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시료가 장착되며, 진공조 내에 서로 대향하는 방향으로 마주하여 설치되는 적어도 한 쌍의 시료대;각각의 상기 시료대에 연결되어 공통의 음의 고전압 펄스를 공급하며, 각각의 상기 시료대 사이에서의 이차전자의 비행시간에 따라 공급되는 상기 펄스의 펄스폭을 결정하는 펄스전원 공급부;상기 진공조 내에 플라즈마화할 가스를 공급하는 가스 공급부; 및상기 가스 공급부에 의해 공급된 상기 가스를 플라즈마로 변환시키는 플라즈마 변환부를 포함하고,상기 플라즈마 변환부에 의해 변환된 상기 플라즈마를 이용하여 상기 시료의 표면에 플라즈마 이온을 주입시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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제 1항에 있어서, 상기 진공조의 외측벽에 장착되며, 상기 진공조 내의 플라즈마 분포를 균일하게 유지시키는 복수의 영구자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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제 2항에 있어서, 각각의 상기 시료대와 상기 진공조 사이에 상기 플라즈마가 발생되는 것을 차단하기 위한 차폐막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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삭제
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제 2항에 있어서, 각각의 상기 시료대 사이의 간격은, 상기 펄스전원 공급부에 의해 공급되는 상기 펄스의 펄스폭 및 전압에 따라 소정의 거리로 유지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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제 2항에 있어서, 각각의 상기 시료대는 상기 진공조에 대하여 전기적으로 절연된 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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제 2항에 있어서, 각각의 상기 시료대는 수소의 흡수가 용이한 팔라듐이나 백금으로 구현되며, 상기 가스 공급부는 중수소 또는 삼중수소를 상기 플라즈마용 가스로 공급하여 상기 중수소 또는 상기 삼중수소를 중성자 원으로 하는 중성자 발생장치로 이용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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제 2항에 있어서, 상기 플라즈마 변환부는 전자 싸이클로트론 공명(ECR : Electron Cyclotron Resonance)에 의한 플라즈마 소스, 헬리콘(Helicon) 플라즈마 소스, 평판형 유도 결합 플라즈마(ICP : Inductively Coupled Plasma) 소스, RF(Radio Frequency) 플라즈마 소스, 열 필라멘트 또는 열 음극에 의한 플라즈마 소스 중의 어느 하나의 플라즈마 소스에 의해 구현되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입장치
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(a) 진공조 내의 서로 대향하는 방향으로 마주하여 설치된 한 쌍의 시료대에 시료를 장착하는 단계;(b) 상기 진공조 내에 플라즈마화할 가스를 공급하는 단계;(c) 공급된 상기 가스를 플라즈마로 변환시키는 단계; (d) 각각의 상기 시료대에 공통의 음의 고전압 펄스를 공급하는 단계; 및(e) 변환된 상기 플라즈마를 이용하여 상기 시료의 표면에 플라즈마 이온을 주입시키는 단계를 포함하며, 상기 (d) 단계는, 각각의 상기 시료대 사이에서의 이차전자의 비행시간에 따라 공급되는 상기 펄스의 펄스폭을 결정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입방법
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제 9항에 있어서, (f) 각각의 상기 시료대와 상기 진공조 사이에 상기 플라즈마가 발생되는 것을 차단하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입방법
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삭제
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제 10항에 있어서, (g) 공급되는 상기 펄스의 펄스폭 및 전압에 따라 각각의 상기 시료대 사이의 간격을 소정 거리로 조절하여 유지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입방법
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제 10항에 있어서, (g) 공급되는 상기 펄스의 펄스폭 및 전압에 따라 각각의 상기 시료대 사이의 간격을 소정 거리로 조절하여 유지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 주입방법
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