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나노입자 어셈블리 기반의 스위칭 소자 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014022332
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노입자를 이용하여 제조되는 스위칭 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 보다 편리하고 경제적인 방법으로 1 mA 미만의 범위의 전류 값 및 상온(25°C) ± 250°C에서 가역적인 스위칭 효과를 나타내는 나노입자를 이용하여 스위칭 소자(예, 멤리스터(memristor))를 대량 생산할 수 있다. 나노입자 어셈블리에 기초한 멤리스터의 높은 가능성에 대한 예측은 크기, 조성, 차원, 표면적 및 화학포텐셜과 같은 이들의 나노스케일 특성을 조절함에 따른 나노입자의 전기적 효과 조절의 다능성에 의해 지지된다.스위칭 소자(switching device), 멤리스터(memristor), 나노입자, 어셈블리 (assembly)
Int. CL H01H 1/021 (2006.01) B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) H01L 27/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020090116250 (2009.11.27)
출원인 연세대학교 산학협력단, 이화여자대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1210548-0000 (2012.12.04)
공개번호/일자 10-2010-0061405 (2010.06.07) 문서열기
공고번호/일자 (20121210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020080118696   |   2008.11.27
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.11.27)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
2 이화여자대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 천진우 대한민국 서울특별시 양천구
2 김태희 대한민국 서울특별시 성북구
3 장정탁 대한민국 서울특별시 마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양부현 대한민국 서울특별시 송파구 오금로 **, 태원빌딩 **층, 특허팀(주식회사씨젠)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
2 이화여자대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2009-0733851-33
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0042079-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.07.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0402617-97
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-0730151-25
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-0821920-31
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.10.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0821901-74
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0192632-91
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.05.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0433436-33
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2012-0433432-51
12 등록결정서
Decision to grant
2012.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0658827-94
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
MxFeyOz (M = Zn, Mn, Fe, Co 또는 Ni를 포함하는 전이 금속으로부터 선택되는 1종 이상의 원소; 0≤x≤8; 0003c#y≤8; 0003c#z≤8), ZnwMxFeyOz (M = Mn, Fe, Co 또는 Ni를 포함하는 전이 금속으로부터 선택되는 1종 이상의 원소; 0003c#w≤8; 0003c#x≤8; 0003c#y≤8; 0003c#z≤8), 또는 이들의 다성분 혼성체인 복수의 나노입자를 포함하는 나노입자 어셈블리를 포함하며, 상기 나노입자는 초음파 처리(sonication), 세척 또는 초음파 처리 및 세척을 통해 표면처리된 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는 전류, 전압 또는 자기장에 의한 유도 스위칭 효과를 나타내는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는 상온 (25℃) ± 250℃의 작동 온도에서 가역적인 스위칭 효과를 나타내는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는 1 mA 미만의 범위의 전류 값에서 가역적인 스위칭 효과를 나타내는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
5 5
제 1 항에 있어서,상기 스위칭 소자는 ROFF/RON [ROFF는 오프 (OFF) 상태의 저항이고, RON은 온 (ON) 상태의 저항임]이 1 초과인 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
6 6
제 1 항에 있어서,상기 나노 입자 어셈블리는 나노 입자간의 간격이 10 nm 이하인 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
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제 1 항에 있어서, 상기 나노입자는 (ⅰ) 구형, 코어-쉘 및 다중-코어 쉘 구조로 이루어진 군으로부터 선택되는 0차원 구조; (ⅱ) 막대, 바코드, 코어-쉘 동축 막대 및 다중-코어 쉘 동축 막대 구조로 이루어진 군으로부터 선택되는 1차원 구조; (ⅲ) 판상, 레이어 및 다중-성분 판상 구조로 이루어진 군으로부터 선택되는 2차원 구조; 또는 (ⅳ) 가지(branched) 구조, 덴드라이트 구조, 아령 구조 및 다중막대 (multi-pod) 구조로 이루어진 군으로부터 선택되는 3차원 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 입자는 2 내지 500 nm의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
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21 21
제 1 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는 멤리스터 (memristor)인 것을 특징으로 하는 스위칭 소자
22 22
나노입자 어셈블리를 포함하는 스위칭 소자의 제조 방법으로서,(a) MxFeyOz (M = Zn, Mn, Fe, Co 또는 Ni를 포함하는 전이 금속으로부터 선택되는 1종 이상의 원소; 0≤x≤8; 0003c#y≤8; 0003c#z≤8), ZnwMxFeyOz (M = Mn, Fe, Co 또는 Ni를 포함하는 전이 금속으로부터 선택되는 1종 이상의 원소; 0003c#w≤8; 0003c#x≤8; 0003c#y≤8; 0003c#z≤8), 또는 이들의 다성분 혼성체인 나노입자를 합성하는 단계;(b) 상기 나노입자를 초음파 처리(sonication), 세척 또는 초음파 처리 및 세척을 하는 단계;(c) 상기 나노 입자를 이용하여 나노 입자 어셈블리를 형성하는 단계; 및(d) 상기 나노입자 어셈블리에 전류, 전압 또는 자기장을 가할 수 있는 수단을 접속시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
23 23
제 22 항에 있어서, 상기 단계 (a)는 기상(gas phase)에서 또는 수용액, 유기용액, 또는 다용액계 를 포함하는 액상(liquid phase)에서 나노 입자를 합성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
24 24
제 22 항에 있어서, 상기 단계 (a)는 금속 선구 물질을 계면활성제 또는 계면활성제 함유 용매에 첨가하여 혼합 용액을 제조한 후, 상기 혼합 용액을 50 ~ 600 ℃로 가열하여 상기 금속 선구물질을 열분해시켜 금속 나노입자를 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
25 25
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26 26
제 24 항에 있어서, 상기 계면활성제는 유기산, 유기 아민, 알칸 티올, 포스폰산, 트리옥틸 포스핀 옥사이드이거나 트리부틸 포스핀, 알킬 설페이트, 알킬 포스페이트 또는 테트라알킬 암모늄 할라이드인 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
27 27
제 24 항에 있어서, 상기 용매는 에테르계 화합물, 탄화수소류, 유기 산, 유기 아민 또는 알칸 티올인 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
28 28
제 24 항에 있어서,상기 선구물질 또는 계면 활성제의 농도, 용매의 양, 반응 온도, 반응 시간 을 조절하여 나노입자의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
29 29
삭제
30 30
제 22 항에 있어서,상기 단계 (b)는 알칼리 용액의 존재 하에서 실시되는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
31 31
제 30 항에 있어서, 상기 알칼리 용액은 알킬암모늄, 알킬암모늄 하이드록사이드, 알킬암모늄 할라이드, 알킬포스핀, 알킬포스핀 하이드록사이드 및 알킬포스핀 할라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 알칼리 화합물 [여기서, 알킬은 CnH2n+1 (0003c#n≤5)]를 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
32 32
삭제
33 33
제 22 항에 있어서,상기 나노 입자 어셈블리의 형성은 압착, LB (Langmuir Blodgett), LBL (layer by layer), 프린트, 자가 조립 (self-assembly) 또는 용액 증발법 (solution evaporation)에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
34 34
제 33 항에 있어서,상기 나노 입자 어셈블리의 형성은 나노 입자를 100 Pa 이상의 압력 하에서 압착하는 것을 특징으로 하는 스위칭 소자의 제조 방법
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1 WO2010062127 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
2 WO2010062127 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2010062127 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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