성방법
18 18
전체 회로패턴을 입력받는 입력단계;상기 입력된 전체 회로패턴을 복수개의 영역으로 분할하는 분할단계;패턴형성 대상물의 표면에 상기 분할된 회로패턴 중 어느 한 부분을 형성하는 제1패턴형성단계;상기 패턴형성 대상물의 표면을 전 단계에서 형성된 회로패턴의 영역만큼 이동시키는 이동단계; 및이동된 패턴형성 대상물의 표면에 나머지 회로패턴 중 적어도 일부분의 회로패턴을 기 형성된 회로패턴과 연속적으로 형성되도록 형성하는 제2패턴형성단계; 를 수행하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치의 제어방법
19 19
제18항에 있어서,상기 제1패턴형성단계와 이동단계 및 제2패턴형성단계는 동시에 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치의 제어방법
20 20
제18항에 있어서,상기 패턴형성 대상물은 원통형의 형상으로 이루어지며, 상기 패턴형성 대상물의 표면의 이동은 상기 패턴형성 대상물의 회전으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치의 제어방법
21 21
제18항에 있어서,상기 제1패턴형성단계 및 제2패턴형성단계는 전자빔 방출장치로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형상장치의 제어방법
22 22
제18항에 있어서,상기 패턴형성 대상물을 표면에 형성된 회로패턴을 시료에 전사(轉寫)하는 전사단계를 더 수행하는 것을 특징으로 하는 전자빔을 이용한 패턴형성장치의 제어방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.