1 |
1
다층 후막 테이프의 제조를 위한 베이스 필름을 연속적으로 공급해주는 필름 공급장치와, 상기 연속적으로 공급 및 이송되는 필름의 이동 속도를 제어하는 필름 속도제어장치와, 후막 건조/안정화 장치의 일측에 설치되며, 후막 건조/안정화 장치에 의해 건조된 후막 위에 다음 공정에서의 이종 후막을 캐스팅하기 위해 그 표면에 소정 두께로 이형제를 코팅하는 이형제 코팅장치, 및 상기 이형제 코팅장치에 의해 일정한 두께로 이형제가 코팅되도록 제어하는 이형제 코팅 제어장치를 구비한 다층후막 복합유전체 테이프의 제조장치에 있어서: 복합 유전체 반죽인 슬러리를 그 내부에 가지고 있어, 상기 필름 공급장치로부터 공급된 필름 위에 복합 유전체 슬러리를 일정한 두께로 성형하며, 상기 필름 위에 형성되는 후막의 두께를 조절하기 위한 블레이드 니들 게이지(140g)가 마련되는 복수의 슬러리 챔버/닥터 블레이드(140a~140c); 상기 지지프레임의 상면부의 상기 슬러리 챔버/닥터 블레이드에 근접 설치되며, 닥터 블레이드에 의해 성형된 후막을 일정한 두께와 폭, 그리고 물성을 유지하도록 표면을 안정화시키는 한편 용매를 휘발시키되, 내부에는 성형된 후막의 표면을 안정화시키기 위한 광-조사장치(152)와 히팅 안정화 롤러(154)가 각각 설치되고, 건조실의 일측에는 성형된 후막으로부터 용매를 휘발시키기 위한 가스의 주입을 위한 가스주입구(152)와, 사용 후의 가스의 배출을 위한 가스배출구(154)가 각각 마련되어 있는 복수의 후막 건조/안정화 장치(150a∼150c);상기 지지프레임의 타측 단부에 설치되며, 상기 최종 성형된 후막 필름을 다시 감아 정리하는 성형후막 필름 회수장치(180); 및상기 장치들을 전체적으로 지지 및 고정하는 지지프레임(110)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조장치
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 광-조사장치는 레이저 또는 할로겐 램프 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조장치
|
5 |
5
삭제
|
6 |
6
다층 후막 테이프의 제조를 위한 베이스 필름을 연속적으로 공급해주는 필름 공급장치; 연속적으로 공급 및 이송되는 필름의 이동 속도를 제어하는 필름 속도제어장치; 복합 유전체 반죽인 슬러리를 그 내부에 가지고 있으며, 공급된 필름 위에 복합 유전체 슬러리를 일정한 두께로 성형하는 복수의 슬러리 챔버/닥터 블레이드; 성형된 후막을 일정한 두께와 폭, 그리고 물성을 유지하도록 표면을 안정화시키는 한편 용매를 휘발시키는 복수의 후막 건조/안정화 장치; 건조된 후막 위에 다음 공정에서의 이종 후막을 캐스팅하기 위해 그 표면에 소정 두께로 이형제를 코팅하는 이형제 코팅장치; 이형제 코팅장치에 의해 일정한 두께로 이형제가 코팅되도록 제어하는 이형제 코팅 제어장치; 및 최종 성형된 후막 필름을 다시 감아 정리하는 성형후막 필름 회수장치를 구비하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조장치에 의해 다층후막 복합유전체 테이프를 제조하기 위한 방법에 있어서, a) 다층후막 복합유전체 테이프의 제조를 위한 베이스 필름을 상기 필름 공급장치에 의해 공정 라인상에 공급해 주는 단계; b) 상기 공급되어 이송되는 필름 위에 상기 슬러리 챔버/닥터 블레이드에 의해 복합 유전체 슬러리를 일정한 두께로 성형하는 단계;c) 성형된 후막을 일정한 두께와 폭, 그리고 물성을 유지하도록 상기 후막 건조/안정화 장치에 의해 표면을 안정화시키는 한편 용매를 휘발시키는 단계;d) 건조된 후막 위에 다음 공정에서의 이종 후막을 캐스팅하기 위해 상기 이형제 코팅장치에 의해 그 표면에 소정 두께로 이형제를 코팅하는 단계;e) 상기 단계 b)∼d)의 과정을 이후의 복수의 다른 슬러리 챔버/닥터 블레이드, 후막 건조/안정화 장치, 이형제 코팅장치를 차례로 거치면서 복수회 반복 실행하는 단계; 및f) 상기 최종 이형제 코팅장치를 거친 다층후막 필름을 상기 성형후막 필름회수장치에 의해 다시 감아 정리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조방법
|
7 |
7
제6항에 있어서,상기 단계 c)에서의 성형된 후막으로부터 용매를 휘발시키기 위하여 질소 또는 아르곤 가스 중의 어느 하나를 상기 후막 건조/안정화 장치에 주입하는 것을 특징으로 하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조방법
|
8 |
8
제7항에 있어서,상기 후막으로부터 용매를 휘발시키기 위해 주입되는 질소 또는 아르곤 가스는 외부에서 70∼80℃ 정도로 가열되어 주입되는 것을 특징으로 하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조방법
|
9 |
9
제6항에 있어서,상기 단계 b) 내지 e)의 과정을 수행함에 있어서, 상기 복수의 슬러리 챔버/닥터 블레이드에 세라믹 슬러리를 사용할 경우, 이웃하는 슬러리 챔버/닥터 블레이드에 서로 다른 세라믹 슬러리를 사용하여 필름에 다층의 이종 유전체 후막을 성형하거나, 복수의 슬러리 챔버/닥터 블레이드에 모두 동일한 세라믹 슬러리를 사용하여 다층의 동종 유전체 후막을 성형하는 것을 특징으로 하는 다층후막 복합유전체 테이프의 제조방법
|