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방전 공간을 포함하는 중공을 구비하고, 일단에 상기 중공으로 가스를 유입하기 위한 제1 개구부와 타단에 상기 중공으로부터 가스를 유출하기 위한 제2 개구부를 갖는 튜브; 상기 튜브에 길이 방향으로 삽입되는 필라멘트; 및 상기 금속 튜브내의 상기 필라멘트 주위에 장착되며, 상기 필라멘트의 가열에 의해 2차 전자를 발생하며, 소정 간격으로 이격되는 최소한 둘 이상의 전자 방사 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건
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제1항에 있어서, 상기 필라멘트는 텅스텐 필라멘트인 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건
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제1항에 있어서, 상기 전자 방사 부재는 LaB6인 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건
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제1항에 있어서, 상기 최소한 둘 이상의 전자 방사 부재는 상기 중공 내의 방전 공간을 최소한 둘 이상의 방전 영역으로 분할하는 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건
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제1항에 있어서, 상기 최소한 둘 이상의 전자 방사 부재는 디스크형 부재인 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건
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기밀 유지 가능하며, 내부에 애노드를 구비하는 증착 챔버; 상기 증착 챔버에 장착되며, 방전 공간을 포함하는 중공을 구비하고 일단에 상기 중공으로 가스를 유입하기 위한 제1 개구부와 타단에 상기 중공으로부터 방전 가스를 유출하기 위한 제2 개구부를 갖는 튜브와, 상기 튜브에 길이 방향으로 삽입되는 필라멘트 및 상기 금속 튜브내의 상기 필라멘트 주위에 장착되며, 상기 필라멘트의 가열에 의해 2차 전자를 발생하며, 소정 간격으로 이격되는 최소한 둘 이상의 전자 방사 부재를 포함하는 중공 캐소드 방전건; 상기 중공 캐소드 방전건에서 발생한 방전 가스를 상기 증착 챔버내의 애노드로 유도하기 위한 제어 시스템; 및 상기 중공 캐소드 방전건과 상기 애노드에 바이어스 전압을 인가하기 위한 전원 회로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치
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