맞춤기술찾기

이전대상기술

인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법

  • 기술번호 : KST2014023421
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반응소스의 주입시간을 획기적으로 단축할 수 있고 금속전구체 원액이나 희석액 모두 사용할 수 있는 원자층증착기의 박막 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명은 인젝터형 소스주입기를 사용하고 퍼지 공정을 개선함으로써 원자층증착기의 박막 형성 시간을 단축하면서도 막질 향상을 꾀함에 그 기술적 특징이 있다. 원자층증착기(ALD), 인젝터, 소스, 주입, 공정시간, 퍼지
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/00 (2006.01)
CPC H01L 21/28556(2013.01) H01L 21/28556(2013.01) H01L 21/28556(2013.01) H01L 21/28556(2013.01)
출원번호/일자 1020090098515 (2009.10.16)
출원인 호서대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0041606 (2011.04.22) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.16)
심사청구항수 1

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최운섭 대한민국 충청남도 천안시 동남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0633623-17
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2011.03.18 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2011-0198912-28
3 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2011.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0026854-27
4 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2011.05.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0038212-62
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0246620-19
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0515819-83
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2011-0515818-37
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5143226-24
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0705579-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-0045360-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
인젝터형 소스주입기를 사용하여 반응소스 A를 인젝션하는 단계(a); 상기 반응소스 A가 투입되는 A 라인을 퍼지하는 단계(b); 상기 반응소스 A와 반응하여 박막을 형성하는 반응소스 B를 반응 챔버에 투입하는 단계(c); 및 상기 반응소스 A와 상기 반응소스 B의 결합을 돕기 위해 RF 플라즈마를 생성하는 단계(d) 를 포함하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계 이전에 상기 A 라인을 퍼지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 (d) 단계 이후에 반응 챔버 내 미반응물을 모두 제거하는 퍼지 아웃 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 상기 A 라인에 반응소스 인젝션함과 동시에 상기 A 라인에 캐리어 개스를 흘려보내면서 상기 반응 챔버를 개스 퍼지하는 것을 특징으로 하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 (c) 단계는 상기 반응소스 B를 상기 반응 챔버에 투입함과 동시에 상기 반응 챔버를 개스 퍼지하는 것을 특징으로 하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 (d) 단계는 RF 플라즈마를 생성함과 동시에 반응 챔버에 반응소스 B를 투입하는 것을 특징으로 하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 (d) 단계는 RF 플라즈마를 생성함과 동시에 반응 챔버에 산소개스를 투입하는 것을 특징으로 하는 인젝터형 소스주입기를 이용한 원자층증착기의 박막 형성 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계의 공정 시간은 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부,지식경제부,기업체 호서대학교 산학협력단 충남산학협력중심대학육성사업 ALD를 이용한 다성분계 산화물박막트랜지스터 개발