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제 1레이저 펄스를 발생시키는 제 1레이저 펄스 발생수단과, 플라즈마를 포함하여 상기 제 1레이저 펄스의 입사에 의해 상대론적 플라즈마 파(relativistic plasma wave)가 발생되는 가스젯 챔버와, 파장을 변환시키고자 하는 대상펄스로서, 상기 제 1레이저 펄스와 시간지연을 갖고 상기 플라즈마 밀도가 감소하는 지점에서 상기 상대론적 플라즈마 파의 진행방향으로 입사되는 제 2레이저 펄스를 발생시키는 제 2레이저 펄스 발생수단과, 편광을 이용하여 제 1레이저 펄스와 제 2레이저 펄스를 선택적으로 투과하며, 상기 가스젯 챔버를 투과한 상기 제 1레이저 펄스와 상기 제 2레이저 펄스가 상기 가스젯 챔버에 적어도 1회 이상 반복하여 입사되도록 하여, 제 2레이저 펄스의 파장이 설정된 파장 길이에 도달하면 인출하는 링구조 광학수단과, 상기 가스젯 챔버를 투과한 제 2레이저 펄스의 파장을 검출하는 레이저 펄스 파장 검출부와, 상기 레이저 펄스 파장 검출부에서 제 2레이저 펄스의 파장이 설정된 파장의 길이에 도달한 것으로 검출되면, 상기 링구조 광학수단에서 제 2레이저 펄스를 인출하도록 제어하는 제어수단을 포함하여 구성되는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 레이저 펄스는 테라와트의 첨두 파워를 갖고, 상기 제 2 레이저 펄스의 군 속도는 상기 플라즈마 파의 위상속도와 같고 그 길이는 상기 플라즈마 파의 파장의 반 파장보다 작은 것을 특징으로 하는 링구조 레이저 변환장치
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제 1항에 있어서, 상기 가스젯 쳄버의 상기 플라즈마의 밀도를 조절하는 수단을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 레이저 펄스와 상기 제 2 레이저 펄스는 TM(Trnasverse Magnetic)편광으로 진행되어 상기 가스젯 챔버에 입사되는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 1항에 있어서, 상기 시간지연은 상기 플라즈마 파와 상기 제 2레이저 펄스의 위상차로서 상기 위상차는 상기 플라즈마 파의 파장의 배이며 n은 자연수이고, 상기 플라즈마 파의 파장은 의 길이를 가지며 상기 c는 빛의 속도이고 상기 wp 는 이고, 상기 n은 플라즈마의 밀도이고 상기 e는 전자전하량이고 상기 m은 전자질량이고 상기 는 진공에서의 유전율인 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 1항에 있어서, 상기 링구조 광학수단은 상기 가스젯 챔버를 투과한 상기 제 1레이저 펄스와 상기 제 2레이저 펄스의 편광을 90도 회전시키는 제 1포켈셀, 상기 제 1포켈셀을 투과한 상기 제 1레이저 펄스와 제 2레이저 펄스를 반사하는 제 1빛살가르개, 제 2빛살가르개, 제 1거울 및 제 2거울을 포함하여 구성되며, 상기 반사는 제 2빛살가르개, 제 1거울, 제 2거울, 제 1빛살가르개를 순차적으로 경유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 6항에서, 상기 제 1빛살가르개와 상기 제 2빛살가르개는 상기 제 1레이저 펄스와 상기 제 2 레이저 펄스가 TM(Transverse Magnetic)편광으로 진행되는 경우 이들을 투과시키는 광학적 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 6항에 있어서, 상기 제 1레이저 펄스와 상기 제 2레이저 펄스가 제 1 빛살가르개에 입사되는 입사각과 상기 가스젯 챔버를 투과한 제 1레이저 펄스와 제 2레이저 펄스가 제 2 빛살가르개에 입사되는 입사각은 브루스터각(Brewster