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나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014022967
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 고집적 반도체 소자에 적합한, 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법이 제공된다. 기판 상에, 제 1 영역, 제 2 영역 및 제 3 영역을 갖는 적어도 하나의 나노와이어를 제공한다. 상기 적어도 하나의 나노와이어의 상기 제 1 영역에 이온 주입을 이용하여 제 1 도전형의 제 1 불순물들을 도핑하여 베이스 영역을 형성한다. 상기 적어도 하나의 나노와이어의 상기 제 2 영역에 이온 주입을 이용하여 상기 제 1 도전형의 반대인 제 2 도전형의 제 2 불순물들을 도핑하여 콜렉터 영역을 형성한다. 그리고, 상기 적어도 하나의 나노와이어의 상기 제 3 영역에 이온 주입을 이용하여 상기 제 2 도전형의 제 3 불순물들을 도핑하여 에미터 영역을 형성한다. 나노와이어, 바이폴라-접합 트랜지스터, 이온 주입
Int. CL H01L 29/66 (2006.01.01) H01L 29/06 (2006.01.01)
CPC H01L 29/66318(2013.01) H01L 29/66318(2013.01)
출원번호/일자 1020080020574 (2008.03.05)
출원인 전북대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0960691-0000 (2010.05.24)
공개번호/일자 10-2009-0095305 (2009.09.09) 문서열기
공고번호/일자 (20100531) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.03.05)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이상권 대한민국 전북 전주시 덕진구
2 김태홍 대한민국 경기 시흥시
3 이승용 대한민국 전북 전주시 완산구
4 형정환 대한민국 전북 전주시 완산구
5 장찬오 대한민국 전북 군산시 서

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2008-0162813-36
2 [전자문서첨부서류]전자문서첨부서류등 물건제출서
[Attachment to Electronic Document] Submission of Object such as Attachment to Electronic Document
2008.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2008-5012022-48
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.12.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0003190-62
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.02.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0065288-62
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.04.13 수리 (Accepted) 1-1-2010-0234437-42
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.04.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0234439-33
8 등록결정서
Decision to grant
2010.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0180672-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2010-5245806-20
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에, 제 1 영역, 제 2 영역 및 제 3 영역을 갖는 적어도 하나의 나노와이어를 제공하는 단계; 상기 적어도 하나의 나노와이어의 상기 제 1 영역에 이온 주입을 이용하여 제 1 도전형의 제 1 불순물들을 도핑하여 베이스 영역을 형성하는 단계; 상기 적어도 하나의 나노와이어의 상기 제 2 영역에 이온 주입을 이용하여 상기 제 1 도전형의 반대인 제 2 도전형의 제 2 불순물들을 도핑하여 콜렉터 영역을 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 나노와이어의 상기 제 3 영역에 이온 주입을 이용하여 상기 제 2 도전형의 제 3 불순물들을 도핑하여 에미터 영역을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 에미터 영역, 상기 베이스 영역 및 상기 콜렉터 영역은 상기 적어도 하나의 나노와이어의 길이 방향을 따라서 순차적으로 접하도록 배열된 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 제 1 도전형 및 상기 제 2 도전형은 n형 및 p형 가운데서 각각 선택된 서로 다른 하나인 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 베이스 영역, 상기 에미터 영역 및 상기 콜렉터 영역을 형성하는 단계들에서, 이온 주입은 5 ~ 20 keV의 에너지 조건으로 수행하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 베이스 영역의 형성을 위한 이온 주입은 상기 제 1 영역을 노출하는 제 1 마스크를 상기 기판 상에 형성한 후 수행하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 콜렉터 영역의 형성을 위한 이온 주입은 상기 제 2 영역을 노출하는 제 2 마스크를 상기 기판 상에 형성한 후 수행하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 에미터 영역의 형성을 위한 이온 주입은 상기 제 3 영역을 노출하는 제 3 마스크를 상기 기판 상에 형성한 후 수행하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 콜렉터 영역 및 상기 에미터 영역은 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 콜렉터 영역 및 상기 에미터 영역의 형성을 이온 주입은 상기 제 2 영역 및 상기 제 3 영역을 노출하는 제 4 마스크를 상기 기판 상에 형성한 후 수행하는 것을 특징으로 하는 나노와이어를 이용한 바이폴라-접합 트랜지스터의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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