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자가 정렬 전극을 이용한 마이크로미러 제작 방법에 있어서,(1) 제1 웨이퍼에 마이크로미러를 형성하는 마이크로미러 형성 단계;(2) 제2 웨이퍼에 바닥 전극을 형성하는 바닥 전극 형성 단계;(3) 상기 제1 웨이퍼와 상기 제2 웨이퍼를 접합하는 접합 단계; 및(4) 단일 마스크로 패터닝 하여 미러 판 및 바닥 전극을 동시에 식각하는 동시 식각 단계를 포함하며,상기 바닥 전극으로서, 단결정 실리콘, 비정질 실리콘, 다결정 실리콘 중 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 웨이퍼로서 SOI(Silicon On Insulator) 기판을, 상기 제2 웨이퍼로서 유리 기판을 이용하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로미러 형성 단계는, 더미 유리 기판을 양극 접합하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로미러 형성 단계는, 상기 제1 웨이퍼의 한 면은 화학-기계적 연마(Chemical-Mechanical Polishing; CMP) 공정을 통해 미러 두께만큼 얇게 하며, 상기 제1 웨이퍼의 다른 면은 미러 판과 바닥 전극 사이의 설계 간격에 맞게 가공한 후 이방성 식각 공정을 통해 미러의 구동 공간을 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 접합 단계에서, 양극 접합(anodic bonding) 방식으로 접합하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 동시 식각 단계에서, 마스크 재료로 알루미늄을 사용하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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제6항에 있어서,상기 바닥 전극 형성 단계에서, 상기 바닥 전극은 알루미늄을 마스크로 이방성 식각이 가능한 재료를 이용하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 제작 방법
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