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하기 반응식 1에서 나타난 바와 같이, 유기 게르마늄 화합물 나노콜로이드 용액을 준비하는 단계(단계 1); 및과테크네튬산 나트륨(Na99mTcO4) 및 염화주석을 적당한 용매에 녹인 용액을 준비하고, 이를 상기 유기 게르마늄 화합물 용액에 적가하여 반응시키는 단계(단계 2)를 포함하는, 하기 화학식 1로 표시되는 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 나노콜로이드의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 L로 표시되는 유기 게르마늄 화합물은 비스-카복시에틸게르마늄 세스퀴옥사이드, 스피로게르마늄 및 유산-구연산-게르마늄산 염 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 화합물 나노콜로이드의 제조방법
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제1항에 있어서 상기 유기 게르마늄 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 비스-카복시에틸게르마늄 세스퀴옥사이드인 것을 특징으로 하는 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 화합물 나노콜로이드의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 유기 게르마늄 나노콜로이드 용액의 pH는 3
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 용매는 산성 용매인 것을 특징으로 하는 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 나노콜로이드의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 산성 용매는 염산, 질산 및 황산 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 나노콜로이드의 제조방법
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하기 화학식 3으로 표시되는 99mTc-비스-카복시에틸게르마늄 세스퀴옥사이드 나노콜로이드
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제1항의 화학식 1로 표시되는 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 화합물 나노콜로이드를 포함하는 비장 영상화 조영제
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제8항에 있어서, 상기 테크네튬-99m이 표지된 유기 게르마늄 화합물 나노콜로이드는 제7항의 화학식 3으로 표시되는 99mTc-비스-카복시에틸게르마늄 세스퀴옥사이드 나노콜로이드인 것을 특징으로 하는 비장 영상화 조영제
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