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급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치 및 가열방법

  • 기술번호 : KST2014010032
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치 및 가열 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나노임프린트 리소그래피용 금속몰드를 고주파유도가열을 이용해 급속으로 가열하되, 고주파유도가열 코일을 사각스프링형상으로 금속몰드를 감싸도록 형성함으로써 균일한 온도분포를 유지할 수 있고, 급속으로 가열된 금속몰드는 고분자 레지스트(polymer resist)의 표면만 순간적으로 유리전이온도(Tg)이상으로 가열시켜 이미 금속몰드에 각인된 미세패턴을 고분자 레지스트에 가압하여 전사시키는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치 및 가열 방법에 관한 것이다.상기한 바와 같은 목적을 달성하고 종래의 결점을 제거하기 위한 과제를 수행하는 본 발명의 목적은 고분자 레지스트의 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형할 수 있는 임프린트 리소그래피 장치에 있어서, 내부에 밀폐 공간 형성이 가능한 챔버; 상기 챔버 내부의 압력(진공)을 조절할 수 있는 압력조절 수단; 상기 챔버 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 가공대상물이 위치되는 하부 베이스; 상기 챔버 내부 상측에 마련되며 그 하부에 스탬프가 위치되는 상부 베이스; 상기 하부베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; 하부베이스에 일측이 고정되고 상부 베이스와의 상대적인 이동이 가능하도록 설치되는 가압수단; 냉각수가 내부에 순환되는 상부지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속스탬프, 금속스탬프의 패턴이 전사되는 고분자 레지스트 및 고분자 레지스트의 하부에 위치하는 금속스탬프와 동일한 크기 및 재질로 이루어지는 금속지지판; 상기 고분자 레지스트를 금속스탬프와 금속지지판재 사이에 공급하는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피 장치를 제공함으로서 달성된다.나노임프린트 리소그래피, 미세 임프린트, 스탬프, 유도가열, 코일
Int. CL H01L 21/324 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/027 (2011.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020070027160 (2007.03.20)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-0868300-0000 (2008.11.05)
공개번호/일자 10-2008-0085510 (2008.09.24) 문서열기
공고번호/일자 (20081111) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.03.20)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강정진 대한민국 서울 서대문구
2 홍석관 대한민국 서울 강서구
3 허영무 대한민국 서울 광진구
4 이성희 대한민국 서울 양천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최영규 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년 국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)
2 장순부 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0221012-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.02.13 수리 (Accepted) 9-1-2008-0006536-22
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.04.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0206890-09
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2008-0404612-76
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.06.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0404611-20
7 등록결정서
Decision to grant
2008.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0503245-14
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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삭제
2 2
고분자 레지스트 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치에 있어서,장치의 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 금속 지지판이 위치되는 하부 베이스; 장치의 내부 상측에 마련되며, 그 하부에 금속 스탬프가 위치되며 하방에 다수의 삽입홈이 형성된 상부 베이스; 상기 하부 베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; 하부 베이스에 일측이 고정되고 상기 상부 베이스에 형성된 삽입 홈에 코일의 각 권이 삽입될 수 있도록 설치되며 금속스탬프를 감싸듯이 회전하는 스프링 형상의 사각 나선형 코일;상부 지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속 스탬프, 상기 금속 스탬프와 동일한 재질의 금속 지지판, 상기 금속 스탬프와 지지판재 사이에 안치되는 고분자 레지스트, 상기 고분자 레지스트를 공급하는 소재공급수단을 포함하되,상기 나선형 코일의 양 끝단의 권선간격을 중앙부보다 좁게 하여 온도편차를 줄일 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치
