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커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법

기술번호 : KST2014022334
담당센터 : 대전기술혁신센터
전화번호 : 042-610-2279

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법에 관한 것으로서, 양극, 음극 및 용융염을 포함하는 전해환원 반응기에서 커패시터용 탄탈(Ta) 또는 니오븀(Nb) 분말의 제조방법에 있어서, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속에서 선택된 적어도 하나의 금속의 할로겐 화합물과, 알칼리 금속 산화물로 이루어진 용융염 중 알칼리 금속 산화물을 음극에서 1차 전해환원하고, 전해환원된 알칼리 금속에 의해 오산화 탄탈(Ta2O5) 또는 오산화 니오븀(Nb2O5)이 부분적으로 환원되어 Ta2O(5-y) 또는 Nb2O(5-y)(여기서 y = 2.5-4.5)로 표시되는 탄탈 또는 니오븀 산화물을 얻는 단계; 및 상기 알칼리 금속 및 알칼리 토금속에서 선택된 적어도 하나의 금속의 할로겐 화합물을 음극에서 1차 전해환원하고, Ta2O(5-y) 또는 Nb2O(5-y)(여기서 y = 2.5-4.5)로 표시되는 탄탈 또는 니오븀 산화물과 2차 환원반응을 진행하여 탄탈 또는 니오븀 분말을 얻는 단계를 포함한다.
Int. CL	C01G 33/00 (2006.01) C01G 35/00 (2006.01)
CPC	C25C 5/04(2013.01) C25C 5/04(2013.01) C25C 5/04(2013.01) C25C 5/04(2013.01)
출원번호/일자	1020050069792 (2005.07.29)
출원인	한국원자력연구원, 한국수력원자력 주식회사
등록번호/일자	10-0684416-0000 (2007.02.12)
공개번호/일자	10-2007-0014831 (2007.02.01) 문서열기
공고번호/일자	(20070216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2005.07.29)
심사청구항수	14

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	한국원자력연구원	대한민국	대전광역시 유성구
2	한국수력원자력 주식회사	대한민국	경상북도 경주시

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	박성빈	대한민국	대전 서구
2	이종현	대한민국	대전 유성구
3	정상문	대한민국	대전 유성구
4	서중석	대한민국	대전 유성구
5	박성원	대한민국	대전 유성구
6	김응호	대한민국	대전 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	서만규	대한민국	서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국원자력연구소	대한민국	대전 유성구
2	한국수력원자력 주식회사	대한민국	서울특별시 강남구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2005.07.29	수리 (Accepted)	1-1-2005-0421324-61
2	공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서 Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)	2005.07.30	수리 (Accepted)	1-1-2005-5095771-81
3	공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서 Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)	2005.07.30	수리 (Accepted)	1-1-2005-5095770-35
4	보정요구서 Request for Amendment	2005.08.04	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2005-0070001-89
5	서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items	2005.08.16	수리 (Accepted)	1-1-2005-0448212-22
6	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2006.05.08	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
7	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2006.06.13	수리 (Accepted)	9-1-2006-0039213-84
8	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2006.09.27	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2006-0563652-09
9	의견서 Written Opinion	2006.11.27	수리 (Accepted)	1-1-2006-0874987-47
10	등록결정서 Decision to grant	2007.01.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0043529-73
11	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2007.05.14	수리 (Accepted)	4-1-2007-5073714-01
12	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2007.06.01	수리 (Accepted)	4-1-2007-5085193-38
13	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2007.07.26	수리 (Accepted)	4-1-2007-5117973-29
14	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2007.07.26	수리 (Accepted)	4-1-2007-5117707-02
15	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2008.09.10	수리 (Accepted)	4-1-2008-5145739-98
16	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.09.27	수리 (Accepted)	4-1-2010-5177354-66
17	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2012.06.22	수리 (Accepted)	4-1-2012-5134067-95
18	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.09.16	수리 (Accepted)	4-1-2014-5109542-64
19	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2016.03.18	수리 (Accepted)	4-1-2016-5034922-43

