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Tl-1223상의 고온초전도 막이 은(Ag)의 (113)면 기판 상면에 에피택시얼 성장(epitaxial growth) 됨을 특징으로 하는 은 기판 위에 Tl-1223상 고온초전도 막이 코팅된 고온초전도 코팅도체
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제1항에 있어서, 상기 Tl-1223상의 고온초전도 막 상면에는 은(Ag), 동(Cu)과 같은 전도성 금속막이 형성됨을 특징으로 하는 은 기판 위에 Tl-1223상 고온초전도 막이 코팅된 고온초전도 코팅도체
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제1항에 있어서, 상기 Tl-1223상의 고온초전도 막 상면에는 Tl-1223상의 고온초전도 막이 적어도 한 층 이상 더 형성됨을 특징으로 하는 은 기판 위에 Tl-1223상 고온초전도 막이 코팅된 고온초전도 코팅도체
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제2항에 있어서, 상기 전도성 금속막 상면에는 Tl-1223상의 고온초전도 막이 형성됨을 특징으로 하는 은 기판 위에 Tl-1223상 고온초전도 막이 코팅된 고온초전도 코팅도체
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제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 코팅도체는 전자소자의 하면 또는 상면에 적층되어 전자소자로 사용됨을 특징으로 하는 은 기판 위에 Tl-1223상 고온초전도 막이 코팅된 고온초전도 코팅도체
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제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 Tl-1223상의 고온초전도 막은, 플스더 레이즈(pulsed laser) 증착법, 스퍼터링(sputtering) 증착법, 이빔 코이베프레이션(e-beam coevaporation)법, MOCVD(metallo organic chemical vapor deposition)법, 말릭아시드루트 메탈 오가닉(malic acid-route metal organic)증착법, 말릭아시드루트 스크린 프린팅(malic acid-route screen printing)법, 전기증착(electro-deposition)법, 스프래이 파이롤리시스(spray pyrolysis) 증착법 중 하나 이상의 방법을 사용하여 형성됨을 특징으로 하는 은 기판 위에 Tl-1223상 고온초전도 막이 코팅된 고온초전도 코팅도체
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