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고분자 레지스트 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치에 있어서,장치의 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 금속 지지판이 위치되는 하부 베이스; 장치의 내부 상측에 마련되며, 그 하부에 금속 스탬프가 위치되며 하방에 다수의 삽입홈이 형성된 상부 베이스; 상기 하부 베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; 하부 베이스에 일측이 고정되고 상기 상부 베이스에 형성된 삽입 홈에 코일의 각 권이 삽입될 수 있도록 설치되며 금속스탬프를 감싸듯이 회전하는 스프링 형상의 사각 나선형 코일;상부 지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속 스탬프, 상기 금속 스탬프와 동일한 재질의 금속 지지판, 상기 금속 스탬프와 지지판재 사이에 안치되는 고분자 레지스트, 상기 고분자 레지스트를 공급하는 소재공급수단을 포함하되,상기 코일의 안으로는 냉각수가 흘러서 코일 자체의 온도 상승을 억제해 주도록 하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치
4 4
고분자 레지스트 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치에 있어서,장치의 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 금속 지지판이 위치되는 하부 베이스; 장치의 내부 상측에 마련되며, 그 하부에 금속 스탬프가 위치되며 하방에 다수의 삽입홈이 형성된 상부 베이스; 상기 하부 베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; 하부 베이스에 일측이 고정되고 상기 상부 베이스에 형성된 삽입 홈에 코일의 각 권이 삽입될 수 있도록 설치되며 금속스탬프를 감싸듯이 회전하는 스프링 형상의 사각 나선형 코일;상부 지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속 스탬프, 상기 금속 스탬프와 동일한 재질의 금속 지지판, 상기 금속 스탬프와 지지판재 사이에 안치되는 고분자 레지스트, 상기 고분자 레지스트를 공급하는 소재공급수단을 포함하되,상기 상부베이스와 하부베이스 사이에는 성형시 금속스탬프와 금속 지지판의 압력을 균일하게 하고 내부에 냉각채널이 형성되어 냉각수를 통과시켜 가열된 금속 스탬프와 금속 지지판을 냉각시켜주는 상후 지지판 및 하부 지지판이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치
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고분자 레지스트 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치에 있어서,장치의 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 금속 지지판이 위치되는 하부 베이스; 장치의 내부 상측에 마련되며, 그 하부에 금속 스탬프가 위치되며 하방에 다수의 삽입홈이 형성된 상부 베이스; 상기 하부 베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; 하부 베이스에 일측이 고정되고 상기 상부 베이스에 형성된 삽입 홈에 코일의 각 권이 삽입될 수 있도록 설치되며 금속스탬프를 감싸듯이 회전하는 스프링 형상의 사각 나선형 코일;상부 지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속 스탬프, 상기 금속 스탬프와 동일한 재질의 금속 지지판, 상기 금속 스탬프와 지지판재 사이에 안치되는 고분자 레지스트, 상기 고분자 레지스트를 공급하는 소재공급수단을 포함하되,상기 하부 베이스, 상부 베이스, 슬라이드 가이드 바, 상부 지지판, 하부 지지판은 비도체로 소재를 사용하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치
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고분자 레지스트에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 방법에 있어서, 상부 베이스를 상승시켜서 상부베이스와 하부베이스 사이에 공간을 형성 시키는 단계, 패턴이 기록될 고분자 레지스트를 공급수단에 의해 금속스탬프와 금속 지지판 사이에 안치시키는 단계, 압력조절수단을 가동하여 챔버내부의 압력을 조절하여 진공화하는 단계, 스프링형상의 나선형 코일에 고주파를 흘려 금속스탬프와 금속 지지판재를 급속 가열하는 단계, 가열된 금속스탬프와 금속 지지판에 의해서 고분자 레지스트의 표면이 순간적으로 가열된 상태에서 금속스탬프를 가압함으로써 금속스탬프에 각인된 미세 패턴이 고분자 레지스트에 전사되는 단계, 가열 가압 후 코일의 전류를 차단하고 상부 및 하부 지지판에 냉각수를 흘려 금속스탬프와 금속 지지판을 냉각시켜 고분자 레지스트를 냉각하는 단계, 상부베이스를 상승시키는 단계, 금속스탬프와 금속 지지판을 열고 성형물을 추출하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 가열방법
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국가 R&D 정보가 없습니다.