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 양극, 음극 및 용융염을 포함하는 전해환원 반응기에서 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법에 있어서,알칼리 금속 및 알칼리 토금속에서 선택된 적어도 하나의 금속의 할로겐 화합물과, 알칼리 금속 산화물로 이루어진 용융염 중 알칼리 금속 산화물을 음극에서 1차 전해환원하고, 전해환원된 알칼리 금속에 의해 오산화 탄탈(Ta2O5) 또는 오산화 니오븀(Nb2O5)이 부분적으로 환원되어 Ta2O(5-y) 또는 Nb2O(5-y)(여기서 y = 2
2	2 제 1 항에 있어서, 상기 2차 환원반응 후 얻어진 탄탈 또는 니오븀 분말을 무기산에서 침출, 세정시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
3	3 제 1 항에 있어서, 상기 2차 환원반응 후 얻어진 탄탈 또는 니오븀 분말은 망상구조를 갖는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
4	4 제 1 항에 있어서, 상기 Ta2O5 또는 Nb2O5은 분말 또는 다공질 소결체의 형태로 사용되는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
5	5 제 4 항에 있어서, 상기 Ta2O5 또는 Nb2O5의 다공질 소결체는 Ta2O5 또는 Nb2O5 분말을 성형한 후 소결시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
6	6 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 Ta2O5 또는 Nb2O5 분말은 불순물 금속 함량이 150ppm 미만이고, 탄소함량은 50ppm 미만인 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
7	7 제 4 항에 있어서, 분말 형태의 Ta2O5 또는 Nb2O5을 다공질 음극 바스켓에 장입하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
8	8 제 4 항에 있어서, 음극으로 고전도성 컨덕터 및 Ta2O5 또는 Nb2O5 분말을 충진할 수 있는 10 내지 60%의 기공율을 갖는 비전도성 세라믹 필터를 포함하는 일체형 음극을 사용하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
9	9 제 8 항에 있어서, 상기 고전도성 컨덕터는 서스(SUS), 구리, 티타늄, 탄탈 중에서 선택된 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
10	10 제 8 항에 있어서, 상기 비전도성 세라믹 필터는 마그네시아, 알루미나, 마그네슘알루미네이트, 지르코니아 중에서 선택된 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
11	11 제 4 항에 있어서, 상기 Ta2O5 또는 Nb2O5의 다공질 소결체에 천공이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
12	12 제 1 항에 있어서, 상기 Ta2O5 또는 Nb2O5의 환원온도를 인가전압에 의해 제어하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
13	13 제 1 항에 있어서, 상기 양극으로 백금 또는 열분해 탄소 또는 Fe3O4를 사용하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
14	14 양극, 음극 및 용융염을 포함하는 전해환원 반응기에서 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법에 있어서,상기 용융염은 알칼리 금속 할로겐 화합물과 알칼리 토금속 할로겐 화합물로 이루어지며, 상기 알칼리 토금속 할로겐 화합물을 음극에서 1차 전해환원하고, 상기 전해환원된 알칼리 토금속에 의해 오산화 탄탈(Ta2O5) 또는 오산화 니오븀(Nb2O5)을 간접환원시키며, 전위조절에 의해 국부소결을 유도하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 탄탈 및 니오븀 분말의 제조방법