angle)인 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 6항에 있어서, 상기 링구조 광학수단은 상기 제 1 빛살가르개와 상기 가스젯 챔버 사이에 위치하며, 상기 제 1빛살가르개에서 반사된 상기 제 1 레이저 펄스와 상기 제 2 레이저 펄스의 편광을 90도 회전시키는 제 2포켈셀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 9항에 있어서, 상기 링구조 광학수단은 설정된 파장에 도달한 상기 제 2 레이저 펄스를 인출하기 위하여, 상기 제 1포켈셀과 상기 제 2빛살가르개 사이에 위치하며, 상기 제 1포켈셀을 투과한 제 1 레이저 펄스와 제 2 레이저 펄스의 편광을 90도 회전시키는 제 3포켈셀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 10항에 있어서, 상기 레이저 펄스 파장 검출부는, 상기 제 1거울의 후면과 제 2거울의 후면 및 상기 제 2빛살가르개의 후면 중에 어느 한 곳에 위치하고, 상기 제어수단은, 상기 제 2레이저 펄스를 상기 링구조 광학수단으로 입사시키기 위해 상기 제 1포켈셀을 동작시키고, 상기 제 2레이저 펄스가 상기 링구조 광학수단을 1회 경유한 경우 제 2포켈셀을 동작시키며, 상기 제 2레이저 펄스의 파장이 설정된 파장의 길이에 도달한 것이 상기 파장 검출부에 의하여 검출되면 제 3포켈셀을 동작시켜 제 2레이저 펄스를 인출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 6항에서, 상기 링 구조 광학수단은 상기 제 1레이저 펄스와 상기 제 2레이저 펄스를 상기 가스젯 챔버의 플라즈마에 집속시키기 위해 상기 제 1거울과 제 2거울의 거울 곡면반경과 위치를 조절하기 위한 수단을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 링구조의 레이저 파장 변환장치
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제 1레이저 펄스를 플라즈마를 포함한 가스젯 챔버에 입사하여 상대론적 플라즈마 파를 생성하는 제 1단계와, 상기 제 1레이저 펄스와 시간지연을 갖는 제 2레이저 펄스를 상기 가스젯 챔버의 플라즈마 밀도가 감소하는 지점에서 상기 상대론적 플라즈마 파의 진행방향으로 입사하는 제 2단계와, 상기 가스젯 챔버를 투과한 제 1레이저 펄스와 제 2레이저 펄스가 링구조 광학수단을 통하여 상기 가스젯 챔버에 적어도 1회 이상 반복하여 입사되도록 하는 제 3단계와, 상기 가스젯 챔버를 투과한 제 2레이저 펄스의 파장을 검출하는 제 4단계와, 상기 검출된 제 2레이저 펄스의 파장이 기 설정된 파장길이에 도달하면 상기 제 2레이저 펄스를 인출하는 제 5단계를 포함하여 이루어진 레이저 파장 변환방법
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제 1레이저 펄스를 플라즈마를 포함한 가스젯 챔버에 입사하여 상대론적 플라즈마 파를 생성하는 제 1단계와, 상기 제 1레이저 펄스와 시간지연을 갖는 제 2레이저 펄스를 상기 가스젯 챔버의 플라즈마 밀도가 감소하는 지점에서 상기 상대론적 플라즈마 파의 진행방향으로 입사하는 제 2단계와, 상기 가스젯 챔버를 투과한 제 1레이저 펄스와 제 2레이저 펄스가 링구조 광학수단을 통하여 상기 가스젯 챔버에 적어도 1회 이상 반복하여 입사되도록 하는 제 3단계와, 상기 가스젯 챔버를 투과한 제 2레이저 펄스의 파장을 검출하는 제 4단계와, 상기 검출된 제 2레이저 펄스의 파장이 기 설정된 파장길이에 도달하면 상기 제 2레이저 펄스를 인출하는 제 5단계를 포함하여 이루어진 레이저 파장 변환방법
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