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고온 플라즈마 발생장치

  • 기술번호 : KST2014014387
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고온 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전극봉들의 전원이 연결된 측이 상호 엇갈린 반대방향을 향하도록 하여 전극봉들 간의 방전현상을 방지할 수 있고, 전극봉과 전극봉고정구조물을 결합함에 있어 상기 전극봉의 전극이 전극봉고정구조물과 이격되게 함으로써 스트리머 발생을 방지할 수 있으며, 전극봉을 구성함에 있어 공기층이 형성되는 것을 배제하고 전극이 공기에 노출되지 않도록 함과 동시에 상기 전극봉이 회전될 수 있도록 하여 전극봉의 내구성을 높일 수 있는 고온 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.플라즈마, 전극, 방전, 내구성, 세라믹, 텅스텐
Int. CL H05H 1/26 (2000.01) H05H 1/34 (2000.01)
CPC H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01)
출원번호/일자 1020050024704 (2005.03.24)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0775911-0000 (2007.11.06)
공개번호/일자 10-2006-0102776 (2006.09.28) 문서열기
공고번호/일자 (20071115) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.03.24)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 차민석 대한민국 대전광역시 유성구
3 이재옥 대한민국 대전광역시 유성구
4 김관태 대한민국 대전광역시 서구
5 신완호 대한민국 충청북도 청주시 상당구
6 김석준 대한민국 대전광역시 서구
7 김홍식 대한민국 대구 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 진용석 대한민국 대전광역시 서구 청사로 ***, 청사오피스텔 ***호 세빈 국제특허법률사무소 (둔산동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2005-0156628-96
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.05.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.06.13 수리 (Accepted) 9-1-2006-0037210-01
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0563582-01
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.11.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0867588-79
6 의견서
Written Opinion		 2006.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2006-0867589-14
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.03.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0154940-06
8 의견서
Written Opinion		 2007.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2007-0360120-69
9 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2007.05.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0360119-12
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0452584-56
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0752746-68
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.10.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0752745-12
13 등록결정서
Decision to grant		 2007.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0596327-72
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
유전체 장벽 방전방식의 원기둥 적층형 고온 플라즈마 반응기에 있어서,플라즈마 반응을 위한 전원을 공급받기 위해 내부의 전극(13)과 외부전원이 연결된 다수의 전극봉들이 동일한 선상에 배치되고, 상기 전극봉들은 각 전극봉들 사이에 통공이 형성될 수 있도록 상호 이격되며, 상기 전극봉들은 전극(13)과 외부전원이 연결된 측이 이웃하는 전극봉과 상호 반대 방향으로 엇갈린 형태로 그 양단이 전극봉고정구조물(90')에 밀착되는 형태로 고정결합되되, 상기 전극봉은 철과 니켈 합금 중 선택되는 어느 하나의 금속을 재질로 하는 중공의 금속튜브(51,61) 외측에 상기 금속튜브(51,61)의 열에 의해 팽창된 두께를 흡수할 수 있도록 열팽창 흡수용 완충제로 이루어진 열팽창흡수층(52,62)이 형성되고 상기 열팽창흡수층(52,62)의 외면은 세라믹 코팅되어 이루어지며, 상기 전극봉들의 금속 전극의 양단은 상기 전극봉고정구조물(90')과의 스트리머 방전을 방지하기 위해 상기 전극봉고정구조물과 이격됨을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
2 2
