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저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기

  • 기술번호 : KST2014014388
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유해가스 유동의 압력손실을 최소화 하고 유동의 흐름 방향에 영향을 받지 않으며 많은 처리 유량 대비 낮은 플라즈마 전력소모를 필요로 하는 가스처리 시스템에 적용 가능한 저 압력손실 및 저 에너지 밀도를 위한 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기에 관한 것이다.이에 따라 본 발명에 의하여 유전체 장벽 방전방식의 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기에 의한 유동압력 손실을 현저하게 감소시킬 수 있으며, 세라믹 재질과 금속전극이 공기층 없이 완전 밀착 접합되어 세라믹과 금속 전극사이의 방전 현상에 의한 유전체의 파괴나 금속전극의 산화 등 손상요인을 근본적으로 차단하며, 세라믹 전극봉을 일정 운전시간 간격으로 회전 시킬 수 있어 전체적인 반응기의 내구성 향상을 꾀할 수 있다.플라즈마, 세라믹, 전극봉, 압력손실
Int. CL H05H 1/34 (2000.01)
CPC H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01) H01J 37/32348(2013.01)
출원번호/일자 1020050024705 (2005.03.24)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0782876-0000 (2007.11.30)
공개번호/일자 10-2006-0102777 (2006.09.28) 문서열기
공고번호/일자 (20071206) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.03.24)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 차민석 대한민국 대전광역시 유성구
3 이재옥 대한민국 대전광역시 유성구
4 김관태 대한민국 대전광역시 서구
5 신완호 대한민국 충청북도 청주시 상당구
6 김석준 대한민국 대전광역시 서구
7 김홍식 대한민국 대구 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 진용석 대한민국 대전광역시 서구 청사로 ***, 청사오피스텔 ***호 세빈 국제특허법률사무소 (둔산동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엠씨아이 경기 수원시 영통구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2005-0156632-79
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.05.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.06.13 수리 (Accepted) 9-1-2006-0037211-46
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0563584-92
5 의견서
Written Opinion
2006.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2006-0867587-23
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.11.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0867586-88
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0157834-89
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.05.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0360117-21
9 의견서
Written Opinion
2007.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2007-0360118-77
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.09.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0500987-13
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.11.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0811221-28
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2007-0811222-74
13 등록결정서
Decision to grant
2007.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0640166-95
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
동일한 중심상에서 이격되게 설치되어 다수의 층을 형성하며 통공을 가지는 세라믹 전극봉(10)과;상기 세라믹 전극봉(10)의 양단에 위치하여 상기 세라믹 전극봉(10)을 고정하는 전극봉 고정 구조물(15)과;상기 세라믹 전극봉(10)에 전원을 인가하기 위해 전극리드;를 포함하여 구성하되,상기 세라믹 전극봉(10)은 세라믹 튜브(11) 내주면에 금속전극(12)을 도포하고, 도포된 금속전극(12)의 내주면에 금속전극(12)의 부식, 산화를 방지하도록 글래스층(13)을 코팅 형성하며, 전원을 인가하기 위해 세라믹 전극봉(10) 일단의 통공에 전극캡(14)이 압입하여 내삽하되, 상기 전극캡(14)이 이웃하는 세라믹 전극봉(10)과 아아크 발생을 방지하기 위해 서로 반대 방향으로 엇갈려 압입되며, 상기 전극캡(14)이 압입되지 않은 타단에는 세라믹캡(14a)을 압입하여 내삽하고,상기 전극리드는 전원을 인가하기 위해 상기 금속전극(12)에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
2 2
동일한 중심상에서 이격되게 설치되어 다수의 층을 형성하는 세라믹 전극봉(10)과;상기 세라믹 전극봉(10)의 양단에 위치하여 상기 세라믹 전극봉(10)을 고정하는 전극봉 고정 구조물(15)과;상기 세라믹 전극봉(10)에 전원을 인가하기 위해 전극리드;를 포함하여 구성하되,상기 세라믹 전극봉(10)은 세라믹 튜브(11) 외주면에 홈이 형성되고, 상기 홈에 금속 페이스트가 인쇄되며, 상기 인쇄된 금속 페이스트 외측에 금속 페이스트가 노출되지 않도록 홈보다 넓게 글래스 페이스트를 인쇄하여 형성되며, 상기 전극리드는 전원을 인가하기 위해 상기 금속 페이스트에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
3 3
동일한 중심상에서 이격되게 설치되어 다수의 층을 형성하는 세라믹 전극봉(10)과;상기 세라믹 전극봉(10)의 양단에 위치하여 상기 세라믹 전극봉(10)을 고정하는 전극봉 고정 구조물(15)과;상기 세라믹 전극봉(10)에 전원을 인가하기 위해 전극리드;를 포함하여 구성하되,상기 세라믹 전극봉(10)은 세라믹 봉(21) 또는 세라믹 튜브(11) 외주면에 금속 페이스트를 인쇄하고, 상기 인쇄된 금속 페이스트 외주면에 그린 쉬트(22)가 인쇄되어 형성되며, 상기 전극리드는 전원을 인가하기 위해 상기 금속 페이스트와 전기적으로 연결되고,상기 전극봉 고정구조물(15)은 세라믹 전극봉(10) 양단에 회전 지지하도록 부착되는 베어링을 포함하여 구성되며, 상기 세라믹 전극봉(10)의 일단에는 기어(17)가 부착되며, 상기 기어(17)는 타이밍 벨트(16) 또는 체인으로 연결되며, 다수개의 세라믹 전극봉(10) 중 선택되는 어느 하나의 일단에 상기 다수개의 세라믹 전극봉(10)을 회전하도록 조절수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
4 4
제 2항 또는 제 3항에 있어서,상기 전극리드는 이웃하는 세라믹 전극봉(10)과 아아크 발생을 방지하기 위해 서로 반대 방향으로 엇갈려 구비되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
5 5
제 1항 또는 제2항에 있어서,상기 전극봉 고정 구조물(15)은 스트리머 방전에 접촉되지 않도록 세라믹 전극봉(10) 내의 금속전극(12)의 경계보다 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
6 6
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 전극봉 고정구조물(15)은 세라믹 전극봉(10) 양단에 회전 지지하도록 부착되는 베어링을 포함하여 구성되며, 상기 세라믹 전극봉(10)의 일단에는 기어(17)가 부착되며, 상기 기어(17)는 타이밍 벨트(16) 또는 체인으로 연결되며, 다수개의 세라믹 전극봉(10) 중 선택되는 어느 하나의 일단에 상기 세라믹 전극봉(10)들을 회전하도록 조절수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
7 7
제 3항에 있어서,상기 조절수단은 마이크로프로세서와 연결되어 회전제어가 가능한 전동모터(19)인 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
8 8
제 6항에 있어서,상기 조절수단은 마이크로프로세서와 연결되어 회전제어가 가능한 전동모터(19)인 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
9 9
제 3항에 있어서,상기 세라믹 전극봉(10) 사이에 벨트 또는 체인의 회전장력을 부여하기 위해 가이드 롤러(18)가 설치된 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
10 10
제 6항에 있어서,상기 세라믹 전극봉(10) 사이에 벨트 또는 체인의 회전장력을 부여하기 위해 가이드 롤러(18)가 설치된 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.