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세라믹 액츄에이터용 압전 세라믹 조성물 및 압전 세라믹 제조방법

기술번호 : KST2014012447
담당센터 : 부산기술혁신센터
전화번호 : 051-606-6561

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 적층형 압전변위소자용에 적합한 압전세라믹 조성 및 압전 세라믹 제조방법을 제공하기 위한 것이다. 본 발명은 (Pb1-3a/2Ya)[(Ni1/3Nb2/3)x(TiyZr1-x-y)O3 + b wt.%CuO의 조성에서 x=0.05~0.2, y=0.4~0.55이고, Pb자리에 이트륨(Yittrium)의 치환량인 a = 0 ~ 5몰비로 치환되고, CuO 첨가량 b = 0 ~ 1중량비로 첨가된 압전세라믹스 조성물로 높은 압전상수와 저온소성이 가능한 소재를 제공한다. 그리고, 본 발명은 PbO, ZrO2, TiO2, NiO, Nb2O5, Y2O3, CuO 세라믹 분말을 소정 조성을 갖도록 평량하는 제 1단계와; 상기 세라믹 분말을 습식 혼합하는 제 2단계와; 상기 혼합된 세라믹 혼합물을 건조후 하소하는 제 3단계와; 상기 하소된 세라믹 조성물에 소정량의 CuO를 첨가하여 습식 분쇄한 후에 성형하는 제 4단계와; 상기 성형된 성형체를 소결하고 이 소결체의 양면을 연마 가공하는 제 5단계와; 상기 연마된 소결체의 양면에 전극을 형성하는 제 6단계와; 상기 전극이 형성된 소결체를 분극 처리하는 제 7단계를 포함하여 이루어진 압전 세라믹 제조방법을 제공한다. 압전 세라믹, 압전 상수, 저온 소성
Int. CL	H01L 41/187 (2006.01) C04B 35/472 (2006.01)
CPC	C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01) C04B 35/472(2013.01)
출원번호/일자	1020020033021 (2002.06.12)
출원인	한국전기연구원
등록번호/일자	10-0481226-0000 (2005.03.26)
공개번호/일자	10-2003-0096505 (2003.12.31) 문서열기
공고번호/일자	(20050407) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2002.06.12)
심사청구항수	8

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국전기연구원	대한민국	경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	송재성	대한민국	경상남도창원시
2	정순종	대한민국	서울특별시강북구
3	이재신	대한민국	울산광역시남구
4	최해윤	대한민국	경상북도경주시
5	권정호	대한민국	울산광역시남구
6	최문석	대한민국	울산광역시남구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	박래봉	대한민국	서울특별시 송파구 정의로길 * 힐스테이트에코송파 B동 ***호(로앤텍국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국전기연구원	대한민국	경상남도 창원시 성산구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2002.06.12	수리 (Accepted)	1-1-2002-0183848-42
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2004.01.12	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2004.02.13	수리 (Accepted)	9-1-2004-0009251-92
4	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2004.08.26	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2004-0347462-40
5	의견서 Written Opinion	2004.10.06	수리 (Accepted)	1-1-2004-0452892-53
6	명세서 등 보정서 Amendment to Description, etc.	2004.10.06	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2004-0452891-18
7	등록결정서 Decision to grant	2005.02.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0080748-08
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2009.11.17	수리 (Accepted)	4-1-2009-5220117-37
9	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.11.08	수리 (Accepted)	4-1-2010-5207456-63
10	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006987-25

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 (Pb1-3a/2Ya)[(Ni1/3Nb2/3)x(TiyZr1-x-y)]O3 + b wt
2	2 PbO, ZrO2, TiO2, NiO, Nb2O5, Y2O3, CuO 세라믹 분말을, 압전 세라믹이 (Pb1-3a/2Ya)[(Ni1/3Nb2/3)x(TiyZr1-x-y)]O3 + b wt
3	3 삭제
4	4 제 2항에 있어서, 제 2단계에서의 습식 혼합은 볼 밀링방법으로 12~48시간의 범위에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법
5	5 제 2항에 있어서, 상기 제 3단계에서의 하소는 850~1100℃에서 2~4시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법
6	6 제 2항에 있어서, 상기 제 4단계에서의 성형은 프레스를 이용하여 압축성형법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법
7	7 제 2항에 있어서, 상기 제 5단계에서의 소결은 전기로에서 약 900~1200℃의 온도범위에서 1~3 시간동안 행하는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법
8	8 제 2항에 있어서, 상기 제 6단계에서의 전극은 상기 소결체의 양면에 인쇄 도포법으로 은전극을 바르고 소분하여 형성하는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법
9	9 제 2항에 있어서, 상기 제 7단계에서의 분극처리는 상기 전극이 형성된 소결체를 2~4kV/mm, 유지시간 10~60분, 온도 100~150℃의 조건에서 행하는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법
10	9 제 2항에 있어서, 상기 제 7단계에서의 분극처리는 상기 전극이 형성된 소결체를 2~4kV/mm, 유지시간 10~60분, 온도 100~150℃의 조건에서 행하는 것을 특징으로 하는 압전 세라믹 제조방법

