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내부에 공간부(110)가 형성된 하우징(100)과;
상기 하우징(100) 외측에 형성되어 상기 공간부(110)에 반응가스에 의한 플라즈마를 발생시키는 플라즈마발생부(200)와;
상기 하우징(100) 하측에 결합되어, 상기 공간부(110)에 반응가스 또는 플라즈마를 유입시키는 가스공급부(300)와;
상기 공간부(110)에 형성되며, 삿갓 형상을 이루어 나노분말의 상측으로의 흐름을 차단시키는 분말차단부(400)와;
상기 하우징(100) 내벽에 지지 결합되어 상기 공간부(110) 중심에 수직으로 형성되며, 상기 분말차단부(400)가 결합되는 지지부(500)와;
상기 하우징(100) 상측에 형성되며, 나노분말을 거르고 반응가스를 배기시키는 배기부(600);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 하우징(100)은,
길이 방향으로 긴 원통형상으로 형성되며, 투명한 절연재로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제 2항에 있어서, 상기 하우징(100)은,
내열유리 또는 석영으로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제2항에 있어서, 상기 하우징(100)은,
적어도 한 개 이상으로 수평방향으로 분리결합이 가능한 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마발생부(200)는,
상기 하우징(100) 외측에 길이 방향으로 다수개가 구비되는 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제1항에 있어서, 상기 가스공급부(300)는,
상면이 요철형상을 이루며, 상부에 내외부로 관통하는 가스공급공(310)이 형성된 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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7
제 6항에 있어서, 상기 가스공급부(300)는,
외부의 상압 플라즈마발생장치와 연결되어 상기 가스공급공(310)으로 플라즈마가 공급되는 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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8
제 7항에 있어서, 상기 외부의 상압 플라즈마발생장치는,
유전체장벽방전에 의한 플라즈마발생장치인 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제1항에 있어서, 상기 분말차단부(400)는,
나노분말의 양 및 하우징(100)의 크기에 따라 다수개가 상기 지지부(500)의 외주면에 일정 간격으로 결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제10항에 있어서, 상기 분말차단부(400)는,
하단부가 상기 하우징(100)의 내벽과 이격되게 형성되는 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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제1항에 있어서, 상기 배기부(600)는,
상기 하우징(100) 상측에 다수개로 구비된 트랩(610)과, 상기 트랩(610)에 인접하여 배기된 나노분말을 거르는 나노메시(620)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 나노분말의 상압 플라즈마 표면 처리 장치
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