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고주파 유도가열에 의한 박막 성장을 위한 반응실로서의 석영관과, 그 석영관의 외주면에 설치되며, 고주파 유도가열을 위한 고주파 코일과, 상기 석영관의 내부에 설치되며, 그 내부로 화학기상증착을 위한 원료가스와 희석가스가 흐르는 통로를 제공하는 한편 박막 성장을 위한 기판을 지지 및 고정하고, 상기 고주파 코일에 의해 유도가열되는 발열체와, 상기 석영관의 내주면과 발열체 사이에 설치되며, 발열체로부터 발생된 열을 외부와 차단하는 단열재를 구비하는 화학기상증착 장치에 있어서,상기 발열체의 내부 통로의 상면과 하면에는 탄화규소 에피탁시 박막 성장을 위한 기판이 각각 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서,상기 발열체(330) 내부 통로(330h)의 하면(330b)은 그 입구쪽의 수평면에 대한 경사각(α)은 1˚∼30˚범위의 값을 갖음을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서,상기 발열체(330) 내부 통로(330h)의 상면(330a)은 그 입구쪽의 수평면에 대한 경사각(β)은 1˚∼30˚범위의 값을 갖음을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 발열체(330) 내부 통로(330h)의 하면(330b)과 상면(330a)은 그 입구쪽의 수평면에 대한 각각의 경사각(α,β)은 1˚∼30˚범위의 값을 갖음을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 발열체(330) 내부 통로(330h)의 상면(330a)은 그 출구쪽의 수평면에 대한 경사각(δ)은 1˚∼30˚범위의 값을 갖음을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서,상기 원료가스와 희석가스가 혼합된 혼합가스가 상기 발열체(330)의 내부 통로(330h) 및 석영관(310)의 내벽과 발열체(330)의 외벽 사이의 공간으로도 흐를 수 있도록 상기 단열재가 상기 석영관의 내면벽과 접촉되지 않도록 구성된 것을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서,상기 원료가스로는 SiH4, Si2H6 중의 어느 하나와 CH4, C2H6, C3H8 중의 어느 하나가 사용되는 것을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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제1항에 있어서,상기 희석가스로는 수소 또는 헬륨 중의 어느 하나가 사용되는 것을 특징으로 하는 이중 기판을 갖는 화학기상증착 장치
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