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-0684416-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20050729 출원 번호 : 1020050069792 공고 연월일 : 20070216 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20070125 청구범위의 항수 : 14 유별 : C01G 33/00 발명의 명칭 : 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국수력원자력 주식회사 서울특별시 강남구...
1	(권리자) 한국원자력연구소 대전 유성구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	837,000 원	2007년 02월 09일	납입
제 4 년분	금 액	348,000 원	2010년 01월 04일	납입
제 5 년분	금 액	348,000 원	2011년 01월 10일	납입
제 6 년분	금 액	348,000 원	2011년 12월 16일	납입
제 7 년분	금 액	632,000 원	2013년 01월 11일	납입
제 8 년분	금 액	632,000 원	2013년 12월 27일	납입
제 9 년분	금 액	632,000 원	2014년 12월 30일	납입
제 10 년분	금 액	1,010,000 원	2016년 01월 29일	납입
제 11 년분	금 액	1,010,000 원	2017년 01월 11일	납입
제 12 년분	금 액	1,010,000 원	2017년 12월 07일	납입
제 13 년분	금 액	1,130,000 원	2019년 01월 04일	납입
제 14 년분	금 액	1,130,000 원	2020년 01월 02일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2005.07.29	수리 (Accepted)	1-1-2005-0421324-61
2	공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서	2005.07.30	수리 (Accepted)	1-1-2005-5095771-81
3	공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서	2005.07.30	수리 (Accepted)	1-1-2005-5095770-35
4	보정요구서	2005.08.04	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2005-0070001-89
5	서지사항보정서	2005.08.16	수리 (Accepted)	1-1-2005-0448212-22
6	선행기술조사의뢰서	2006.05.08	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
7	선행기술조사보고서	2006.06.13	수리 (Accepted)	9-1-2006-0039213-84
8	의견제출통지서	2006.09.27	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2006-0563652-09
9	의견서	2006.11.27	수리 (Accepted)	1-1-2006-0874987-47
10	등록결정서	2007.01.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0043529-73
11	출원인정보변경(경정)신고서	2007.05.14	수리 (Accepted)	4-1-2007-5073714-01
12	출원인정보변경(경정)신고서	2007.06.01	수리 (Accepted)	4-1-2007-5085193-38
13	출원인정보변경(경정)신고서	2007.07.26	수리 (Accepted)	4-1-2007-5117973-29
14	출원인정보변경(경정)신고서	2007.07.26	수리 (Accepted)	4-1-2007-5117707-02
15	출원인정보변경(경정)신고서	2008.09.10	수리 (Accepted)	4-1-2008-5145739-98
16	출원인정보변경(경정)신고서	2010.09.27	수리 (Accepted)	4-1-2010-5177354-66
17	출원인정보변경(경정)신고서	2012.06.22	수리 (Accepted)	4-1-2012-5134067-95
18	출원인정보변경(경정)신고서	2014.09.16	수리 (Accepted)	4-1-2014-5109542-64
19	출원인정보변경(경정)신고서	2016.03.18	수리 (Accepted)	4-1-2016-5034922-43


기술번호	KST2014022334
자료제공기관	NTB
기술공급기관	한국원자력연구원
기술명	커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법
기술개요	본 발명은 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법에 관한 것으로서, 양극, 음극 및 용융염을 포함하는 전해환원 반응기에서 커패시터용 탄탈(Ta) 또는 니오븀(Nb) 분말의 제조방법에 있어서, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속에서 선택된 적어도 하나의 금속의 할로겐 화합물과, 알칼리 금속 산화물로 이루어진 용융염 중 알칼리 금속 산화물을 음극에서 1차 전해환원하고, 전해환원된 알칼리 금속에 의해 오산화 탄탈(Ta2O5) 또는 오산화 니오븀(Nb2O5)이 부분적으로 환원되어 Ta2O(5-y) 또는 Nb2O(5-y)(여기서 y = 2.5-4.5)로 표시되는 탄탈 또는 니오븀 산화물을 얻는 단계; 및 상기 알칼리 금속 및 알칼리 토금속에서 선택된 적어도 하나의 금속의 할로겐 화합물을 음극에서 1차 전해환원하고, Ta2O(5-y) 또는 Nb2O(5-y)(여기서 y = 2.5-4.5)로 표시되는 탄탈 또는 니오븀 산화물과 2차 환원반응을 진행하여 탄탈 또는 니오븀 분말을 얻는 단계를 포함한다.
개발상태	아이디어창안
기술의 우수성
응용분야	사용후 핵연료 차세대 관리 공정 개발
시장규모 및 동향
희망거래유형	기술매매,라이센스,
사업화적용실적
도입시고려사항


과제고유번호	1355052842
세부과제번호	2007-00148
연구과제명	고온용융염전해환원시스템개발
성과구분	등록
부처명	교육과학기술부
연구관리전문기관명	한국과학재단
연구주관기관명	한국원자력연구원
성과제출연도	2007
연구기간	200703~201002
기여율	1
연구개발단계명	개발연구
6T분류명	기타

특허성과

[1020060130089]	리튬계 용융염을 이용한 티탄산 리튬 스피넬 분말의제조방법	새창보기
[1020050069792]	커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법	새창보기
[1020050055051]	ＬｉＣｌ-Ｌｉ₂Ｏ 용융염계에서 산화물 핵연료의전기화학적 금속전환반응에 사용되는 봉형Ｆｅ₃Ｏ₄양극의 제조방법 및 이를 이용한 전기 화학적금속전환 셀	새창보기

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