유전체 장벽 방전방식의 원기둥 적층형 고온 플라즈마 반응기에 있어서,플라즈마 반응을 위한 전원을 공급받기 위해 내부의 전극(13)과 외부전원이 연결된 다수의 전극봉들이 동일한 선상에 배치되고, 상기 전극봉들은 각 전극봉들 사이에 통공이 형성될 수 있도록 상호 이격되며, 상기 전극봉들은 전극(13)과 외부전원이 연결된 측이 이웃하는 전극봉과 상호 반대 방향으로 엇갈린 형태로 그 양단이 전극봉고정구조물(90')에 밀착되는 형태로 고정결합되되, 상기 전극봉은 세라믹튜브(71)의 외주면에 홈(71a)이 형성되고 상기 홈(71a)에는 금속 페이스트(Paste)가 도포되어 전극(73)이 형성되고 상기 전극(73)의 외면은 세라믹 코팅되어 이루어지며,상기 전극봉들의 금속 전극의 양단은 상기 전극봉고정구조물(90')과의 스트리머 방전을 방지하기 위해 상기 전극봉고정구조물과 이격됨을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
3 3
유전체 장벽 방전방식의 원기둥 적층형 고온 플라즈마 반응기에 있어서,플라즈마 반응을 위한 전원을 공급받기 위해 내부의 전극(13)과 외부전원이 연결된 다수의 전극봉들이 동일한 선상에 배치되고, 상기 전극봉들은 각 전극봉들 사이에 통공이 형성될 수 있도록 상호 이격되며, 상기 전극봉들은 전극과 외부전원이 연결된 측이 이웃하는 전극봉과 상호 반대 방향으로 엇갈린 형태로 다수의 홀이 형성된 복수개의 전극봉고정구조물(90)들에 회전가능하게 관통되는 형태로 결합되고, 상기 전극봉들에는 각각 기어(93)가 결합되며, 상기 기어(93)들은 연결수단(94)에 의해 연결되며 상기 전극봉들 중 선택되는 어느 한 전극봉의 일측단에는 상기 전극봉들을 임의 회전시키기 위한 회전수단(95)이 결합되되,상기 전극봉은 철과 니켈 합금 중 선택되는 어느 하나의 금속을 재질로 하는 중공의 금속튜브(51,61) 외측에 상기 금속튜브(51,61)의 열에 의해 팽창된 두께를 흡수할 수 있도록 열팽창 흡수용 완충제로 이루어진 열팽창흡수층(52,62)이 형성되고 상기 열팽창흡수층(52,62)의 외면은 세라믹 코팅되어 이루어진 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
4 4
유전체 장벽 방전방식의 원기둥 적층형 고온 플라즈마 반응기에 있어서,플라즈마 반응을 위한 전원을 공급받기 위해 내부의 전극(13)과 외부전원이 연결된 다수의 전극봉들이 동일한 선상에 배치되고, 상기 전극봉들은 각 전극봉들 사이에 통공이 형성될 수 있도록 상호 이격되며, 상기 전극봉들은 전극과 외부전원이 연결된 측이 이웃하는 전극봉과 상호 반대 방향으로 엇갈린 형태로 다수의 홀이 형성된 복수개의 전극봉고정구조물(90)들에 회전가능하게 관통되는 형태로 결합되고, 상기 전극봉들에는 각각 기어(93)가 결합되며, 상기 기어(93)들은 연결수단(94)에 의해 연결되며 상기 전극봉들 중 선택되는 어느 한 전극봉의 일측단에는 상기 전극봉들을 임의 회전시키기 위한 회전수단(95)이 결합되되,상기 전극봉은 세라믹튜브(71)의 외주면에 홈(71a)이 형성되고 상기 홈(71a)에는 금속 페이스트(Paste)가 도포되어 전극(73)이 형성되고 상기 전극(73)의 외면은 세라믹 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
5 5
유전체 장벽 방전방식의 원기둥 적층형 고온 플라즈마 반응기에 있어서,플라즈마 반응을 위한 전원을 공급받기 위해 내부의 전극(13)과 외부전원이 연결된 다수의 전극봉들이 동일한 선상에 배치되고, 상기 전극봉들은 각 전극봉들 사이에 통공이 형성될 수 있도록 상호 이격되며, 상기 전극봉들은 전극과 외부전원이 연결된 측이 이웃하는 전극봉과 상호 반대 방향으로 엇갈린 형태로 다수의 홀이 형성된 복수개의 전극봉고정구조물(90)들에 회전가능하게 관통되는 형태로 결합되고, 상기 전극봉들에는 각각 기어(93)가 결합되며, 상기 기어(93)들은 연결수단(94)에 의해 연결되며 상기 전극봉들 중 선택되는 어느 한 전극봉의 일측단에는 상기 전극봉들을 임의 회전시키기 위한 회전수단(95)이 결합되되,상기 연결수단(94)은 타이밍 벨트와 체인 중 선택되는 어느 하나로 이루어지며, 상기 회전수단(95)은 손잡이와 전동모터 중 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
6 6
제 5항에 있어서,상기 전극봉은 중공의 세라믹튜브(11) 외주면에 금속 페이스트(Paste)가 도포되어 전극(13)을 형성하고 상기 전극(13)이 세라믹 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
7 7
제 5항에 있어서,상기 전극봉은 중공의 세라믹튜브(21) 내주면에 은 또는 텅스텐 중 선택되는 어느 하나의 금속이 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
8 8
제 5항에 있어서,상기 전극봉은 세라믹 봉(31)의 외주면에 금속 페이스트(Paste)가 도포되어 전극(33)을 형성하고 상기 전극(33)이 세라믹 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
9 9
제 5항에 있어서,상기 전극봉은 철과 니켈 합금 중 선택되는 어느 하나의 금속을 재질로 하는 금속봉(41)의 외주면이 세라믹 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
10 10
제2항 또는 제4항 또는 제6항 또는 제8항 중 선택되는 어느 한 항에 있어서,상기 금속 페이스트(Paste)는 은, 금, 구리, 텅스텐 중 선택되는 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
11 11
제1항 또는 제3항 또는 제7항 또는 제9항 중 선택되는 어느 한 항에 있어서,상기 전극봉은 그 일측 단부에 전극에 의한 스파크를 방지하도록 결합되는 마감부재를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
12 12
제 11항에 있어서,상기 마감부재는 세라믹 재질인 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
13 13
제1항 또는 제 3항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전극봉은 그 일측 단부에 외부전원을 상기 전극에 인가하기 위해 상기 전극과 접하는 형태로 결합되는 전원단자를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고온 플라즈마 발생장치
14 14
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15 15
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