요약 |
본 발명은 펄스 반복률 변조를 이용한 빔 조사량 조절 장치 및 조절 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 교류 전자석을 이용하여 대상 시료에 이온 또는 전자 등의 하전입자 빔을 조사하는데 있어서, 단위 시간당 발생하는 펄스 빔의 갯수를 교류 전자석의 정현파 형태의 전류 주기에 따라 변조하여 조사함으로써 대상 시료에 조사되는 빔이 모든 위치에서 균일하게 조사되도록 구성한 펄스 반복률 변조를 이용한 빔 조사량 조절 장치 및 방법에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명은, 하전입자의 펄스 빔을 발생시키는 빔 발생부, 수평 방향으로 서로 대향하는 한 쌍의 자극으로 이루어져 정현파 전류로 여기되어 교류 이극 자기장을 형성하는 교류 전자석, 상기 교류 전자석에 전원을 공급해주는 전원부 및 상기 빔 발생부에서 단위 시간당 발생하는 펄스 빔의 갯수를 상기 교류 전자석의 정현파 전류 주기에 따라 변조하도록 타이밍 신호를 발생하여 상기 빔 발생부에 제공하는 타이밍 신호 발생부를 포함하여 구성된다. 펄스, 빔, 전자, 이온, 조사, 방향, 조절, 전자석, 신호, 변조
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