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전기 도금을 통한 이온원 전극의 복원 방법

  • 기술번호 : KST2014013834
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이온원 전극의 복원 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 스퍼터링으로 인해 침식된 전극의 인출구 주변에 전기 도금을 수행함으로써 침식된 부위를 복원하는 전기 도금을 통한 이온원 전극의 복원 방법에 관한 것이다.본 발명은 침식된 인출구 주변을 제외한 영역의 전극에 도금 방지막을 형성하는 단계, 상기 전극의 인출구 주변에 대해 전기 도금을 수행하는 단계, 상기 전극에 형성된 도금 방지막을 제거하는 단계 및 상기 전기 도금이 수행된 인출구 주변에 대해 원형 복원을 위한 후처리 공정을 수행하는 단계를 포함하여 구성되되, 상기 전기 도금은 주기적으로 역류되는 전류를 이용한 PR(Periodic Reverse Current Plating) 전기 도금 방법으로 수행하는 것을 특징으로 한다.본 발명은 스퍼터링에 의한 침식 이외의 다른 문제가 없는 전극에 대해 상기 침식된 부위만을 전기 도금을 통해 복원하여 재사용함으로써 정밀을 요하는 전극의 재구성 작업이 불필요하며 아울러 전극 교체에 대한 추가 비용 및 표적 비용을 절감할 수 있는 효과를 제공한다.이온원, 전극, 전기 도금, 스퍼터링, 도금 방지막, 인출구
Int. CL C25D 7/00 (2006.01) C23C 14/46 (2006.01)
CPC C23C 14/46(2013.01) C23C 14/46(2013.01) C23C 14/46(2013.01) C23C 14/46(2013.01)
출원번호/일자 1020070018070 (2007.02.22)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자 10-0849462-0000 (2008.07.24)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080731) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.02.22)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조용섭 대한민국 대전 서구
2 이찬영 대한민국 대전 유성구
3 김용환 대한민국 서울 용산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신운철 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로***길 *(삼성동) 우경빌딩*층(가디언국제특허법률사무소)
2 강성균 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0158174-85
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2007-5073714-01
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.06.01 수리 (Accepted) 4-1-2007-5085193-38
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2007-5117973-29
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2007-5117707-02
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0003468-01
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0077905-13
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0253928-90
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.04.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0253927-44
11 등록결정서
Decision to grant
2008.07.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0367468-20
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
인출빔에 의한 스퍼터링으로 인해 인출구 주변이 침식된 이온원장치의 전극을 복원하는 방법에 있어서,상기 침식된 인출구 주변을 제외한 영역의 전극에 도금 방지막을 형성하는 단계;상기 전극의 인출구 주변에 대해 전기 도금을 수행하는 단계;상기 전극에 형성된 도금 방지막을 제거하는 단계; 및상기 전기 도금이 수행된 인출구 주변에 대해 원형 복원을 위한 후처리 공정을 수행하는 단계;를 포함하여 구성되되, 상기 전기 도금은,주기적으로 역류되는 전류를 이용한 PR(Periodic Reverse Current Plating) 전기 도금 방법으로 수행하는 것을 특징으로 하는 전기 도금을 통한 이온원 전극의 복원 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 도금 방지막을 형성하는 재료로는 SiN, SiC, SiOC, 테오스 또는 SiO2 중 어느 하나가 사용되며, 상기 도금 방지막의 두께는 100 내지 500 Å로 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 도금을 통한 이온원 전극의 복원 방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 후처리 공정은,상기 전기 도금이 수행된 인출구 주변에 대해 선반 가공 또는 드릴링 가공을 통해 전극의 본래 형상을 복원하는 것을 특징으로 하는 전기 도금을 통한 이온원 전극의 복원 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.