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1
기판;
상기 기판 상에 상호 이격되어 형성된 복수의 돌기;
상기 복수의 돌기를 덮도록 형성되며, 발광 영역을 갖는 반도체층;
상기 반도체층의 상면에서 상기 기판을 향하는 방향으로 갈수록 폭이 점차 넓어지는 복수의 언더컷 편향홈을 포함하는 발광소자
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청구항 1에 있어서,
상기 언더컷 편향홈은 상기 돌기가 형성되지 않은 기판 영역의 상측에 대응형성되는 발광소자
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3
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 돌기가 형성되지 않은 기판 영역에 편향홈 유도 패턴이 더 형성되고, 상기 편향홈 유도 패턴 상측에 대응하여 언더컷 편향홈이 형성되는 발광소자
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청구항 3에 있어서,
상기 복수의 돌기 및 복수의 언더컷 편향홈 각각은 주기적 배열을 갖도록 형성되는 발광소자
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5
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 또는 상기 기판 상에 형성된 편향홈 유도 패턴과 접하는 반도체층의 내측 경사각이 30° 내지 70°가 되도록 형성되는 발광소자
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6
기판을 마련하는 단계;
상기 기판 상에 복수의 돌기 및 복수의 편향홈 유도 패턴을 형성하는 단계;
상기 복수의 돌기 및 복수의 편향홈 유도 패턴이 형성된 기판 상에 상기 기판을 향하는 방향으로 갈수록 폭이 점차 좁아지는 편향홈을 갖는 반도체층을 형성하는 단계;
상기 복수의 편향홈의 내측 영역을 습식 식각하여 기판을 향하는 방향으로 갈수록 폭이 점차 넓어지는 언더컷 편향홈을 형성하는 단계를 포함하는 발광소자의 제조 방법
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7
청구항 6에 있어서,
상기 기판 상에 SiOx, SiNx, W 및 Pt 중 어느 하나의 물질로 이루어진 마스크 박막을 형성한 후, 상기 마스크 박막을 패터닝하여 상호 이격된 복수의 돌기 및 편향홈 유도 패턴을 형성하는 발광소자의 제조 방법
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8
청구항 7에 있어서,
상기 복수의 돌기 및 복수의 편향홈 유도 패턴은 주기적 배열을 갖도록 형성하고, 상기 돌기 및 편향홈 유도 패턴은 서로 다른 크기로 형성하는 발광소자의 제조 방법
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청구항 8에 있어서,
상기 돌기는 상기 기판에 수평한 방향의 폭이 5μm 이하가 되도록 형성하고, 상기 편향홈 유도 패턴은 상기 기판에 수평한 방향의 폭이 5μm 이상이 되도록 형성하는 발광소자의 제조 방법
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10
청구항 6에 있어서,
상기 편향홈의 내측 영역을 습식 식각하여 언더컷 편향홈을 형성하는 단계에 있어서, 상기 기판 상에 형성되어 편향홈에 의해 노출된 편향홈 유도 패턴을 함께 제거하는 발광소자의 제조 방법
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11
청구항 6에 있어서,
상기 언더컷 편향홈의 형성 단계는, 수산화칼륨, 황산, 인산 및 알루에치(4H8PO4+4CH8COOH+HNO8+H2O) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 식각 용액을 이용하여 실시하는 발광소자의 제조 방법
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청구항 6에 있어서,
상기 반도체층은 n형층, 활성층 및 p형층을 포함하고, 선택적 MOCVD 법으로 형성하는 발광소자의 제조 방법
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