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광학 소자의 광회로 형성방법

  • 기술번호 : KST2014022151
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 임프린트를 통한 고분자 광학 소자 제작에 있어서의 광회로 형성 방법에 관한 것으로, 임프린트 공정에 의해 광회로 패턴이 형성된 하부층에 광회로용 레진을 회전도포시켜 상기 광회로 패턴에 광회로용 레진을 충진시키는 레진충진단계와; 상기 광회로용 레진이 충진된 하부층 상부에 광회로용 레진의 잔류층을 제거하기 위한 회전판을 접촉시키는 잔류층제어단계와; 상기 잔류층 제어 후 상기 회전판을 제거하고, 상기 광회로용 레진이 충진된 하부층 상부에 상부층을 적층시키는 상부층적층단계와; 상기 상부층 상부에 회전롤러를 접촉시켜, 광회로의 표면조도를 균일화시키기 위해 광회로용 레진의 강제 유동을 유발시키는 유동유발단계와; 상기 회전롤러를 제거하고, 광회로용 레진을 자외선경화 또는 열경화시키는 경화단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 광회로 형성방법을 기술적 요지로 한다. 이에 따라 회전판 및 회전롤러에 의해 광회로용 레진의 유동을 용이하게 유발시켜 잔류층 제어가 용이하고 기포의 발생을 최소화하여 광회로의 치수 정밀도가 우수하여 성능이 뛰어난 광학 소자를 제작할 수 있는 이점이 있다. 고분자 광학 소자 광회로 회전판 회전롤러 유동 잔류층
Int. CL G02B 6/13 (2006.01)
CPC G02B 6/138(2013.01) G02B 6/138(2013.01) G02B 6/138(2013.01) G02B 6/138(2013.01) G02B 6/138(2013.01)
출원번호/일자 1020080048794 (2008.05.26)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0936929-0000 (2010.01.07)
공개번호/일자 10-2009-0122809 (2009.12.01) 문서열기
공고번호/일자 (20100113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.26)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조상욱 대한민국 경상남도 함양군
2 김창석 대한민국 부산광역시 남구
3 정명영 대한민국 부산광역시 금정구
4 오승훈 대한민국 부산광역시 남구
5 류진화 대한민국 울산광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0374388-94
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.05.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-0386131-04
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2009-0052253-64
5 등록결정서
Decision to grant		 2009.12.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0512560-26
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
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번호 청구항
1 1
임프린트 공정에 의해 광회로 패턴이 형성된 하부층(11)에 광회로용 레진(12)을 회전도포시켜 상기 광회로 패턴에 광회로용 레진(12)을 충진시키는 레진충진단계와; 상기 광회로용 레진(12)이 충진된 하부층(11) 상부에 광회로용 레진(12)의 잔류층을 제거하기 위한 회전판(40)을 접촉시키는 잔류층제어단계와; 상기 잔류층 제어 후 상기 회전판(40)을 제거하고, 상기 광회로용 레진(12)이 충진된 하부층(11) 상부에 상부층(13)을 적층시키는 상부층적층단계와; 상기 상부층(13) 상부에 회전롤러(50)를 접촉시켜, 광회로의 표면조도를 균일화시키기 위해 광회로용 레진(12)의 강제 유동을 유발시키는 유동유발단계와; 상기 회전롤러(50)를 제거하고, 광회로용 레진(12)을 자외선경화 또는 열경화시키는 경화단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 광회로 형성방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 레진충진단계에서는, 상기 광회로용 레진(12)의 정밀 충진을 위해 상기 광회로 패턴이 형성된 하부층(11)에 초음파를 적용시키는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 광회로 형성방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 잔류층제어단계에서는, 상기 회전판(40)의 회전과 동시에 광회로용 레진(12)의 유동을 유발시키기 위해 상기 광회로용 레진(12)이 충진된 하부층(11)을 가열시키는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 광회로 형성방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 경화단계 이후에, 광회로의 굴절률 조절을 위한 후열처리단계가 더 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 광회로 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.