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-0481226-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20020612 출원 번호 : 1020020033021 공고 연월일 : 20050407 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20050223 청구범위의 항수 : 8 유별 : C04B 35/472 발명의 명칭 : 세라믹 액츄에이터용 압전 세라믹 조성물 및 압전 세라믹 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20140327

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국전기연구원 경상남도 창원시 성산구...

등록료란

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제 1 - 3 년분	금 액	256,500 원	2005년 03월 28일	납입
제 4 년분	금 액	235,000 원	2008년 03월 25일	납입
제 5 년분	금 액	216,000 원	2009년 03월 27일	납입
제 6 년분	금 액	216,000 원	2010년 03월 03일	납입
제 7 년분	금 액	404,000 원	2011년 02월 25일	납입
제 8 년분	금 액	404,000 원	2012년 02월 28일	납입
제 9 년분	금 액	404,000 원	2013년 03월 06일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2002.06.12	수리 (Accepted)	1-1-2002-0183848-42
2	선행기술조사의뢰서	2004.01.12	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2004.02.13	수리 (Accepted)	9-1-2004-0009251-92
4	의견제출통지서	2004.08.26	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2004-0347462-40
5	의견서	2004.10.06	수리 (Accepted)	1-1-2004-0452892-53
6	명세서 등 보정서	2004.10.06	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2004-0452891-18
7	등록결정서	2005.02.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0080748-08
8	출원인정보변경(경정)신고서	2009.11.17	수리 (Accepted)	4-1-2009-5220117-37
9	출원인정보변경(경정)신고서	2010.11.08	수리 (Accepted)	4-1-2010-5207456-63
10	출원인정보변경(경정)신고서	2015.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006987-25


기술번호	KST2014012447
자료제공기관	NTB
기술공급기관	한국전기연구원
기술명	세라믹 액츄에이터용 압전 세라믹 조성물 및 압전 세라믹 제조방법
기술개요	본 발명은 적층형 압전변위소자용에 적합한 압전세라믹 조성 및 압전 세라믹 제조방법을 제공하기 위한 것이다. 본 발명은 (Pb1-3a/2Ya)[(Ni1/3Nb2/3)x(TiyZr1-x-y)O3 + b wt.%CuO의 조성에서 x=0.05~0.2, y=0.4~0.55이고, Pb자리에 이트륨(Yittrium)의 치환량인 a = 0 ~ 5몰비로 치환되고, CuO 첨가량 b = 0 ~ 1중량비로 첨가된 압전세라믹스 조성물로 높은 압전상수와 저온소성이 가능한 소재를 제공한다. 그리고, 본 발명은 PbO, ZrO2, TiO2, NiO, Nb2O5, Y2O3, CuO 세라믹 분말을 소정 조성을 갖도록 평량하는 제 1단계와; 상기 세라믹 분말을 습식 혼합하는 제 2단계와; 상기 혼합된 세라믹 혼합물을 건조후 하소하는 제 3단계와; 상기 하소된 세라믹 조성물에 소정량의 CuO를 첨가하여 습식 분쇄한 후에 성형하는 제 4단계와; 상기 성형된 성형체를 소결하고 이 소결체의 양면을 연마 가공하는 제 5단계와; 상기 연마된 소결체의 양면에 전극을 형성하는 제 6단계와; 상기 전극이 형성된 소결체를 분극 처리하는 제 7단계를 포함하여 이루어진 압전 세라믹 제조방법을 제공한다. 압전 세라믹, 압전 상수, 저온 소성
개발상태	기술개발완료
기술의 우수성
응용분야	정밀광학기기, 반도체 장비, 기체유량제어 펌프, 밸브 등
시장규모 및 동향
희망거래유형	기술매매,라이센스,
사업화적용실적
도입시고려사항

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